用作光盘底基的聚碳酸酯树脂及光盘底基制造技术

本发明专利技术涉及一种聚碳酸酯树脂，其粘均分子量为１０，０００－１７，０００，并在铁含量、游离酚总含量、脱模剂含量、羟端基分数、↑［１］Ｈ－ＮＭＲ谱等方面具有特点。这种聚碳酸酯树脂可以在不把脱模剂用量增加到不必要的程度就具有较少的因溢料而造成的缺陷，因此适合于用作光盘底基材料。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用作光盘底基的聚碳酸酯树脂和一种光盘底基， 更具体地说，本专利技术涉及一种适合于用作具有较少缺陷的光盘底基材 料的聚破酸酯树脂，此缺陷是由于溢料造成的，以及由该树脂成形的 光盘底基.
技术介绍
聚破酸醋树脂因其透明性、耐热性和低吸水性而广泛用作CD, CD-ROM, M0, CD-R， CD-RW, DVD-ROM, DVD-R和DVD-RAM之类的光盘 底基. 一般来说，这类光盘常用下述方法制造在金属模内装有一个 称做刻模的薄镍板，其上有一个通过刻蚀信号，如凹坑和沟槽，形成 的表面，通过注塑成型可将该表面特征转移到由聚碳酸癍成形的底基 上.近些年来，在光盘底基的生产中，为进一步提高大规模生产效率， 已在一个工厂中引进数十台至百台以上的模塑机，同时严格保证质量 控制.但是，虽然刻模没变，或模塑条件没变，且决定聚碳酸酯树脂 流动性的因素如分子量、分子量分布、玻璃化转变温度等都稳定在预 设范围内，但在切除光盘底基中心孔的料把时意外地脱模失敗时有发 生，且光盘底基外围或在外闺形成的细微溢料因脱模失敗而粘在金属 模上，造成树脂屑污染，从而使光盘底基的产率降低到百分之几到百 分之几十.这种现象一般称之为源自溢料的缺陷，可以通过增加脱模 刑的用量来加以防止.但是，脱模刑的用量不能增加到不必要的程度， 因为它会引起光学特性方面的缺陷产生，尤其是在恒温恒湿条件下进 行加速老化试验时，会在聚碳酸酯树脂中加速出现极化和泛白等缺陷， 作为光盘，这还会降低记录数据存贮稳定性的可靠度.本专利技术就是在这种情况下开发出来的，旨在提供一种聚碳酸酯树脂及由该树脂成形的光盘底基，这种聚碳酸醋树脂适合用作光盘底基 材科，它无需将脱模刑用重增加到不必要的程度就能使光盘底基具有 较少的因溢料引起的缺陷.专利技术公开本专利技术人经多方面调研后发现，出现因溢料造成的缺陷与下述因素有关(l)聚破酸醋树脂中的铁含量和游离酚总含量，(2)在原材料 2， 2-(4-羟基苯基)丙坑中的特定杂质和聚碳酸醋树脂中的羟端基分 数，(3)聚破酸酯树脂的铁含量与^-NMR谱，以及(4)聚碳酸醋树脂中 的铁含量和羟端基分数，并因此而完成了笫一专利技术到笫四专利技术. 即，第一专利技术可概括如下1. 一种用于光盘底基的聚碳酸醋树脂，其特征在于粘均分子量为 10， 000-17, 000,铁含量为0.2ppm或更少，游离酚总含量为80ppm或 更少，并含100-500ppm脱模剂.2. —种项1所述的用于光盘底基的聚破酸醋树脂，其中丙稱可溶 物含量为12质量％或更少.3. —种项1或2中所述的用于光盘底基的聚碳酸醋树脂，其中含 有150-350ppm脱模剂.4. 一种项卜3其中之一所述的用于光盘底基的聚破酸醋树脂，其中所述脱模刑是一种多元醉脂肪酸醋.5. —种光盘底基，它包含一种项1-4其中之一所述的用于光盘底基的聚碳酸酶树脂.笫二专利技术可概括如下1. 一种用于光盘底基的聚碳酸醋树脂，其特征在于用含有 1，000ppm或更少的2-(2-羟基苯基)-2-(4-羟基苯基)丙烷(此后称之 为2，4-双酚A), 150ppm或更少的由以下通式(I)代表的对异丙烯基苯 纷的环状二聚体(此后称之为环状IPP 二聚体)<formula>formula see original document page 5</formula>以及150ppm或更少的由以下通式(II)代表的三纷化合物(此后简称其 为三酚)<formula>formula see original document page 5</formula>的2，2-(4-幾基苯基)丙坑(此后称其为双盼A)作为原材料来生产，粘 均分子量为10, 000-17, 000 ，羟端基分数小于7mol % ，并含有 100-500ppm脱模剂.2. —种如项1中所述的用于光盘底基的聚碳酸醋树脂，其游离酚 总含量为80ppm或更少.3. —种項1或2中所述的用于光盘底基的聚破酸酯树脂，它含有 150-350ppm脱模剂.4. 一种项1-3其中之一所述的用于光盘底基的聚碳酸醋树脂，其中所述脱模剂是一种多元醇脂肪酸酯.5. —种光盘底基，它包含一种项1-4其中之一所述的用于光盘底基的聚碳酸酯树脂.第三专利技术可概括如下1. 一种以满足下列条件为特征的用于光盘底基的聚破酸醋树脂(1) 粘均分子量为10， 000-17, 000;(2) 铁含重为0.2ppm或更少；(3) 当在'H-NMR测定的波谗中，以苯环为基准，化学位移8为 7. 0-7. 5 ppm处的强度为1， 000时，在8为1. 02-1. 08和6. 69-6. 73ppm 处的信号强度为0. Ol或更小；以及(4) 含有100-500ppm脱模剂，2. —种如项1所述的用于光盘底基的聚破酸酯树脂，它含有 150-350ppm脱模刑.3. —种项1或2中所述的用于光盘底基的聚破酸酯树脂，其中所 述脱模刑是一种多元醇脂肪酸酯.4. 一种项3中所述的用于光盘底基的聚碳酸酯树脂，其中所述多 元醇脂肪酸酯是一种脂肪酸甘油单酯.5. —种光盘底基，它包含项1-4其中之一所述的用于光盘底基的 聚破酸酯树脂.笫四专利技术可概括如下1. 一种用于光盘底基的聚破酸醋树脂，其特征在于粘均分子量为 10， 000-17， 000，铁含量为0. 2ppm或更少，羟端基分数小于7mo1 % ， 并含100-500ppm脱模刑.2. —种如项1中所迷的用于光盘底基的聚破酸醋树脂，它含有 150-350ppm的脱模刑.3. —种项1或2中所迷的用于光盘底基的聚破酸酯树脂，其中所 述脱模刑是一种多元酸脂肪酸酯 4. 一种项3中所述的用于光盘底基的聚碳酸酯树脂，其中所述多 元醇脂肪酸酯是一种脂肪酸甘油单醋.5. —种光盘底基，它包含一种项1-4其中之一所述的用于光盘底 基的聚破酸癍树脂.附困简述附图说明图1是实施例III-l，对比例III-2和对比例111-3中的一幅 'H-讓谦图(0-2pp迈).图2是实施例III-l，对比例III-2和对比例III-3中的一幅 'H-腿谦困(6-8ppm).图3是对比例III-l中的一幅'H-NMR谱困(0-2ppm). 困4是对比例III-l中的一幅'H-NMR详困(6-8ppm).困5是实施例ni-i,对比例in-i,对比例ni-2和对比例in-3中的一幅放大的'H-NMR谦困(1. 0-1. 5ppm) 困6是实施例ni-i,对比例ni-i，对比例in-2和对比例in-3中的一幅放大的'H-NMR谦困(6. 5-7. 0ppm) 在困i-6中，符号i表示实施例ni-i,对比例in-2和对比例 in-3中的谱，符号2表示对比例in-i中的谱.困7是实施例IV-l,对比例IV-2和对比例IV-3中双酚A的生产 流程示意困.图8是对比例IV-1中双酚A的生产流程示意困.在图7和困8，符号l表示一个反应器，符号3表示一个浓缩步骤， 符号5表示一个结晶步稞，符号7表示一个分离步騍，符号9表示一 个洗涤步骤，符号11表示一个加合物分解步骤，符号12表示蒸馆出 来的苯酚，以及符号U表示双酚A. 实施本专利技术的最佳方式下面将描述本专利技术(笫一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光盘底基的聚碳酸酯树脂组合物，所述组合物包含一种聚碳酸酯树脂和１００－５００ｐｐｍ的脱模剂，其中所述聚碳酸酯树脂的特征在于粘均分子量为１０，０００－１７，０００，铁含量为０．２ｐｐｍ或更少，羟端基分数小于７ｍｏｌ％。

【技术特征摘要】
JP 2000-4-27 2000-127336;JP 2000-5-29 2000-157802;1.一种用于光盘底基的聚碳酸酯树脂组合物，所述组合物包含一种聚碳酸酯树脂和100-500ppm的脱模剂，其中所述聚碳酸酯树脂的特征在于粘均分子量为10,000-17,000，铁含量为0.2ppm或更少，羟端基分...

【专利技术属性】
技术研发人员：富冈达矢，川东宏至，长佐宗广，
申请(专利权)人：出光兴产株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]