一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及微波等离子体加工技术领域，且公开了一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体，所述镀膜设备本体底部的两侧分别固定安装有进气软管和出气软管，所述进气软管的一侧固定套接有控制座，所述控制座的前侧固定安装有支撑板。该微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，通过进气软管的一侧设有控制座，再通过进气软管的下方设有移动滚筒，便于在旋转旋转套时能够带动旋转套在螺纹杆上移动且自转，便于带动连接杆上的移动滚筒在控制座的内腔里移动，通过螺纹杆和控制座之间的角度关系，便于改变移动滚筒对进气软管的挤压程度，从而改变经过进气软管进入到镀膜设备本体内腔里气体的流量。

【技术实现步骤摘要】
一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备
本技术涉及微波等离子体加工
，具体为一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备。
技术介绍
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法，化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术，化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III－V、II－IV、IV－VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制，化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。现有的微波等离子体化学气相沉积镀膜设备底部的一侧都会设有进气管，以对微波等离子体化学气相沉积镀膜设备内导进气体，然而现有的进气管的内直径大小是固定的，当需要控制进入到微波等离子体化学气相沉积镀膜设备内部的流量大小时，需要工作人员从进气管的源头进行调控，费时费力，不便于工作人员快速控制气体的流量。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供了一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，具备便于工作人员控制进入到镀膜设备本体内的气体的流量的优点，解决了上述
技术介绍
中所提出的问题。本技术提供如下技术方案：一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体，所述镀膜设备本体底部的两侧分别固定安装有进气软管和出气软管，所述进气软管的一侧固定套接有控制座，所述控制座的前侧固定安装有支撑板，所述支撑板的一侧固定安装有螺纹杆，所述镀膜设备本体的前侧开设有位于螺纹杆后侧的移动孔，所述螺纹杆的外侧活动套接有旋转套，所述旋转套的外侧活动套接有移动套，所述移动套的后侧固定安装有位于移动孔内腔的连接杆，所述连接杆的后侧活动套接有位于进气软管下方的移动滚筒。精选的，所述镀膜设备本体内腔顶部的中心固定安装有电机，所述电机的输出轴固定套接有旋转板，所述旋转板的底部固定安装有联动板。精选的，所述进气软管的一端和出气软管的一端均固定套接有连接筒，所述连接筒的内侧和外侧均设有螺纹。精选的，所述旋转套的内腔设有内螺纹，所述内螺纹与螺纹杆外侧的螺纹相互啮合，所述螺纹杆和移动孔之间平行，所述螺纹杆的整体与控制座的底部之间的夹角为三十度。精选的，所述移动滚筒位于进气软管的底部和控制座内腔的底部之间，所述控制座内腔的顶部呈倒立半圆形状。精选的，所述旋转套的外侧开设有活动槽，所述活动槽的内腔活动套接有移动套，所述移动套的内壁和旋转套的外部贴合。与现有技术对比，本技术具备以下有益效果：1、该微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，通过进气软管的一侧设有控制座，再通过进气软管的下方设有移动滚筒，便于在旋转旋转套时能够带动旋转套在螺纹杆上移动且自转，便于带动连接杆上的移动滚筒在控制座的内腔里移动，通过螺纹杆和控制座之间的角度关系，便于改变移动滚筒对进气软管的挤压程度，从而改变经过进气软管进入到镀膜设备本体内腔里气体的流量。2、该微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，通过电机的运行可带动旋转板的旋转，便于带动旋转板上的联动板在镀膜设备本体内腔的顶部转动，便于带动镀膜设备本体内腔的气体流动，使得气体能够均匀分布在镀膜设备本体上的衬底的表面周围。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术镀膜设备本体剖视立体结构示意图；图3为本技术控制座立体结构示意图；图4为本技术移动孔立体结构示意图；图5为本技术移动套和旋转套之间爆炸立体结构示意图。图中：1、镀膜设备本体；2、进气软管；3、出气软管；4、控制座；5、支撑板；6、螺纹杆；7、移动孔；8、旋转套；9、移动套；10、连接杆；11、移动滚筒；12、电机；13、旋转板；14、联动板；15、连接筒。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1－5，一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体1，镀膜设备本体1内腔顶部的中心固定安装有电机12，电机12的输出轴固定套接有旋转板13，旋转板13的底部固定安装有联动板14，通过电机12的运行可带动旋转板13的旋转，便于带动旋转板13上的联动板14在镀膜设备本体1内腔的顶部转动，便于带动镀膜设备本体1内腔的气体流动，使得气体能够均匀分布在镀膜设备本体1上的衬底的表面周围，镀膜设备本体1底部的两侧分别固定安装有进气软管2和出气软管3，进气软管2的一端和出气软管3的一端均固定套接有连接筒15，连接筒15的内侧和外侧均设有螺纹，通过进气软管2的一端和出气软管3的一端均设有连接筒15，再通过连接筒15的内侧和外侧均设有螺纹，便于进气软管2和出气软管3与外界管道连接，进气软管2的一侧固定套接有控制座4，控制座4的前侧固定安装有支撑板5，支撑板5的一侧固定安装有螺纹杆6，镀膜设备本体1的前侧开设有位于螺纹杆6后侧的移动孔7，螺纹杆6的外侧活动套接有旋转套8，旋转套8的内腔设有内螺纹，内螺纹与螺纹杆6外侧的螺纹相互啮合，螺纹杆6和移动孔7之间平行，螺纹杆6的整体与控制座4的底部之间的夹角为三十度，通过旋转套8是利用内螺纹与螺纹杆6外侧的螺纹啮合连接，便于在旋转套8旋转时能够带动移动套9在螺纹杆6的外侧移动，通过螺纹杆6的整体与控制座4的底部之间的夹角为三十度，便于移动套9在螺纹杆6的外侧移动时能够改变移动滚筒11对进气软管2的挤压程度，旋转套8的外侧开设有活动槽，活动槽的内腔活动套接有移动套9，所述移动套9的内壁和旋转套8的外部贴合，通过旋转套8是利用活动槽与移动套9连接，再通过移动套9的内壁和旋转套8的内壁贴合，便于旋转套8在移动套9的内腔里旋转，旋转套8的外侧活动套接有移动套9，移动套9的后侧固定安装有位于移动孔7内腔的连接杆10，连接杆10的后侧活动套接有位于进气软管2下方的移动滚筒11，移动滚筒11位于进气软管2的底部和控制座4内腔的底部之间，控制座4内腔的顶部呈倒立半圆形状，通过控制座4内腔的顶部呈倒立半圆形状，使得控制座4内腔的顶部符合进气软管2的形状对进气软管2进行支撑。工作原理：使用时，通过顺时针或者逆时针旋转旋转套8可带动旋转套8沿着螺纹杆6的轨迹移动且自转，从而带动移动滚筒11在控制座4的内腔里移动，从而对进气软管2产生挤压，从而改变了进入到镀膜设备本体1内腔里的流量大小，通过电机12的运行可带动旋转板13的旋转，带动旋转板13上的联动板14在镀膜设备本体1内腔的顶部转动，带动镀膜设备本体1内腔的气体流动，使得气体能够均匀分布在镀膜设备本体1上的衬底的表面周围，即可。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体(1)，其特征在于：所述镀膜设备本体(1)底部的两侧分别固定安装有进气软管(2)和出气软管(3)，所述进气软管(2)的一侧固定套接有控制座(4)，所述控制座(4)的前侧固定安装有支撑板(5)，所述支撑板(5)的一侧固定安装有螺纹杆(6)，所述镀膜设备本体(1)的前侧开设有位于螺纹杆(6)后侧的移动孔(7)，所述螺纹杆(6)的外侧活动套接有旋转套(8)，所述旋转套(8)的外侧活动套接有移动套(9)，所述移动套(9)的后侧固定安装有位于移动孔(7)内腔的连接杆(10)，所述连接杆(10)的后侧活动套接有位于进气软管(2)下方的移动滚筒(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体(1)，其特征在于：所述镀膜设备本体(1)底部的两侧分别固定安装有进气软管(2)和出气软管(3)，所述进气软管(2)的一侧固定套接有控制座(4)，所述控制座(4)的前侧固定安装有支撑板(5)，所述支撑板(5)的一侧固定安装有螺纹杆(6)，所述镀膜设备本体(1)的前侧开设有位于螺纹杆(6)后侧的移动孔(7)，所述螺纹杆(6)的外侧活动套接有旋转套(8)，所述旋转套(8)的外侧活动套接有移动套(9)，所述移动套(9)的后侧固定安装有位于移动孔(7)内腔的连接杆(10)，所述连接杆(10)的后侧活动套接有位于进气软管(2)下方的移动滚筒(11)。


2.根据权利要求1所述的一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，其特征在于：所述镀膜设备本体(1)内腔顶部的中心固定安装有电机(12)，所述电机(12)的输出轴固定套接有旋转板(13)，所述旋转板(13)的底部固定安装有联动板(14)。


3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：因福明，沈杰，
申请(专利权)人：昆山福钻新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32