一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘，包含一呈圆形的微波等离子体基片台，所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘，所述托盘的上方放置含金属成分的刀具，利用微波激发的等离子体，在刀具表面沉积CVD金刚石膜，所述托盘上表面有多个圆柱状或者圆台状凸起，含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。利用微波等离子体(MPCVD)方法，在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜。涉及通过对刀具托盘表面凸起的设计，减少微波场中含金属成分的刀具因为尖端放电而导致表面沉积金刚石膜不均匀性的影响，提高MPCVD法在含金属成分的刀具表面沉积均匀金刚石膜的方法。刀具托盘表面形状的改造成本低廉，操作简便。

【技术实现步骤摘要】
一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘
本专利技术属于真空微电子
，具体涉及一种制备金刚石膜的装置及使用该装置在含金属成分的刀具表面制备金刚石膜的方法。
技术介绍
等离子体是继固态，液态，气态之后的作为物质的第四态，在很多领域有着广泛的应用。而要使物质处于等离子体状态，就需要提供一定的能量。微波作为一种电磁波，比较容易的将气体激发成等离子体状态，因此微波等离子体技术在很多领域得到了广泛的应用。微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置一般包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应室，等离子体反应室中设有一个自旋转基片台，以制备金刚石膜为例，微波系统产生的微波进入等离子体反应室，在自旋转基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球，等离子体球紧贴在成膜衬底材料表面，通过调整不同的反应气体以及调整等离子体的工艺参数，可以在基片台表面沉积金刚石薄膜。在含金属成分的刀具表面沉积金刚石膜，能大幅度提升刀具的使用寿命，也能提高加工的质量。但由于刀具切削特有的要求，往往将刀头设计成尖锐的外形。这些尖锐外形的刀具，尤其是含本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘，其特征在于，包含一呈圆形的微波等离子体基片台，所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘，所述托盘的上方放置含金属成分的刀具，利用微波激发的等离子体，在刀具表面沉积CVD金刚石膜，所述托盘的上表面设有多个圆柱状或者圆台状凸起，含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘，其特征在于，包含一呈圆形的微波等离子体基片台，所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘，所述托盘的上方放置含金属成分的刀具，利用微波激发的等离子体，在刀具表面沉积CVD金刚石膜，所述托盘的上表面设有多个圆柱状或者圆台状凸起，含金属成分的刀具放置在突起物的间隙。


2.根据权利要求1所述的刀具托盘，其特征在于：所述托盘和凸起成分为金属W或者金属Mo或者含有W或者Mo的合金。


3.根据权利要求1所述的刀具托盘，其特征在于，所述各圆柱形或者圆台状凸起的直径相同。


4.根据权利要求1所述的刀具托盘，其特征在于，所述各圆柱形或者圆台状凸起的直径不同，越靠近基片台圆心越近的突起物直径越大，距离基片台圆心越远的突起物直径越小。


5.根据权利要求4所述的刀具托盘，其特征在于，所述凸起包含粗凸起和细凸起，其中，所述粗凸起直径4.0毫米，高度9.0毫米；细凸起...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚闯，吴剑波，朱长征，余斌，
申请(专利权)人：上海征世科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31