System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置制造方法及图纸_技高网

折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置制造方法及图纸

技术编号:40874457 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-08 16:42
本揭示内容提供一种折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置,折反射光学膜设置于一基材的一表面且包含一反射膜以及一消光膜。反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜。消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜,深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜,深色金属膜的主要成分为金属铬,深色氧化膜的主要成分为氧化铬。借此,有助于达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。

【技术实现步骤摘要】

本揭示内容是有关于一种成像光学镜头、取像装置及电子装置,且特别是有关于一种具有折反射光学膜以降低杂散光的成像光学镜头、取像装置及电子装置。


技术介绍

1、近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照,其中长焦摄像镜头负责拍摄远距离景物而达到放大主题的功能,提供清晰的远景拍摄品质且得到更好凸显主题的拍摄体验,成为消费者选择长焦摄像镜头的重点。但具备长焦距的摄像镜头往往具有过于庞大的体积,难以达成微型光学镜头的目的。

2、习知技术应用潜望式镜头,虽能降低光学系统占用高度比重,但仍需依赖反射元件,无法进一步压缩体积。再者,另一种应用折反射望远镜的概念,使用相对短的镜头筒即可实现长焦摄像,但因光线多次反射后容易有杂散光的生成,进而影响成像品质。


技术实现思路

1、本揭示内容的折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置通过在基材的相对位置镀上反射膜与消光膜的设计方式,可达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。通过反射金属膜的入光侧配置多层的氧化膜,使光线在膜层间以建设性干涉达到提高反射光目的,有助于强化感光元件的入光量,并在反射金属膜另一侧亦配置氧化膜,以防止金属氧化失去光泽导致反射强度减弱,并可进一步减少因多次反射后杂散光的生成。再者,通过在非有效光路区配置消光膜,且通过抗反射膜层的设计,再加上金属铬的低穿透特性以及氧化铬提供深色的效果,有助于在非有效光路区达到低反射、低透光度的光学镀膜设计,降低多余杂光的产生以强化光学成像品质。

2、依据本揭示内容一实施方式提供一种折反射光学膜,折反射光学膜设置于一基材的一表面,且折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区,且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜,其中第一反射氧化膜包含至少二种膜层,各膜层的主要成分为氧化物,反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材,且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区,其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜,深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜,深色金属膜的主要成分为金属铬,深色氧化膜的主要成分为氧化铬,且深色膜较第一抗反射膜远离基材。

3、依据本揭示内容另一实施方式提供一种成像光学镜头,成像光学镜头由光路的物侧至像侧依序包含一折反射透镜组以及一长焦透镜组。折反射透镜组包含至少一透镜,透镜具有一物侧表面朝向物侧以及一像侧表面朝向像侧,且透镜的至少一表面具一折反射光学膜。折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于透镜的一有效光路区,且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜,第一反射氧化膜包含至少二种膜层,各膜层的主要成分为氧化物,反射金属膜较第一反射氧化膜远离透镜,且第二反射氧化膜较反射金属膜远离透镜。消光膜设置于透镜的一非有效光路区,其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜,深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜,深色金属膜的主要成分为金属铬,深色氧化膜的主要成分为氧化铬,且深色膜较第一抗反射膜远离透镜。

4、依据本揭示内容另一实施方式提供一种取像装置,包含如前段所述的成像光学镜头以及一电子感光元件。电子感光元件设置于成像光学镜头的一成像面。

5、依据本揭示内容另一实施方式提供一种电子装置,包含如前段所述的取像装置。

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【技术保护点】

1.一种折反射光学膜,设置于一基材的一表面,其特征在于,该折反射光学膜包含:

2.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s,该第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a,其满足下列条件:

3.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该基材为塑胶基材,且该基材具有该折反射光学膜的该表面为一曲面。

4.如权利要求3所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射金属膜的总膜厚为Trm,该第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s,其满足下列条件:

5.如权利要求3所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射金属膜的总膜厚为Trm,该第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a,其满足下列条件:

6.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜,该基材低折射率氧化膜较该基材高折射率氧化膜远离该基材,该基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1,该基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2,其满足下列条件:

7.如权利要求6所述的折反射光学膜,其特征在于,该基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1,该基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2,其满足下列条件:

8.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜,该空气高折射率氧化膜较该空气低折射率氧化膜远离该基材,该空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1,该空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2,其满足下列条件:

9.如权利要求8所述的折反射光学膜,其特征在于,该空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1,该空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2,其满足下列条件:

10.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-r,其满足下列条件:

11.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜的总膜厚为tTKe,其满足下列条件:

12.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜的总膜厚为tTKe,该深色膜的总膜厚为Ted,其满足下列条件:

13.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一抗反射膜的总膜厚为Tea-s,其满足下列条件:

14.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该深色膜的总膜厚为Ted,该深色金属膜的总膜厚为Ted-cr,其满足下列条件:

15.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-e,该消光膜于波长400nm至700nm的平均穿透率为T4070-e,其满足下列条件:

16.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜还包含:

17.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜还包含:

18.一种成像光学镜头,其特征在于,该成像光学镜头由光路的物侧至像侧依序包含:

19.如权利要求18所述的成像光学镜头,其特征在于,该透镜为塑胶透镜,且该透镜具有该折反射光学膜的该表面为一曲面。

20.如权利要求18所述的成像光学镜头,其特征在于:

21.如权利要求20所述的成像光学镜头,其特征在于:

22.如权利要求20所述的成像光学镜头,其特征在于:

23.如权利要求22所述的成像光学镜头,其特征在于,该长焦透镜组包含至少二透镜,该至少二透镜的至少一表面包含至少一反曲点。

24.如权利要求20所述的成像光学镜头,其特征在于,该第二反射面的物侧包含该消光膜。

25.如权利要求18所述的成像光学镜头,其特征在于:

26.如权利要求25所述的成像光学镜头,其特征在于,该非有效光路区包含至少一消光面,该消光面位于该第一透镜的该物侧表面且位于该穿透区的一第一穿透面与该第二反射面之间,且该消光面包含该消光膜。

27.如权利要求26所述的成像光学镜头,其特征在于,该第二透镜物侧表面近中心轴处为凸面,该长焦透镜组包含至少三透镜,且该至少三透镜的至少一表面包含至少一反曲点。

28.如权利要求26所述的成像光学镜头,其特征在于,该第二反射面的物侧包含该消光膜。

29.一种取像装置,其特征在于,包含:

30.如权利要求29所述的取像装置,其特征在于,至少一该透镜的至少一该表面具有一渐变折射率膜,该渐变折射率膜具有多个孔洞,且远离该透镜的所述多个孔洞相对大于靠近该透镜的所...

【技术特征摘要】

1.一种折反射光学膜,设置于一基材的一表面,其特征在于,该折反射光学膜包含:

2.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一反射氧化膜的总膜厚为tro-s,该第二反射氧化膜的总膜厚为tro-a,其满足下列条件:

3.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该基材为塑胶基材,且该基材具有该折反射光学膜的该表面为一曲面。

4.如权利要求3所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射金属膜的总膜厚为trm,该第一反射氧化膜的总膜厚为tro-s,其满足下列条件:

5.如权利要求3所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射金属膜的总膜厚为trm,该第二反射氧化膜的总膜厚为tro-a,其满足下列条件:

6.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜,该基材低折射率氧化膜较该基材高折射率氧化膜远离该基材,该基材高折射率氧化膜的折射率为nro-s1,该基材低折射率氧化膜的折射率为nro-s2,其满足下列条件:

7.如权利要求6所述的折反射光学膜,其特征在于,该基材高折射率氧化膜的折射率为nro-s1,该基材低折射率氧化膜的折射率为nro-s2,其满足下列条件:

8.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜,该空气高折射率氧化膜较该空气低折射率氧化膜远离该基材,该空气高折射率氧化膜的折射率为nro-a1,该空气低折射率氧化膜的折射率为nro-a2,其满足下列条件:

9.如权利要求8所述的折反射光学膜,其特征在于,该空气高折射率氧化膜的折射率为nro-a1,该空气低折射率氧化膜的折射率为nro-a2,其满足下列条件:

10.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率为r4070-r,其满足下列条件:

11.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜的总膜厚为ttke,其满足下列条件:

12.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该消光膜的总膜厚为ttke,该深色膜的总膜厚为ted,其满足下列条件:

13.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该第一抗反射膜的总膜厚为tea-s,其满足下列条件:

14.如权利要求1所述的折反射光学膜,其特征在于,该深色膜的总膜厚为ted,该深色金属...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡温祐陈诗翰陈俊谚蔡承谕邓钧鸿
申请(专利权)人:大立光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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