【技术实现步骤摘要】
本技术属于摄影暗房袋，具体涉及一种新型大画幅摄影暗房袋。
技术介绍
1、大画幅摄影暗房袋是一种专为大画幅相机设计的保护设备，摄影暗房袋内部采用防光材料制作，能有效隔绝外界光线，并确保在开启相机后，内部仍然能保持较为黑暗的环境。这是为了避免光线进入相机镜头而对底片或感光元件产生污染或损坏，大画幅摄影暗房袋的作用是保护相机器身和镜头不受外界环境的影响，确保拍摄质量和画面的清晰度，并提供方便的操作环境。
2、目前，大画幅摄影暗房袋的开口是通过拉链闭合的，拉链透光，通常的做法是在暗房袋的表面缝制双层的遮光布层，遮光布层通过魔术贴与暗房袋粘接，但是遮光布层即使是通过魔术贴粘接在暗房袋拉链的上方对其遮挡，但是遮光布层与拉链并不是紧密贴合的，两者之间存在间隙，这就会存在透光的问题，仍有可能存在一些微弱的光线从拉链处泄漏进入暗房袋内部，尽管暗房袋内部设计了防光材料，但对于特别敏感的拍摄任务来说，这些微弱的光线仍有可能对底片或感光元件产生一些影响。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种新型大画幅摄影暗房袋，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种新型大画幅摄影暗房袋，包括暗房袋本体以及设于暗房袋本体上的入手套，所述入手套设有两个，两个所述入手套呈45°缝制在暗房袋本体前端两侧，入手套呈45°缝制，使得双手从45°操作，符合人体工程学，操作顺手，上片不累，一改市面上其他销售从后面放拿东西极不方便的问题。
3、所述暗房袋
4、作为优选，所述暗房袋本体上设有对入手套的出口处进行收紧的第一扎口；所述入手套上设有对其入口处进行收紧的第二扎口。
5、作为优选，所述遮光布层通过魔术贴与暗房袋的外表面粘接，所述魔术贴包括毛面部以及勾面部，所述勾面部缝制在遮光布层上，所述毛面部缝制在暗房袋本体上，另外遮光布层还可以通过暗扣与暗房袋的外表面扣接。
6、作为优选，所述暗房袋本体、中隔布、入手套以及遮光布层均为双层全遮光面料制得。
7、作为优选，所述暗房袋本体的前端两侧设有缝制在入手套内侧的袖子。
8、本技术的技术效果和优点：该新型大画幅摄影暗房袋，入手套呈45°缝制在暗房袋本体前端两侧，使得双手从45°角度进行操作，更符合人体工程学原理，使操作更加自然和顺手，这样设计可以减轻手部和手臂肌肉的负担，降低疲劳感，从而更加舒适地进行操作；
9、暗房袋本体上的开口通过拉链拉合，拉链的上层通过遮光布层遮光，下层通过双层折叠的中隔布阻挡光，构成了开口采用双折加暗扣(或摩术帖)的双保险结构，可以提供更好的遮光性能，遮光布层能够有效防止外界光线进入开口，而暗扣或魔术贴的设计可以对开口封闭，避免光线泄漏，这样设计可以为暗房袋内部提供更为黑暗的环境，确保照片质量稳定。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述暗房袋本体(1)上设有对入手套(6)的出口处进行收紧的第一扎口(7)。
3.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述入手套(6)上设有对其入口处进行收紧的第二扎口(8)。
4.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述遮光布层(5)通过魔术贴(9)与暗房袋的外表面粘接，所述魔术贴(9)包括毛面部(91)以及勾面部(92)，所述勾面部(92)缝制在遮光布层(5)上，所述毛面部(91)缝制在暗房袋本体(1)上。
5.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述暗房袋本体(1)、中隔布(4)、入手套(6)以及遮光布层(5)均为双层全遮光面料制得。
6.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述暗房袋本体(1)的前端两侧设有缝制在入手套(6)内侧的袖子。
【技术特征摘要】
1.一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述暗房袋本体(1)上设有对入手套(6)的出口处进行收紧的第一扎口(7)。
3.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述入手套(6)上设有对其入口处进行收紧的第二扎口(8)。
4.根据权利要求1所述的一种新型大画幅摄影暗房袋，其特征在于：所述遮光布层(5)通过魔术贴(9)与暗房袋的外表...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈华，
申请(专利权)人：中山三禾影视器材有限公司，
类型：新型
国别省市：
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