一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统。所述内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，包括：多个真空抽气及充气组件，位于所述多个真空抽气及充气组件上方的微波组件；所述真空抽气及充气组件为可移动真空抽气及充气组件，用于对所述容器的内部抽真空以及充入工作气体以及通过移动与所述微波组件实现切换配合；所述微波组件用于与各个所述真空抽气及充气组件配合以实现微波等离子体化学气相沉积。本实用新型专利技术所述微波组件能够在多个真空抽气及充气组件之间切换，免除了放气、取样及抽真空时微波组件的闲置问题，可以实现微波等离子体化学气相连续沉积，且无需增加成本最高的微波组件，效率即可提升。

【技术实现步骤摘要】
一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统
本技术涉及气相沉积
，尤其涉及一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统。
技术介绍
相对于传统等离子增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，PECVD)，微波等离子体化学气相沉积(MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition，MPCVD)技术内部无电极，不与真空器壁接触，从而避免对薄膜的污染，制备的膜层致密、缺陷少、纯度高，可广泛用于集成电路、5G通讯、太阳电池、新型显示、LED芯片、装饰CMF、单晶金刚石、石墨烯、碳纳米管、高阻隔等领域。由于MPCVD可实现容器内壁镀膜，在化妆品包装、医药领域容器内壁镀膜可显著降低气体透过率，并实现容器与内容物分离的作用，具有极佳的发展前景。然而，现有MPCVD进行容器内壁镀膜效率有待提高。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，旨在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，用于对容器的内壁进行微波等离子体化学气相沉积，其特征在于，包括：多个真空抽气及充气组件，位于所述多个真空抽气及充气组件上方的微波组件；/n所述真空抽气及充气组件为可移动真空抽气及充气组件，用于对所述容器的内部抽真空以及充入工作气体以及通过移动与所述微波组件实现切换配合；/n所述微波组件用于与各个所述真空抽气及充气组件配合以实现微波等离子体化学气相连续沉积。/n

【技术特征摘要】
1.一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，用于对容器的内壁进行微波等离子体化学气相沉积，其特征在于，包括：多个真空抽气及充气组件，位于所述多个真空抽气及充气组件上方的微波组件；
所述真空抽气及充气组件为可移动真空抽气及充气组件，用于对所述容器的内部抽真空以及充入工作气体以及通过移动与所述微波组件实现切换配合；
所述微波组件用于与各个所述真空抽气及充气组件配合以实现微波等离子体化学气相连续沉积。


2.根据权利要求1所述的内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，其特征在于，所述真空抽气及充气组件的数量为2个。


3.根据权利要求1所述的内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，其特征在于，还包括：样品架、与所述样品架中心连接的支撑架；
其中，多个所述真空抽气及充气组件设置在所述样品架上，且与所述样品架中心的距离相同；
所述支撑架用于使所述样品架进行升降...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙耀明，彭晓华，陈寿，王鑫，李彦灼，刘晓东，江俊灵，肖艳苹，
申请(专利权)人：深圳市八六三新材料技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：广东;44