【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体非易失性存储器.本专利技术特别涉及能够电写入和电擦除的半导体非易失性存储器(EEPROM: Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory),
技术介绍
近年来,以便携式计算机和手机等的便携式设备为代表的具有多 功能和高功能的小型半导体器件得到迅速发展.伴随此,半导体非易 失性存储器作为构成半导体器件的存储器而引人注目.虽然半导体非 易失性存储器在存储容量方面不如磁盘,但在集成密度、耐冲击性、 耗电、写入读出速度等方面具有优异的性能.最近,已开发了在半导 体非易失性存储器的问趙点即可改写次数和数据保持时间上具有充分 性能的半导体非易失性存储器,由此,有积极地采用半导体非易失性 存储器作为磁盘的代替品的趋势.半导体非易失性存储器大致可分成全功能EEPROM和快闪存储器的两种类型.全功能EEPROM是能够每一位地擦除的半导体非易失性 存储器,并可以每一位地进行写入、读出和擦除中的任何操作,全功 能EEPROM在集成率和成本上不如快闪存储器,但具有高功能.另一方面,快闪存储器是对整个存储器进行一次擦除或以块单位进行擦除 的半导体非易失性存储器,并通过牺牲每一位的擦除动作来实现高集成密度和低成本.在快闪存储器中,当改写一位数据时需要擦除整个数据.因此, 快闪的耗电量比全功能EEPROM高,而且,由于在不需要改写的存储 单元中也进行改写,所以可靠性降低.当然,快闪不能应用到需要一 位擦除动作的用途上.在此,通过举出全功能EEPROM作为常规的半导体非易失性存储 器,来说明其电路图、 ...
【技术保护点】
一种非易失性存储器,包括: 沿行方向和列方向将多个存储单元配置为矩阵状的存储单元阵列; 多个第一字线; 多个第二字线;以及 多个位线, 其中,所述多个存储单元的每一个具有串联连接的第一存储晶体管和第二存储晶体管, 并且,所述第一存储晶体管的栅电极连接到所述第一字线, 并且,所述第二存储晶体管的栅电极连接到所述第二字线, 并且,所述第一存储晶体管的源区和漏区中的一个连接到第一位线, 并且,所述第二存储晶体管的源区和漏区中的一个连接到第二位线, 并且,所述第一位线和所述第二位线提供为在相邻的列的存储单元之间通用。
【技术特征摘要】
JP 2006-7-14 2006-1946601.一种非易失性存储器,包括沿行方向和列方向将多个存储单元配置为矩阵状的存储单元阵列;多个第一字线;多个第二字线;以及多个位线,其中,所述多个存储单元的每一个具有串联连接的第一存储晶体管和第二存储晶体管,并且,所述第一存储晶体管的栅电极连接到所述第一字线,并且,所述第二存储晶体管的栅电极连接到所述第二字线,并且,所述第一存储晶体管的源区和漏区中的一个连接到第一位线,并且,所述第二存储晶体管的源区和漏区中的一个连接到第二位线,并且,所述第一位线和所述第二位线提供为在相邻的列的存储单元之间通用。2. 根据权利要求l所述的非易失性存储器,其中所述非易失性存 储器能够每一位地写入数据且每一位地擦除数据.3. 根据权利要求l所述的非易失性存储器,其中通过利用隧道电 流来对所述存储单元进行数据的写入和擦除.4. 根据权利要求l所述的非易失性存储器,其中所述第一存储晶 体管及所述第二存储晶体管为n沟道型晶体管.5. 根振权利要求l所述的非易失性存储器,其中所迷笫一存储晶 体管及所述笫二存储晶体管为p沟道型晶体管.6. —种包含根据权利要求l所述的非易失性存储器的半导体装 置,还包括天线.7. —种包含根据权利要求l所述的非易失性存储器的电子设备, 其中该电子设备选自包括摄像机、数字照相机、护目镜型显示器、头 戴显示器、导航系统、音频再现装置、汽车音响、音响组件、计算机、 游戏机、便携式信息终端、移动计算机、移动电话、便携式游戏机、 电子书、以及具有记录媒质的困像再现装置的组.8. —种非易失性存储器,包括将(mxn)个存储单元配置为m个行和n个列的矩阵状的存储单元 阵列,其中,m和n是等于或大于l的整数; m个第一字线; m个第二字线;以及相邻设置笫一位线和笫二位线的(n+l)个位线,其中,所述多个存储单元的每一个具有串联连接的笫一存储晶体 管和笫二存储晶体管,并且,所述笫一存储晶体管的栅电极连接到所述笫一字线, 并且,所述第二存储晶体管的栅电极连接到所述笫二字线, 并且,所述笫一位线连接到设在笫(j-l)列的存储单元中的每个 笫二存储晶体管的源区和漏区中的一个、以及设在笫j列的存储单元中 的每个第一存储晶体管的源区和漏区中的一个,其中,j是等于或大于l 且等于或小于n的整数.9. 根据权利要求8所述的非易失性存储器,其中所述非易失性存储器能够每一位地写入数据且每一位地擦除数据,10. 根据权利要求8所述的非易失性存储器,其中通过利用隧道电流来对所述存储单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:加藤清,山崎舜平,
申请(专利权)人:株式会社半导体能源研究所,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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