对准及成膜装置、对准及成膜方法、电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法。尽管对准用的光源的光量发生变化，仍能够抑制对准标记的识别率的降低。对准装置包括：照相机，所述照相机取得包括对准标记的图像；光源，所述光源向所述对准标记照射光；对准台机构，所述对准台机构基于利用所述照相机对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而得到的图像，调整基板与掩模的相对位置；光量信息取得构件，所述光量信息取得构件取得与来自所述光源的光量相关的光量信息；以及光源输出调整构件，所述光源输出调整构件基于由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息，调整所述光源的输出。

【技术实现步骤摘要】
对准及成膜装置、对准及成膜方法、电子器件的制造方法
本专利技术涉及对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法。
技术介绍
在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，通过使从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模蒸镀到基板上，从而形成有机物层、金属层。在成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，测定基板与掩模的相对位置，在相对位置偏移的情况下，使基板以及/或者掩模相对移动来调整(对准)位置。基板与掩模的相对位置的测定是通过利用设置于真空容器的外侧(大气侧)的上表面的对准照相机对形成于基板和掩模的对准标记进行拍摄来进行的，但由于真空容器内部较暗，因此，一边利用对准用的光源照射基板和掩模的对准标记一边进行拍摄。在专利文献1中提出了如下技术：在曝光装置中，在由于起因于作为基板的晶片的理由而导致对比度值变低的情况下，控制对准用光源的光量。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-175190号公报专利技术要解决的课题但是，对准标记的对比度值并不仅限于起因于基板的理由(例如，通过平坦化工序等，对准标记的台阶变低的情况等)而变化，例如，在由于对准用光源随着时间的经过而劣化等而导致对准用光源的光量降低的情况下，对准标记的对比度值有时也会发生变化。这样的对准用光源的光量的变化使对准标记的识别率降低，使对准的精度降低。
技术实现思路
r>本专利技术的目的在于提供一种对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法，尽管对准用的光源的光量发生变化，仍能够抑制对准标记的识别率的降低。用于解决课题的方案本专利技术的第一方案的对准装置的特征在于，包括：照相机，所述照相机取得包括形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记在内的图像；光源，所述光源向所述对准标记照射光；对准台机构，所述对准台机构基于利用所述照相机对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置；光量信息取得构件，所述光量信息取得构件取得与来自所述光源的光量相关的光量信息；以及光源输出调整构件，所述光源输出调整构件基于由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息，调整所述光源的输出。本专利技术的第二方案的成膜装置是用于将蒸镀材料经由掩模成膜到基板上的成膜装置，其特征在于，包括上述对准装置。本专利技术的第三方案的对准方法是调整基板与掩模的相对位置的对准方法，其特征在于，所述对准方法具有：相对位置调整步骤，在所述相对位置调整步骤中，利用光源向形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记照射光，基于对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而取得的图像来调整所述基板与所述掩模的相对位置；光量信息取得步骤，在所述光量信息取得步骤中，取得与来自所述光源的光量相关的光量信息；以及光源输出调整步骤，在所述光源输出调整步骤中，基于在所述光量信息取得步骤中取得的所述光量信息，调整所述光源的输出。本专利技术的第四方案的成膜方法是用于将蒸镀材料经由掩模成膜到基板上的成膜方法，其特征在于，包括上述对准方法。本专利技术的第五方案的电子器件的制造方法的特征在于，使用上述成膜方法来制造电子器件。专利技术效果根据本专利技术，即便存在对准用的光源的光量的变化，在调整基板与掩模的相对位置时，也能够抑制对准标记的识别率的降低，能够抑制对准精度的降低。附图说明图1是电子器件的制造装置的一部分的示意图。图2是本专利技术的一实施方式的成膜装置的示意图。图3是本专利技术的一实施方式的对准装置的示意图。图4是表示由基板以及掩模的对准标记与照相机的距离带来的对比度值(Cw(Z)、Cm(Z))的变化的曲线图。图5是表示本专利技术的一实施方式的对准方法的流程图。图6(a)、(b)是表示电子器件的示意图。附图标记说明22：基板支承单元、23：掩模支承单元、24：静电吸盘、29：位置调整机构、31：对准用照相机、33：控制部、100：对准装置、101：照相机、102：光源、103：光源输出控制构件、104：光量信息取得构件、105：对准台机构、106：通知构件、107：照相机位置移动构件、108：基准位置决定构件具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的优选实施方式以及实施例进行说明。但是，以下的实施方式以及实施例仅仅例示性地示出本专利技术的优选结构，本专利技术的范围并不限定于这些结构。另外，以下说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等只要没有特定性的记载，其主旨并非将本专利技术的范围仅限定于此。本专利技术可以应用于在基板的表面堆积各种材料而进行成膜的装置，可以优选应用于通过真空蒸镀而形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、高分子材料的膜、金属、硅等任意材料，基板例如可以是在玻璃基板上层叠有聚酰亚胺等膜的基板或硅片。另外，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、金属性材料(金属、金属氧化物等)等任意材料。需要说明的是，除了在以下的说明中说明的真空蒸镀装置以外，也可以在包括溅射装置、CVD(ChemicalVaporDeposition：化学气相沉积)装置的成膜装置中应用本专利技术。具体而言，本专利技术的技术可以应用于有机电子器件(例如，有机EL元件、薄膜太阳能电池)、光学部件等的制造装置。其中，通过使蒸镀材料蒸发并经由掩模蒸镀到基板上而形成有机EL元件的有机EL元件的制造装置是本专利技术的优选应用例之一。<电子器件的制造装置>图1是示意性地表示电子器件的制造装置的局部结构的俯视图。图1的制造装置例如用于有机EL显示装置的显示面板的制造。在VRHMD用的显示面板的情况下，在规定尺寸的硅片上进行用于形成有机EL元件的成膜后，沿着元件形成区域之间的区域(划线区域)切出该硅片，制作多个小尺寸的面板。在智能手机用的显示面板的情况下，在4.5代的基板(约700mm×约900mm)或6代的全尺寸(约1500mm×约1850mm)或半切割尺寸(约1500mm×约925mm)的基板上进行用于形成有机EL元件的成膜后，切下该基板而制作多个小尺寸的面板。电子器件的制造装置一般而言包括多个群组装置1和将群组装置之间相连的中继装置。群组装置1具备：对基板W进行处理(例如，成膜)的多个成膜装置11、收纳使用前后的掩模M的多个掩模储备装置12、以及配置在其中央的输送室13。如图1所示，输送室13与多个成膜装置11以及掩模储备装置12分别连接。在输送室13内配置有输送基板或掩模的输送机器人14。输送机器人14将基板W从配置在上游侧的中继装置的通路室15向成膜装置11输送。另外，输送机器人14在成膜装置11与掩模储备装置12之间输送掩模M。输送机器人14例如是具有如下结构的机器人，即在多关节臂上安装有保持基板W或掩模M的机械手。在成膜装置11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对准装置，其特征在于，所述对准装置包括：/n照相机，所述照相机取得包括形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记在内的图像；/n光源，所述光源向所述对准标记照射光；/n对准台机构，所述对准台机构基于利用所述照相机对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置；/n光量信息取得构件，所述光量信息取得构件取得与来自所述光源的光量相关的光量信息；以及/n光源输出调整构件，所述光源输出调整构件基于由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息，调整所述光源的输出。/n

【技术特征摘要】
20191218 KR 10-2019-01701321.一种对准装置，其特征在于，所述对准装置包括：
照相机，所述照相机取得包括形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记在内的图像；
光源，所述光源向所述对准标记照射光；
对准台机构，所述对准台机构基于利用所述照相机对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置；
光量信息取得构件，所述光量信息取得构件取得与来自所述光源的光量相关的光量信息；以及
光源输出调整构件，所述光源输出调整构件基于由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息，调整所述光源的输出。


2.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述光源输出调整构件每当进行N次调整所述基板与所述掩模的相对位置的动作时，调整所述光源的输出，其中，所述N为自然数。


3.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，
所述N为1。


4.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置还包括存储基准光量信息的存储器，
所述光源输出调整构件对由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息和所述基准光量信息进行比较，判断是否调整所述光源的输出。


5.如权利要求4所述的对准装置，其特征在于，
在由所述光量信息取得构件取得的所述光量信息比所述基准光量信息小的情况下，所述光源输出调整构件增大所述光源的输出。


6.如权利要求5所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置还包括通知构件，所述通知构件在由所述光源输出调整构件调整后的所述光源的输出达到规定值时，告知所述光源处于更换时期。


7.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述光量信息取得构件基于利用所述照相机对利用所述光源照射了光的所述对准标记进行拍摄而得到的图像信息，取得所述光量信息。


8.如权利要求7所述的对准装置，其特征在于，
所述图像信息包括利用所述照相机拍摄到的图像的对比度值。


9.如权利要求8所述的对准装置，其特征在于，
所述对准装置还包括：
照相机移动构件，所述照相机移动构件使所述照相机的位置移动；以及
基准位置决定构件，所述基准位置决定构件使用利用所述照相机移动构件使所述照相机移动而取得的多个图像，决定所述照相机相对于所述对准标记的基准位置，
所述光量信息取得构件基于在所述基准位置处利用所述照相机取得的图像的对比度值，取得所述光量信息。


10.如权利要求9所述的对准装置，其特征在于，
所述基准位置决定构件将所述基板的对比度值最大的第一位置和所述掩模的对比度值最大的第二位置中的任一方决定为所述基准位置。


11.如权利要求9所述的对准装置，其特征在于，
所述照相机移动构件使所述照相机在与基板面或掩模面垂直的方向上移动，从而取得所述多个图像。


12.一种成膜装置，用于将蒸镀材料经由掩模成膜到基板上，其特征在于，
所述成膜装置包括权利要求1至11中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：菅原洋纪，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP