静电卡盘装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种静电卡盘装置，用于支撑和固定晶片，包括基座、设于基座上表面的绝缘层以及设于绝缘层下基座中的电极，该绝缘层包括与晶片接触凸起的圆形环状接触面；凸起的圆形环状接触面的面积占绝缘层上表面面积的０．５％～５０％。电极的形状及分布分别对应于圆形环状凸起的接触面。由于接触面积的减少，使得非接触面空间有足够多的氦气等惰性气体流通，热传导更加均匀，晶片表面温度均匀的效果更加明显；减少绝缘层与晶片的接触面时，同样可以提供足够的静电吸附力，并且静电释放更加容易，缩短静电释放时间，提高了晶片加工的效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种卡盘装置，尤其涉及一种微电子应用的静电卡盘装置。技术背景在半导体制造工艺和LCD液晶显示器制造工艺中，为固定和支撑晶片， 避免处理过程中晶片出现移动或者错位现象，常使用卡盘或吸盘来固定和支 撑晶片。常用的卡盘或吸盘有机械卡盘、真空吸盘与静电卡盘(简称ESC: Electro Static Chuck)。机械卡盘通过机械臂来固定和支撑晶片，其缺点是机械卡盘由于压力、 碰撞等原因容易造成晶片破损；机械卡盘在反应腔室中的运动，容易产生颗 粒，对晶片造成污染；同时^L械卡盘在固定晶片时，还占用了晶片的边缘面 积降低了晶片利用率。真空吸盘顾名思义就是采用了真空原理，利用真空负压来吸附晶片 以达到夹持晶片的目的，其缺点是不能在真空环境下工作。静电卡盘采用静电引力来固定和支撑晶片，与采用机械卡盘和真空吸盘 固定和支撑晶片相比，静电卡盘具有很多优势。首先，静电卡盘减少了在使 用机械卡盘由于压力、碰撞等原因造成的晶片破损；其次，通过采用静电卡 盘可以减少晶片表面腐蚀物颗粒的沉积，并且使晶片与卡盘有更好的热传 导；最后，晶片的工艺加工可以在真空环境下工作。如图1所示，是一种典型的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电卡盘装置，用于支撑和固定晶片，包括基座、设于基座上表面的绝缘层以及设于绝缘层下基座中的电极，其特征在于，所述绝缘层包括与晶片接触凸起的接触面；所述凸起的接触面的面积占绝缘层上表面面积的０．５％～５０％。

【技术特征摘要】
1. 一种静电卡盘装置，用于支撑和固定晶片，包括基座、设于基座上表面的绝缘层以及设于绝缘层下基座中的电极，其特征在于，所述绝缘层包括与晶片接触凸起的接触面；所述凸起的接触面的面积占绝缘层上表面面积的0.5％～50％。2、 根据权利要求1所述的一种静电卡盘装置，其特征在于，所述凸起的 接触面为圓环状凸起的接触面。3、 根据权利要求2所述的一种静电卡盘装置，其特征在于，所述圆环状 凸起的接触面为至少一个同心圓环。4、 根据权利要求2或3所述的一种静电卡盘装置，其特征在于，所述圆 环...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉美爱，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]