【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光谱数据处理，具体涉及一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法。
技术介绍
1、在光刻工艺中，四甲基氢氧化铵（tmah）是一种常用的显影剂，主要用于显影光刻胶，当四甲基氢氧化铵溶液中包含杂质时会对显影效果造成影响，例如杂质可能引起显影液中局部的化学反应差异，导致显影后的表面不均匀或者无法准确的显影，通过对四甲基氢氧化铵溶液的光谱数据进行聚类分析，可以从大量四甲基氢氧化铵溶液中快速识别和分类杂质。
2、现有方法在利用isodata迭代自组织聚类时，当判断一个类簇需要进行分裂时，仅仅根据对应类簇的均值与部分维度的标准差进行子类聚类中心点的选择，选择的类簇中心点可能出现无法表示高密度点的情况，导致出现同一类簇被划分开来或不同类簇被划分至同一类簇中，进而导致对四甲基氢氧化铵溶液的杂质检测不准确。
技术实现思路
1、为解决上述问题，本专利技术提供一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法。
2、本专利技术的一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法采用如下技术方案：>
3、本专利技本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述根据独立分量中波长和波长对应的吸收率，得到每个光谱数据的每个独立分量的若干特征波长，包括的具体步骤如下：
3.根据权利要求1所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述根据光谱数据的每个独立分量的若干特征波长，得到若干独立分量序列和每个光谱数据下其他光谱数据的有序独立分量，包括的具体步骤如下：
4.根据权利要求3所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述根据独立分量中波长和波长对应的吸收率，得到每个光谱数据的每个独立分量的若干特征波长，包括的具体步骤如下：
3.根据权利要求1所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述根据光谱数据的每个独立分量的若干特征波长，得到若干独立分量序列和每个光谱数据下其他光谱数据的有序独立分量，包括的具体步骤如下：
4.根据权利要求3所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述相似性的具体获取方法如下：
5.根据权利要求1所述一种四甲基氢氧化铵生产过滤杂质检测方法，其特征在于，所述根据每个光谱数据的有序独立分量、每个类簇内光谱数据的独立分量及每个类簇内不同光谱数据的独立分量进行dtw匹配时匹配波长对，得到每个类簇中不同光谱数据的独立分量之间的相似程度，包括的具体步骤如下：
6.根据权利要求5所述一...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯亚楠，贾成林，金旭，孟鹏，何江汇，孙巧云，王玉彬，赵鹏，
申请(专利权)人：信联电子材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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