半导体记忆装置制造方法及图纸

技术编号:3087799 阅读:185 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术系提供一种半导体记忆装置,系由:记忆单元、文字线、一对位元线、及自由充电手段所构成,其中更包含漏电流补偿电路,用以补偿与记忆单元连接的位元线的漏电流、及防止流入记忆单元的CMOS长周期电流,所用CMOS电晶体交叉结合,所构成的。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系有关于半导体记忆(存储)装置,特别是有关于在高容量的静态随机存贮器(以下简称SRAM)中,具备有位元线(Bit Line)漏电流补偿电路的改良半导体记忆装置,该位元线系可防止资料读出/写入动作时的误动作。附图中,第3图及第4图所示的是与本专利技术中做为现有技术对象的SRAM的记忆单元有关的电路,对此说明如下具有记忆装置的基本构造1示于第3图及第4图,记忆装置包含有记忆单元(记忆胞)311,系可电气性地维持“0”或“1”的资料的锁存构造;文字线(Word Line)WL,是与MOS电晶体2、3的栅极连接,而这些MOS电晶体系分别连接于该记忆单元311两端的切换式电晶体;及,位元线BLi、BLi,系连接于这些切换式电晶体的信号线上;更包含自由充电(Free Change)电晶体T31、T32,系连接于位元线与电源之间,使此对位元线分别在读出和写入前,以预定的电位同等地充电;又包含MOS电晶体T35,系连接于位元线之间,为了资料线的均值化,可接受由未示于图中的均值器电路所供给的予定脉冲φBQi。这些自由充电电晶体接受图中标记φBLi的脉冲信号,这就意味该SRAM是不必由本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体记忆装置,具备有:复数的文字线与复数的位元线对;多数的记忆单元,系具有分别与前述文字线及位无线的各交点连接的锁存构造;自由充电手段,系连接于前述成对的位元线与电源之间,在读出或写入前,以一定电位,将位元线充电至同电位;及,漏电流补偿电路,用以补偿前述记忆单元的漏电流,其特征在于:前述漏电流补偿电路系插入电源与位无线对之间;且,由一对切换电晶体的各栅极端子连接于对方的漏极端子,所构成的。

【技术特征摘要】
KR 1991-5-28 91-87351.一种半导体记忆装置,具备有复数的文字线与复数的位元线对;多数的记忆单元,系具有分别与前述文字线及位元线的各交点连接的锁存构造;自由充电手段,系连接于前述成对的位元线与电源之间,在读出或写入前,以一定电位,将位元线充电至同电位;及,漏电流补偿电路,用以补偿前述记忆单元的漏电流,其特征在于前述漏电流补偿电路系插入电源与位元线对之间;且,由一对切换电晶体的各栅极端子连接于对方的漏极端子,所构成的。2.如专利要求1所记载的半导体记忆装置,其中,该一对切换电晶体的型式系与自由充电用的电昌体相同型式;且,与连接于文字线与记忆单元间的电晶体是不同型式的。3.如专利要求1所记载的半导体记忆装置,于前述一对位无线间,包含均值手段。4.如专利要求1所记载的半导体记忆装置,供给至前述自由充电手段之控制信号系由ATD(Address Transistion Detector)电路供给,该ATD系依位址信号变化的检出,由内部产生脉冲,而执行动作的。5.如专利要求1所记载的半导体记忆装置,前述一对的切换电晶体系IGFET(Insulated Gate Field Effect Transistor)。6.如专利要求1所记载的半导体记忆装置,包含前述记忆单元的记忆方块系配置成,在单一的文字线上多数连接成的。7.一种半导体记忆装置,具备有复数的文字线与复数的位...

【专利技术属性】
技术研发人员:金昌来
申请(专利权)人:三星电子株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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