【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】晶片散热装置本技术涉及一种晶片散热装置,其主要构件为一散热底座及一风扇装置;该散热底座上设有复数个散热鳍片,而该风扇装置设置于该散热底座上,其为一中空且该顶部为一斜面的壳体,有一风扇设置于该壳体之顶部,而该壳体在该斜面顶部较高侧之侧面为一开孔处。近年来在PC产业中,此桥晶片加入了整合图形之功能,如此会造成北桥晶片散热问题;又,CPU速度越来越快,造成主机板之加载电流越来越大,尤其,是VRM区域的L10SFET、Capacitor和Choke往往温度过高,如此会造成VRM区域散热问题。又,请参阅第1图,为传统散热器构造的立体示意图;如图所示,一底座1其上设有复数个散热鳍片10,将该散热器装设于发热元件上,可利用该复数个散热鳍片10使该发热元件散热;但仅使用散热鳍片10散热之效果有限,故在该底座1上设上一风扇2(请参阅第2图),如此可增加该散热器之散热效果:但是该传统散热器只能散热一发热元件,无法同时散热两发热元件,若要散热二发热元件(如同时散热此北桥及VRM区域),则需要二散热嚣,如此不但占空间,且更为耗电。技术的目的是提供一种改良的晶片散热装置,不仅可使该散热器可同时散热二发热元件,又可有良好之散热效率;其中顶部为一斜面壳体可使风扇将风吹向该一正对开孔处的晶片,如此可使该散热器可同时散热两处之发热元件(如,北桥晶片与VRM区域)。本技术的另一个目的是提供一种改良的晶片散热装置,其可依需要而将该散热装置的开孔处摆设于不同方向,如此的设置方式可使用于不同主机板上。本技术又一目的是提供一种改良的晶片散热装置,其可利用一散热器去散热两发热元件,如此可在不影响散热效 ...
【技术保护点】
一种改良的晶片散热装置,其其特征在于包括:一壳体,是一中空且顶部为一斜面的壳体,且在该壳体顶部较高侧之侧面设有一开孔处;及一风扇,设置于壳体顶部。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1、一种改良的晶片散热装置,其其特征在于包括:一壳体,是一中空且顶部为一斜面的壳体,且在该壳体顶部较高侧之侧面设有一开孔处;及一风扇,设置于壳体顶部。2、如权利要求1所述的晶片散热装置,其特征在于还包括一散热底座,是设置于该...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶哲辅,蔡垂儒,
申请(专利权)人:大众电脑股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]
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