昆山福钻新材料科技有限公司专利技术

昆山福钻新材料科技有限公司共有21项专利

  • 本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,且公开了一种CVD镀膜机,包括镀膜部件本体,镀膜部件本体的外侧套接有镀膜箱体,且镀膜箱体的底部连接有支撑架,且镀膜部件本体的一端连接有机械泵,镀膜箱体中部的表面分别连接有复合杆件和缓冲部件,且复合杆件...
  • 本实用新型涉及CVD镀膜技术领域,且公开了一种CVD镀膜设备的真空室,包括操作台,所述操作台的内部活动卡接有真空室,所述真空室右端的内部转动套接有取料管,所述取料管的内部滑动套接有固定撑板,所述固定撑板的外部螺纹套接有联动杆,所述真空室...
  • 本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空排气装置,涉及CVD镀膜技术领域,包括底盘和活动底座,所述底盘的内部开设有与活动底座相匹配的活动槽,所述活动底座活动套接于底盘的内侧,且活动底座与底盘之间固定连接有均匀分布的弹簧和阻尼套。该CVD...
  • 本实用新型涉及微波等离子体加工技术领域,且公开了一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备,包括镀膜设备本体,所述镀膜设备本体底部的两侧分别固定安装有进气软管和出气软管,所述进气软管的一侧固定套接有控制座,所述控制座的前侧固定安装有支撑板。该...
  • 本实用新型涉及切削装置技术领域,且公开了一种基于金刚石刀具的切削装置,包括壳体,所述壳体后端固定安装有固定板,所述固定板的左侧面固定安装有步进电机,所述固定板的中部活动连接有传动辊,所述传动辊的表面传动连接有传送带,所述传送带的表面固定...
  • 本实用新型涉及真空电镀设备技术领域,且公开了一种快速清洗的真空镀膜设备,包括中空装置,所述中空装置的内部活动安装有收卷轴和放卷轴,所述收卷轴和放卷轴的一侧分别固定安装有第一齿轮和第二齿轮,所述第二齿轮的一端固定安装有第一电机,所述中空装...
  • 本实用新型涉及等离子镀膜设备技术领域,具体为一种真空镀膜设备,包括壳体,所述壳体的顶面固定有支撑架,所述支撑架的中部活动连接有毛刷辊,所述毛刷辊的前端固定套接有电机一,所述毛刷辊的前后两端均活动连接有定位板,所述支撑架的顶端固定安装有安...
  • 本实用新型涉及等离子体发生装置技术领域,且公开了一种低温等离子体发生器,包括电极片,所述电极片活动安装在第一介质的外侧,所述第一介质的内侧固定安装有第二介质,所述第二介质的内部活动安装有电极杆,所述第一介质的两端均固定安装有堵头,所述堵...
  • 本实用新型公开了一种真空焊接机的焊接机构,涉及焊接设备技术领域,具体为一种真空焊接机的焊接机构,包括工作台,所述工作台顶部的右侧固定安装有焊接机架,所述工作台的顶部固定安装有电动分度盘,且电动分度盘的顶部通过螺钉固定安装有驱动盘,所述驱...
  • 本实用新型涉及电子束焊接技术领域,且公开了一种真空电子束焊接机,包括真空电子束焊接机,所述真空电子束焊接机的一侧设置有密封门,所述真空电子束焊接机底部的内侧固定套接有底座,所述底座顶面的中部固定连接有出料电动推杆,所述出料电动推杆的一端...
  • 本实用新型涉及金刚石砂轮修整技术领域,且公开了一种金刚石砂轮修整装置,包括工作台,所述工作台顶端的左右两侧均固定安装有安装板,所述安装板的另一端活动安装有螺纹杆,所述螺纹杆的外侧面设有活动块,所述活动块的内部开设有螺纹槽。该金刚石砂轮修...
  • 本实用新型涉及焊接机技术领域,且公开了一种真空板焊接机,包括底板,底板顶面的两侧均固定连接有支柱,且支柱的内部活动套接有伸缩板,伸缩板的顶部延伸至支柱的上方且固定连接有顶板,且顶板底面的中部固定连接有焊接总成,支柱的侧面固定连接有第一连...
  • 本实用新型公开了一种等离子体激励器,涉及激励器技术领域,具体为一种等离子体激励器,包括外壳,所述外壳的内部开设有对称分布的圆柱形孔洞,且外壳内部的圆柱形孔洞活动连接有对称分布的螺母,所述外壳的顶部开设有矩形槽口。该等离子体激励器,通过在...
  • 本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空排气装置,涉及真空排气技术领域,具体为一种CVD镀膜设备的真空排气装置,包括底座,所述底座的顶部固定连接有第一泵台,所述第一泵台的外部固定连接有折角导管。该CVD镀膜设备的真空排气装置,通过在底座...
  • 本实用新型涉及CVD镀膜技术领域,且公开了一种CVD镀膜装置的衬底,包括衬底,所述衬底的前后两面均固定安装有凸起,所述衬底的外侧活动安装有第一夹板,所述第一夹板的一侧活动安装有第二夹板,所述第一夹板和第二夹板的顶部通过连接块固定连接,所...
  • 本实用新型涉及CVD镀膜设备技术领域,且公开了一种CVD镀膜设备的真空室,包括真空室本体,所述真空室本体前侧的下部开设有防护槽,所述防护槽内腔的后侧固定安装有伸缩杆,所述伸缩杆的前侧固定安装有操作面板。该CVD镀膜设备的真空室,通过防护...
  • 本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置,涉及镀膜设备技术领域,具体为一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置,包括镀膜机、真空机,所述镀膜机背面固定安装有集气室,且集气室的左右两侧固定安装有硬质分散管,所述集气室外部的一端螺纹套接...
  • 本实用新型涉及电源装置技术领域,且公开了一种等离子体放电源,包括封箱,所述封箱内腔的底面固定连接有滑槽,且滑槽的内部滑动连接有导轨,所述导轨的顶面固定连接有位于封箱内腔的放电源本体,所述封箱底面的中部固定连接有机箱。本实用新型通过冷风机...
  • 本实用新型涉及CVD镀膜设备技术领域,且公开了一种CVD镀膜设备的电气控制柜,包括柜壳,所述柜壳内腔的后侧分别固定安装有电气模块和散热通道,所述柜壳的后侧固定安装有水箱,所述水箱的顶部固定安装有水泵,所述散热通道后侧的一侧通过输出管固定...
  • 本实用新型涉及蚀刻装置技术领域,且公开了一种等离子体蚀刻装置,包括蚀刻腔,所述蚀刻腔的外侧活动安装有电极,所述蚀刻腔的内部上方活动安装有喷气装置,所述喷气装置的上部固定连接有进气管,所述喷气装置的下方活动安装有晶片,所述晶片活动安装有第...