半导体装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:3184404 阅读:236 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的目的是提供可降低由热处理半导体晶片导致的半导体晶片的翘曲量的半导体装置的制造方法。具有背面电极的半导体装置的制造方法,包含:准备具有表面和背面的半导体晶片的工序;在该半导体晶片的背面形成第1金属层,通过热处理在该半导体晶片和该第1金属层之间形成欧姆连接的热处理工序;在该热处理工序后,在该半导体基板的背面上形成Ni组成的第2金属层的工序。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种半导体装置的制造方法,是具有背面电极的半导体装置的制造方法,其特征在于,包含:准备具备表面和背面的半导体晶片的工序;在该半导体晶片的背面形成第1金属层,通过热处理在该半导体晶片和该第1金属层之间形成欧姆连接的热处理工序; 在该热处理工序后,在该半导体基板的背面上形成Ni组成的第2金属层的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:松村民雄辻野忠
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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