【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及用于可移动支撑平台的锁定机构，例如，用于支撑光刻设备和系统中的掩模版和/或晶片的衬底平台。
技术介绍
1、光刻设备是一种被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(ic)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模、掩模版)的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
2、为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在衬底上的特征的最小尺寸。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有例如6.7nm或13.5nm的在4nm至20nm的范围内的波长的极紫外(euv)辐射的光刻设备可以被用于在衬底上形成更小的特征。
3、在掩模版交换过程中，从掩模版处理装置到掩模版平台的夹具的掩模版交接包括未知的掩模版位置偏移和掩模版倾斜偏移。夹具与掩模版之间的倾斜或过度的不对齐可能是粒子产生的来源，并且随着时间的推移可能损坏掩模版或夹具。虽然进行了校准，但由于掩模版机械和定位公差，仍然存在差异，这可能导致较强的拐角冲击以及夹具和掩模版上的不可预测的第一接触点。
技术实现思路
1、因此，需要以可靠、均匀且有效的方式减少对掩模版和夹具的损坏。
2、在一些实施例中，光刻设备包括照射系统、投影系统、可移动平台、开有槽的物体、和锁定装置。所述照射系统被配置成照射图案形成装置的图案。投影系统被配置成将图案的图像投影到衬底上。所述可移动平台被配置成支撑所述图案形成装置或所述衬
3、在一些实施例中，装置包括致动器和轮装置，所述轮装置包括环部件并联接到致动器。所述致动器被配置成使所述轮装置围绕旋转轴线旋转。环部件具有平行于旋转轴线限定的宽度。所述宽度相对于所述轮装置的方位角方向是能够改变的。所述环部件被配置成接合物体的槽。所述旋转调整所述环部件在所述槽内的宽度，使得所述装置与所述物体之间的相对运动被阻止。
4、在一些实施例中，所述方法涉及使用锁定装置，所述锁定装置包括开有槽的物体和联接到轮装置的致动器，所述轮装置包括环部件，所述环部件具有相对于轮装置的方位角方向能够改变的宽度。该方法包括使用所述致动器使所述轮装置围绕旋转轴线旋转。所述方法还包括经由旋转，使用环部件来接合所述开有槽的物体的槽。所述方法还包括经由所述旋转来调整所述环部件在所述槽内的宽度，使得所述锁定装置与所述开有槽的物体之间的相对运动被阻止。
5、在下文中参考随附附图详细地描述本公开的另外的特征、以及各个实施例的结构和操作。应注意，本公开不限于本文描述的具体实施例。本文仅出于说明性的目的来呈现这样的实施例。基于本专利技术中包含的教导，相关领域技术人员将明白额外的实施例。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种光刻设备，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
3.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括：
4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中：
5.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括控制器，所述控制器被配置成控制所述致动器并通过控制所述轮装置的旋转量来调整所述环部件与所述槽之间的间隙。
6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
7.一种装置，包括：
8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述环部件包括楔形部，并且所述宽度沿所述楔形部从第一宽度变化到第二宽度。
9.根据权利要求7所述的装置，还包括：
10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述旋转轴线与所述第二旋转轴线是非平行的。
11.根据权利要求9所述的装置，其中，所述旋转轴线和所述第二旋转轴线位于大致同一平面内。
12.根据权利要求9所述的装置，其中：
13.根据权利要求7所述的装置，还包括控制器，所述控制器被配置成控制所述致动器并通过控制所述轮装置的旋转量来调整所述环部件与
14.根据权利要求7所述的装置，其中：
15.一种使用锁定装置的方法，所述锁定装置包括开有槽的物体和联接到轮装置的致动器，所述轮装置包括环部件，所述环部件具有相对于轮装置的方位角方向能够改变的宽度，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光刻设备，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
3.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括：
4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中：
5.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括控制器，所述控制器被配置成控制所述致动器并通过控制所述轮装置的旋转量来调整所述环部件与所述槽之间的间隙。
6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
7.一种装置，包括：
8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述环部件包括楔形部，并且所述宽度沿所述楔形部从第一宽度变化到第二宽度。
9.根据权利要求7所述的装置，还包括：
10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述旋转轴线...
【专利技术属性】
技术研发人员：D·N·伯班克，A·迪内，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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