谐振扫描镜制造技术

一种系统和方法准许更有效的同步扫描镜。光刻设备包括照射系统、构图装置、衬底台、以及投影系统。照射系统对从操作于第一频率的辐射源接收到的辐射束进行调节。构图装置对所述束进行构图。衬底台支撑衬底并且按照扫描速率对衬底进行扫描。投影系统包括扫描装置，所述扫描装置包括反射装置和多个弯曲部分。多个弯曲部分配置用于允许反射装置绕旋转轴谐振。扫描装置配置用于将已构图的束扫描到衬底的目标区域上。扫描装置的谐振频率实质上等于第一频率，并且与扫描速率同步。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和器件制造方法。技术背景光刻设备是一种将所需图案应用到衬底或衬底的一部分上的机器。例如，可以将光刻设备用于制造平板显示器、集成电路(ic)、以及包含精细结构的其它器件。在传统的设备中，可以将称为掩模(mask)或掩膜 版(reticle)的构图装置用于产生与平板显示器(或其它装置)的单独层 相对应的电路图案。可以通过对设置在衬底上的辐射敏感材料层(例如， 抗蚀剂)进行成像，将该图案转移到衬底(例如，玻璃板)的全部或一 部分上。除了电路图案以外，可以将构图装置用于产生其它图案，例如滤色 器图案或矩阵点。除了掩模以外，构图装置可以是包括单独可控元件的 阵列的构图阵列。与以掩模为基础的系统相比，在这种系统中可以更快 地改变图案，并且需要更少的成本。平板显示器衬底典型地在形状上是矩形的。设计用于对这种类型的 衬底进行曝光的光刻设备可以提供覆盖矩形衬底的完整宽度、或覆盖一 部分宽度(例如， 一半宽度)的曝光区。可以在通过束同步地扫描掩模 或掩膜版的同时，在曝光区域下面对衬底进行扫描。按照这种方式，将 图案转移到衬底上。如果曝光区覆盖了衬底的完整宽度，那么曝光可以 用单独的扫描完成。例如，如果曝光区覆盖了衬底的一半宽度，那么可 以在第一扫描之后横向地移动衬底，并且典型地执行另外的扫描以对衬 底的其余部分进行曝光。典型地，如果辐射源具有抖动，可以在期望的时刻之前或之后产生 脉冲束。这可以引起由与构图装置相互作用的脉冲束构成的已构图的光束，以在所需目标位置前面或后面对衬底进行构图。与脉冲束的频率和衬底扫描速率两者都同步的同步扫描镜SSM (synchronous scanning mirror)已经被典型地用于补偿这种抖动。通过使用同步扫描镜SSM，可 以将已构图的束导引到通过在所需目标位置处对衬底台进行扫描所支撑 的扫描衬底上。然而，针对无掩模光刻，同步扫描镜SSM必须按照较高 的频率(例如，6kHz)进行扫描，扫描运动必须是纯的旋转(较小的幅 度，±1.2Wmd)，并且旋转轴必须位于同步扫描镜SSM的起作用的表面上。 同样，同步扫描镜SSM必须具有优秀的光学质量(即，非常平坦，在约 0.5nm平坦度的量级)，要求其具有真实的厚度，导致较大的质量。传统的同步扫描镜SSM典型地不能够产生具有较低镜面畸变的纯旋 转扫描运动。动态地，具有较低本征频率(例如，具体系统可以利用其 振动的频率之一)的不希望有的模式不可避免的存在使其不可能实现纯 的无畸变旋转。具有仅为有用的第一模式的两倍高的本征频率的第二模 式产生平面外转换和镜面畸变。此外，根据可制造性，放在同步扫描镜 SSM的反射表面上的旋转轴的要求使其难以接近反射表面用于抛光，除 非反射表面是分离的部分。利用分离的反射表面，不引入畸变并且不引 入低于非常高的扫描频率的模式对反射表面进行安装，可能是无法解决 的难题。因此，所需要的是允许更有效的同步扫描镜SSM的系统和方法。
技术实现思路
在本专利技术的一个实施例中，提出了一种光刻设备，包括照射系统、 构图装置、衬底台、以及投影系统。照射系统操作于第一频率对来自辐 射源的辐射束进行调节。构图装置对所述束进行构图。衬底台支撑衬底 并且按照扫描速率对衬底进行扫描。投影系统包括扫描装置，包括反射 装置和多个弯曲部分。将多个弯曲部分配置用于允许反射装置绕旋转轴 谐振。将扫描装置配置用于将已构图的束扫描到衬底的目标区域上。扫 描装置的谐振频率实质上等于第一频率，并且与扫描速率同步。在本专利技术的另一个实施例中，提出了一种包括以下步骤的方法。按 照第一频率产生辐射束。按照扫描速率使用衬底台(substrate stage)对衬底进行扫描。对辐射束进行构图。使用与反射装置相连的弯曲部分， 按照实质上第一频率使扫描镜的反射装置绕旋转轴谐振。将扫描镜的扫 描与第一频率和扫描速率两者同步，使得将已构图的束导引到衬底的目 标部分上。以下参考附图详细描述本专利技术的另外实施例、特征和优点以及本发 明各种实施例的结构和操作。附图说明在这里所结合的并且形成说明书的一部分的附图示出了本专利技术的 一个或更多实施例，并且与描述一起用于解释本专利技术的原理以及用于使 相关领域的普通技术人员能够制作和使用本专利技术。图1和图2描述了根据本专利技术的各种实施例的光刻设备。 图3描述了根据如图2所示的本专利技术的一个实施例将图案转移到衬 底上的模式。图4描述了根据本专利技术的一个实施例的光学引擎的布置。图5示出了将己构图的束导引到具有同步扫描镜SSM的投影系统上 的反射构图装置。图6示出了将已构图的束导引到具有同步扫描镜SSM的投影系统上 的透射构图装置。图7、 8、 9和IO示出了同步扫描镜SSM的透射图、侧视图、顶视 图和操作透视图。图11和12分别示出了与隔离物质和驱动系统相连的同步扫描镜 SSM的透视图和侧视图。图13和图14分别示出了图11和图12的包括附加隔离物质的同步 扫描镜SSM的透视图和侧视图。图15和图16分别示出了同步扫描镜SSM的另一个实施例的顶视图 和透视图。图17示出了图15和图16中的同步扫描镜SSM的操作视图。 图18示出了用于图15、 16和17的同步扫描镜SSM的组件和驱动 系统。 图19示出了描述根据本专利技术的方法的流程图。现在将参考附图描述本专利技术的一个或更多实施例。在附图中，相同 的参考数字表示相同的或功能类似的元件。此外，参考数字的最左边位 数可以标识参考数字第一次出现的附图。具体实施方式该说明书公开了包括本专利技术特征的一个或更多实施例。所公开的实 施例只是例示本专利技术。本专利技术的范围不局限于所公开的实施例。本专利技术 保护范围由所附权利要求限定。这里描述的实施例以及说明书中提到的一个实施例实施例 和示例实施例等表示所述实施例可以包括具体的特征、结构或特性， 但是每一个实施例可以不必要包括具体的特征、结构或特性。此外，这 种短语不必指的是相同的实施例。另外，当结合实施例描述具体的特征、 结构或特性时，应该理解的是其在本领域普通技术人员的知识范围内影 响结合明示或暗示的其他实施例的这种特征、结构或特性。可以将本专利技术的实施例实现为硬件、固件、软件或其任意组合。也 可以将本专利技术的实施例实现为在机器可读介质中存储的指令，所述指令 可以由 一个或更多处理器来读取并且执行。机器可读介质可以包括用于 存储或转换由机器(例如计算装置)可读形式信息的任意机制。例如， 机器可读介质可以包括只读存储器(R0M)、随机存取存储器(RAM)、磁 盘存储介质、光存储介质、闪速存储装置、电、光、声或其他形式的传 播信号(例如载波、红外信号、数字信号等)、以及其他。另外，可以将 固件、软件程序指令在这里描述为执行一定的动作。然而，应该理解的 是，这种描述只是为了方便，并且这种动作事实上由计算装置、处理器、 控制器或执行固件、软件、程序、指令等的其他装置产生。图l示意性地示出了本专利技术的一个实施例的光刻设备l。所述设备包 括照射系统IL、构图装置PD、衬底台WT、以及投影系统PS。将照射系统 (照射器)IL配置用于调节辐射束B (例如，紫外辐射)。将衬底台WT构建用于支撑衬底(例如，涂敷抗蚀剂的衬底)W，并且与定位器PW相连，所述定位器配置用于根据一定的参数精确地定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：照射系统，对从操作于第一频率的辐射源接收到的辐射束进行调节；构图装置，对所述束进行构图；衬底台，支撑衬底并且按照扫描速率对衬底进行扫描；以及投影系统，包括扫描装置，所述扫描装置包括反射装置和多个弯曲部分，多个弯曲部分配置用于允许反射装置绕旋转轴谐振，其中，扫描装置被配置用于将已构图的束扫描到衬底的目标区域上，以及所述扫描装置的谐振频率实质上等于与第一频率相同的值，并且与扫描速率同步。

【技术特征摘要】
US 2006-6-23 11/473,3261.一种光刻设备，包括照射系统，对从操作于第一频率的辐射源接收到的辐射束进行调节；构图装置，对所述束进行构图；衬底台，支撑衬底并且按照扫描速率对衬底进行扫描；以及投影系统，包括扫描装置，所述扫描装置包括反射装置和多个弯曲部分，多个弯曲部分配置用于允许反射装置绕旋转轴谐振，其中，扫描装置被配置用于将已构图的束扫描到衬底的目标区域上，以及所述扫描装置的谐振频率实质上等于与第一频率相同的值，并且与扫描速率同步。2. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，对所述多个弯曲部分 进行对齐，使得穿过每一个弯曲部分的中心部分的轴在扫描装置的旋转 轴处交叉，所述旋转轴位于扫描装置的反射表面处。3. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述多个弯曲部分由 钢、钢合金、铍合金、钛、或钛合金构成。4. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述辐射束按照相对 于反射装置约30。至60°的角度入射。5. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述反射装置包括伸 长的反射表面。6. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述扫描装置还包括: 驱动系统，被配置用于引起反射装置按照第二频率绕旋转轴谐振。7. 根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述驱动系统包括 第一和第二磁铁，与所述反射装置的相对末端相连；以及 补偿定位的第一和第二线圈，接收交流电信号。8. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述多个弯曲部分包 括多个曲线形或弓形弯曲部分，并且通过多个弯曲部分的每一个的中心 平面的轴实质上在所述反射装置的旋转轴处交叉。9. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述扫描装置具有第一和第二相对地导引的反射装置，每一个所述 反射装置均具有相应的旋转轴，使得将选定的所述反射装置用于将已构 图的束扫描到光学系...

【专利技术属性】
技术研发人员：桑第亚哥E德波尔图，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]