【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种光路转折元件、成像镜头模块与电子装置，特别是一种适用于电子装置的光路转折元件与成像镜头模块。
技术介绍
1、随着科技日新月异，具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且，配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。
2、然而，近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的微型化与高成像品质需求，特别是光学镜头因小型化后其内部常会形成易产生非成像光的配置，造成光学品质不佳，而无法满足目前日渐严格的光学品质市场需求。因此，如何改良光学镜头的内部元件与内部配置来避免产生非成像光，以满足现今对电子装置高规格的需求，已成为目前相关领域的重要议题。
技术实现思路
1、鉴于以上提到的问题，本技术揭露一种光路转折元件、成像镜头模块与电子装置，有助于成像镜头模块微型化的同时，兼顾减少杂散光(非成像光)的效果，借此提升总体的光学品质。
2、本技术的一实施例所揭露的光路转折元件，包含一光学部、一连接部、多个消光结构以及一遮光层。光学部具有一光学表面、一第一反射面以及一第二反射面。光线通过光学表面射入至光路转折元件的内部，且光线通过光学表面于光路转折元件的内部进行一次反射。第一反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行另一次反射。第二反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行再另一次反射。连接部具有多个连接面。连接面连接光学表面、第一反射面以及第二反射面。消光结构至少设置于连接部并与连接部一体成型。消光结构的单体结构自连接部的
3、本技术的另一实施例所揭露的光路转折元件，包含一光学部、一连接部以及一遮光层。光学部具有一光学表面、一第一反射面以及一第二反射面。光线通过光学表面射入至光路转折元件的内部，且光线于光路转折元件的内部进行一次反射。第一反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行另一次反射。第二反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行再另一次反射。连接部具有多个连接面。连接面连接光学表面、第一反射面以及第二反射面。遮光层至少设置于连接部并用于遮挡光线通过。遮光层的成分包含压克力单体与黑色染料。
4、本技术的另一实施例所揭露的光路转折元件，包含一光学部、一连接部、多个消光结构以及一遮光层。光学部具有一光学表面、一第一反射面以及一第二反射面。光线通过光学表面射入至光路转折元件的内部。第一反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行一次反射。第二反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行另一次反射。连接部具有多个连接面以及至少一注料痕。连接面连接光学表面、第一反射面以及第二反射面。所述至少一注料痕位于至少一个连接面上。消光结构至少设置于连接部并与连接部一体成型，且消光结构的至少一部分设置于连接部的所述至少一注料痕的周围。消光结构的单体结构自连接部的表面朝光路转折元件的内部渐缩凹陷，使连接部的表面呈凹凸起伏。遮光层至少设置于连接部的表面并用于遮挡光线通过。
5、本技术的再另一实施例所揭露的光路转折元件，其材料包含塑胶。光路转折元件包含一光学部、一连接部以及一遮光层。光学部具有一光学表面、一第一反射面以及一第二反射面。光线通过光学表面射入至光路转折元件的内部。第一反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行一次反射。第二反射面用于使光线于光路转折元件的内部进行另一次反射。连接部具有多个连接面以及一缩孔结构。连接面连接光学表面、第一反射面以及第二反射面。缩孔结构由至少部分的连接面所形成。缩孔结构使得光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。遮光层至少设置于连接部的部分表面，用于遮挡光线通过。遮光层的成分包含压克力单体与黑色染料。
6、本技术的又另一实施例所揭露的成像镜头模块，包含前述的光路转折元件、一透镜组以及一感光元件。透镜组邻近光路转折元件设置，且光线通过透镜组。感光元件邻近光路转折元件设置，且感光元件用于接收光线。
7、本技术的又再另一实施例所揭露的电子装置，包含前述的成像镜头模块。
8、根据上述实施例所揭露的光路转折元件、成像镜头模块与电子装置，通过光学部的设计，能让光路转折元件将光线进行多次反射，有助于成像镜头模块的微型化设计；并且，通过在连接部上设置遮光层，有助于减少连接部产生的杂散光。因此，成像镜头模块可通过光路转折元件的设置，兼顾微型化并减少内部杂散光，而能提升总体的光学品质。
9、以上关于本
技术实现思路
的说明及以下实施方式的说明用以示范与解释本技术的原理，并且提供本技术的专利申请范围更进一步的解释。
【技术保护点】
1.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线通过所述光学表面从所述光路转折元件射出。
3.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的单体结构的凹陷深度为h，其满足下列条件：
4.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一缩孔结构，且所述缩孔结构使得所述光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。
5.根据权利要求4所述的光路转折元件，其特征在于，所述缩孔结构设置于所述第一反射面与所述第二反射面之间，且所述缩孔结构的表面设置有所述遮光层。
6.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一接合线，所述接合线设置于所述连接面当中的其中二者之间，且位于所述接合线两侧的两所述连接面之间具有一夹角，所述夹角为θ，其满足下列条件：
7.根据权利要求6所述的光路转折元件，其特征在于，在垂直于所述光学表面的方向上，所述光路转折元件的厚度为T，所述接合线与所述光学表面之间的距离为d，其满足下列条件：
8.根据权
9.根据权利要求8所述的光路转折元件，其特征在于，所述至少一注料痕的周围设置有所述消光结构。
10.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光学部相对于位于其周围的所述连接部凹陷。
11.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
12.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，还包含多个消光结构，其中所述消光结构至少设置于所述连接部并与所述连接部一体成型，且所述消光结构的单体结构自所述连接部的表面朝所述光路转折元件的内部渐缩凹陷，使所述连接部的表面呈凹凸起伏。
13.根据权利要求12所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的单体结构的凹陷深度为h，其满足下列条件：
14.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线通过所述光学表面从所述光路转折元件射出。
15.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一缩孔结构，且所述缩孔结构使得所述光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。
16.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一接合线，所述接合线设置于所述连接面当中的其中二者之间，且位于所述接合线两侧的两所述连接面之间具有一夹角，所述夹角为θ，其满足下列条件：
17.根据权利要求16所述的光路转折元件，其特征在于，在垂直于所述光学表面的方向上，所述光路转折元件的厚度为T，所述接合线与所述光学表面之间的距离为d，其满足下列条件：
18.根据权利要求12所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有至少一注料痕，且所述至少一注料痕位于至少一所述连接面上。
19.根据权利要求18所述的光路转折元件，其特征在于，所述至少一注料痕的周围设置有所述消光结构。
20.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
21.根据权利要求20所述的光路转折元件，其特征在于，所述光学表面还使所述光线于所述光路转折元件的内部进行再另一次反射，且所述光线通过所述光学表面从所述光路转折元件射出。
22.根据权利要求20所述的光路转折元件，其特征在于，所述至少一注料痕的表面设置有所述遮光层。
23.根据权利要求20所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的单体结构的凹陷深度为h，其满足下列条件：
24.根据权利要求20所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一缩孔结构，所述缩孔结构由至少部分的所述连接面所形成，且所述缩孔结构使得所述光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。
25.根据权利要求20所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一接合线，所述接合线设置于所述连接面当中的其中二者之间，且位于所述接合线两侧的两所述连接面之间具有一夹角，所述夹角为θ，其满足下列条件：
26.根据权利要求25所述的光路转折元件，其特征在于，在垂直于所述光学表面的方向上，所述光路转折元件的厚度为T，所述接合线与所述光学表面之间的距离为d，其满足下列条件：
27.一种光路转折元件，其特征在于，所述光路转折元件的材料包含塑胶，所述光路转折元件包含：
28.根据权利要求27所述的光路转折元件，其特征在于，所述光学表面还使所述光线于所述光路转折元件的内部进行再...
【技术特征摘要】
1.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线通过所述光学表面从所述光路转折元件射出。
3.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的单体结构的凹陷深度为h，其满足下列条件：
4.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一缩孔结构，且所述缩孔结构使得所述光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。
5.根据权利要求4所述的光路转折元件，其特征在于，所述缩孔结构设置于所述第一反射面与所述第二反射面之间，且所述缩孔结构的表面设置有所述遮光层。
6.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一接合线，所述接合线设置于所述连接面当中的其中二者之间，且位于所述接合线两侧的两所述连接面之间具有一夹角，所述夹角为θ，其满足下列条件：
7.根据权利要求6所述的光路转折元件，其特征在于，在垂直于所述光学表面的方向上，所述光路转折元件的厚度为t，所述接合线与所述光学表面之间的距离为d，其满足下列条件：
8.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有至少一注料痕(gate trace)，且所述至少一注料痕位于至少一所述连接面上。
9.根据权利要求8所述的光路转折元件，其特征在于，所述至少一注料痕的周围设置有所述消光结构。
10.根据权利要求1所述的光路转折元件，其特征在于，所述光学部相对于位于其周围的所述连接部凹陷。
11.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
12.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，还包含多个消光结构，其中所述消光结构至少设置于所述连接部并与所述连接部一体成型，且所述消光结构的单体结构自所述连接部的表面朝所述光路转折元件的内部渐缩凹陷，使所述连接部的表面呈凹凸起伏。
13.根据权利要求12所述的光路转折元件，其特征在于，所述消光结构的单体结构的凹陷深度为h，其满足下列条件：
14.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述光线通过所述光学表面从所述光路转折元件射出。
15.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一缩孔结构，且所述缩孔结构使得所述光路转折元件内部的通光孔径局部缩减。
16.根据权利要求11所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有一接合线，所述接合线设置于所述连接面当中的其中二者之间，且位于所述接合线两侧的两所述连接面之间具有一夹角，所述夹角为θ，其满足下列条件：
17.根据权利要求16所述的光路转折元件，其特征在于，在垂直于所述光学表面的方向上，所述光路转折元件的厚度为t，所述接合线与所述光学表面之间的距离为d，其满足下列条件：
18.根据权利要求12所述的光路转折元件，其特征在于，所述连接部更具有至少一注料痕，且所述至少一注料痕位于至少一所述连接面上。
19.根据权利要求18所述的光路转折元件，其特征在于，所述至少一注料痕的周围设置有所述消光结构。
20.一种光路转折元件，其特征在于，包含：
21.根据权利要求20所述的光路转折元...
【专利技术属性】
技术研发人员：范丞纬，赖炫叡，程俊嘉，周明达，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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