一种等离子化学气相沉积设备制造技术

本发明专利技术提供了一种等离子化学气相沉积设备，由于下部电极上存在磨损速度不同的多个电极区域，通过将下部电极的绝缘层也划分为多个绝缘区域，该多个绝缘区域与磨损速度不同的多个电极区域对应且多个绝缘区域的绝缘特性不同，即根据多个电极区域的磨损速度设置对应的绝缘特性的绝缘区域，以尽量减小下部电极的多个电极区域的磨损程度差异，从而提高了下部电极的磨损一致性，避免因局部磨损过快而导致的斑点等不良的产生，同时也能有效延长下部电极的使用寿命，避免频换新的下部电极所带来的成本增加。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子化学气相沉积设备
本专利技术涉及显示屏制备设备领域，具体涉及一种等离子化学气相沉积设备。
技术介绍
等离子体增强沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，简称PECVD)是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。然而，随着PECVD设备处理基板的数量的增多，其下部电极在长时间的制备过程中会慢慢磨损，使得制备的膜层的局部厚度差异以斑点的形态呈现，即产生斑点等不良。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例致力于提供一种等离子化学气相沉积设备，旨在解决上述问题。本专利技术一实施例提供的一种等离子化学气相沉积设备，包括：平行设置的上部电极和下部电极；其中，所述下部电极包括磨损速度不同的多个电极区域，所述下部电极面向所述上部电极一侧包括绝缘层，所述绝缘层包括与所述多个电极区域对应的绝缘特性不同的多个绝缘区域。在一实施例中，所述多个电极区域中磨损速度较快的电极区域与所述多本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子化学气相沉积设备，其特征在于，包括：/n平行设置的上部电极和下部电极；/n其中，所述下部电极包括磨损速度不同的多个电极区域，所述下部电极面向所述上部电极一侧包括绝缘层，所述绝缘层包括与所述多个电极区域对应的绝缘特性不同的多个绝缘区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子化学气相沉积设备，其特征在于，包括：
平行设置的上部电极和下部电极；
其中，所述下部电极包括磨损速度不同的多个电极区域，所述下部电极面向所述上部电极一侧包括绝缘层，所述绝缘层包括与所述多个电极区域对应的绝缘特性不同的多个绝缘区域。


2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述多个电极区域中磨损速度较快的电极区域与所述多个绝缘区域中绝缘特性较高的绝缘区域对应。


3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述多个绝缘区域沿垂直于所述上部电极和所述下部电极方向的厚度不同。


4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述下部电极背离所述上部电极一侧包括与所述绝缘层层叠设置的母材，所述母材靠近所述绝缘层一侧表面包括对应所述多个绝缘区域的深度不同的多个凹槽，所述绝缘层填充所述多个凹槽。


5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述母...

【专利技术属性】
技术研发人员：闵卿旭，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13