【技术实现步骤摘要】
等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层及其制备方法
本专利技术涉及化工涂料
,具体涉及一种等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层及其制备方法。
技术介绍
对超疏水材料的研究探索表明,超疏水表面的实现不仅需要一个具有微观几何粗糙度的表面,而且需要选择低表面能的材料来实现表面疏水化。常见的制备超疏水涂层的低表面能材料主要有烷烃类化合物、有机硅化合物、含氟化合物和其他化合物等。烷烃类化合物主要是含有功能基团(如羧基、巯基)的一类烷烃小分子化合物(如脂肪酸、十八烷基硫醇等)或聚合物(如聚苯乙烯、聚丙烯和聚二乙烯基苯等)。由于长链烷烃的存在,这类化合物或聚合物能赋予基材表面较好的疏水性。通常通过在粗糙表面修饰带功能性基团的烷烃小分子化合物或在聚合物表面构造粗糙度来制备超疏水表面。有机硅化合物一般具有良好的疏水性,其小分子化合物(如硅氧烷偶联剂、氯硅烷等)通常可水解产生羟基等与基材表面的基团反应,实现对基材表面疏水化修饰。同时,有机硅聚合物(如聚倍硅氧烷等)也是一种优良的成膜介质,在有机硅涂层表面构造粗糙度可以获得理想的超 ...
【技术保护点】
1.一种等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1)对基材的表面进行清洗;/nS2)对基材的表面进行活化;/nS3)疏水涂层的制备,包括:/nS3.1)制备改性疏水硅溶胶溶液:在正硅酸乙酯的水溶液中,调整pH值为碱性进行水解反应,即制得所述改性疏水硅溶胶溶液;/nS3.2)制备水性复合树脂:将水性聚氨酯和水性丙烯酸酯按预设比例进行混合,并加入适量的去离子水进行稀释,混合均匀搅拌30min,即制得所述水性复合树脂;/nS3.3)将制得的所述改性疏水硅溶胶溶液和所述水性复合树脂按照设定的比例搅拌混合均匀,并加入交联剂,混合均匀搅拌30min, ...
【技术特征摘要】
1.一种等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1)对基材的表面进行清洗;
S2)对基材的表面进行活化;
S3)疏水涂层的制备,包括:
S3.1)制备改性疏水硅溶胶溶液:在正硅酸乙酯的水溶液中,调整pH值为碱性进行水解反应,即制得所述改性疏水硅溶胶溶液;
S3.2)制备水性复合树脂:将水性聚氨酯和水性丙烯酸酯按预设比例进行混合,并加入适量的去离子水进行稀释,混合均匀搅拌30min,即制得所述水性复合树脂;
S3.3)将制得的所述改性疏水硅溶胶溶液和所述水性复合树脂按照设定的比例搅拌混合均匀,并加入交联剂,混合均匀搅拌30min,静置15min,即制得疏水涂料;
S3.4)将所述疏水涂料,均匀地涂覆于经步骤S1的前处理的所述基材的表面,干燥固化即制得所述疏水涂层;
S4)纳米沉积超疏水膜的制备:将涂覆有所述疏水涂层的基材放入反应腔内,调整射频及其功率,加入氧气为等离子体,同时滴加疏水液,对所述疏水涂层进行活化沉积处理,纳米沉积超疏水膜沉积吸附于所述疏水涂层的表面,即制得等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层。
2.根据权利要求1所述的等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层制备方法,其特征在于,所述步骤S1具体为:将基材放入反应腔,设定射频及其功率,并在真空条件下,以惰性气体为等离子体,对基材的表面进行清洗;
所述步骤S2具体为:将清洗后的基材放入反应腔,设定射频及其功率,并在真空条件下,以氧气为等离子体,对基材的表面进行活化。
3.根据权利要求2所述的等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层制备方法,其特征在于,步骤S1中,真空的压力为0.08MPa,所述惰性气体为氦气、氮气或氩气,所述射频为连续波,所述射频的功率为150-400W;所述前处理的时间为60-300s;步骤S2中,所述氧气的流量为60-150sccm;所述射频为连续波,所述射频的功率为180-300W;所述表面活化的时间为60-300s。
4.根据权利要求2所述的等离子化学气相沉积的纳米超疏水涂层制备方法,其特征在于,步骤S3.1中,pH值为11。
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【专利技术属性】
技术研发人员:高彦峰,曾楚莹,吕伟桃,梁宸,李嘉惠,
申请(专利权)人:佛山市思博睿科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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