【技术实现步骤摘要】
实施例涉及一种磁阻式随机存取存储器(RAM),并且,更具体地, 涉及一种包括共享单个写位线的磁变电阻器件(device)的石兹阻式RAM, 其中抑制(inhibition )电流被与写电流同时施加。
技术介绍
磁阻式RAM在被更加高度地集成时,例如,具有与动态随机存取存 储器(DRAM)大致相同的集成度、并具有类似于那些闪存所呈现的非 易失性特点时,会具有比静态随机存取存储器(SRAM)更快的速度。在 磁阻式RAM中,多个可变电阻器件被连接到单个晶体管。磁阻式RAM 可以包括多个铁磁薄膜的堆叠(stack )。通过感测( sense )电流的变4匕可 以从磁阻式RAM中读取信息或将信息写入磁阻式RAM,电流变化取决 于每一个铁磁薄膜的磁化方向。这样的磁阻式RAM可以被高度集成,可 以以低功率、高速度操作,并且可以是非易失性的。可以利用巨^f兹阻(GMR)现象或基于自旋极化的^兹隧道结(MTJ) 现象实现磁阻式RAM,这两种现象利用自旋来影响电子的转移。利用 GMR现象的石兹阻式RAM可以利用这样的现象其中,两个磁层中自旋 方向相同时的电阻与自旋方向彼此不同时的电阻是不同的。利用GMR现 象的磁阻式RAM可以采用两个磁层和在这两层之间的非磁导电层 (conductive, non-magnetic layer)。利用MTJ现象的》兹阻式RAM可以利用 这样的现象其中,两个磁层中自旋方向相同时隧穿(tunneling)发生得 比自旋方向彼此不同时更加频繁。利用MTJ现象的磁阻式RAM可以采 用两个磁层和在这两层之间的绝缘层。
技术实现思路
因此实施例针对(dir ...
【技术保护点】
一种磁阻式随机存取存储器RAM,其包含: 多个可变电阻器件; 多条读位线,其被电连接到各自的可变电阻器件;以及 多条写位线,其与所述读位线交错,其中所述磁阻式RAM被配置为: 当将第一数据写到第一可变电阻器件时,通过与所述第一可变电阻器件相邻的第一写位线施加第一写电流,以及 通过与第二可变电阻器件相邻的第二写位线施加第一抑制电流,所述第二可变电阻器件与所述第一写位线相邻、并且在所述第一写位线与所述第二写位线之间,并且所述第一写电流与所述第一抑制电流以相同方向流动。
【技术特征摘要】
KR 2006-9-26 93728/061.一种磁阻式随机存取存储器RAM,其包含多个可变电阻器件;多条读位线,其被电连接到各自的可变电阻器件;以及多条写位线,其与所述读位线交错,其中所述磁阻式RAM被配置为当将第一数据写到第一可变电阻器件时,通过与所述第一可变电阻器件相邻的第一写位线施加第一写电流,以及通过与第二可变电阻器件相邻的第二写位线施加第一抑制电流,所述第二可变电阻器件与所述第一写位线相邻、并且在所述第一写位线与所述第二写位线之间,并且所述第一写电流与所述第一抑制电流以相同方向流动。2. 如权利要求1所述的磁阻式RAM,其中每一个可变电阻器件均被布 置于两条写位线之间并与该两条写位线相邻。3. 如权利要求1所述的磁阻式RAM,其中所述第一抑制电流量小于所 述第一写电流量。4. 如权利要求3所述的磁阻式RAM,其中所述第一抑制电流量约为所 述第一写电流量的1/2。5. 如权利要求1所述的磁阻式RAM,其中所述读位线与所述写位线以 这样的方式交错 一条写位线跟着一条读位线,依次地,另一条读位线跟着 该写位线。6. 如权利要求1所述的磁阻式RAM,其中所述第一写电流与所述第一 抑制电流同时流动。7. 如权利要求1所述的^f兹阻式RAM,其中防止电流流经第三写位线' 所述第三写位线被排列在所述第一可变电阻器件的与所述第一写位线所在 的那侧相反的一侧。8. 如权利要求1所述的^i阻式RAM,其中所述石兹阻式RAM还被配置为-.当将第二数据写到所述第一可变电阻器件时,通过与所述第一可变电阻 器件相邻的第三写位线施加第二写电流,以及通过与第三可变电阻器件相邻的第四写位线施加第二抑制电流,所述第 一可变电阻器件在所述第一写位线与所述第三写位线之间,所述第三可变电阻器件与所述第三写位线相邻、并且在所述第三写位线与所述第四写位线之 间,所述第一写电流和所述第二写电流以相同方向流动,并且所述第二写电 流与所述第二抑制电流同时地、并且以相同方向流动。9. 如权利要求8所述的磁阻式RAM,其中所述第二抑制电流量小于所 述第二写电流量。10. 如权利要求9所述的;兹阻式RAM,其中所述第二抑制电流量约为所 述第二写电流量的1/2。11. 如权利要求1所述的磁阻式RAM,其中所述可变电阻器件中的每一 个均被垂直地排列在半导体衬底上;并且所述第一写电流和所述第一抑制电流中的每一个均垂直流动。12. 如权利要求11所述的磁阻式RAM,还包含字线,其被排列在所 述半导体衬底上方的层面,该层面不同于所述位线被排列的层面。13. 如权利要求12所述的磁阻式RAM,其中所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵佑荣,辛允承,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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