对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供提高对准精度的对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法。对准装置具备：第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；第2照相机，具有与第1照相机不同的分辨率，拍摄对准标记；反射光取得用的第1光源，向对准标记照射光；透射光取得用的第2光源，向对准标记照射光；以及位置调整机构，基于由第1照相机或第2照相机拍摄由第1光源或第2光源照射了光的对准标记而得到的图像，调整基板与掩模的相对位置。使向对准标记照射光的光源在利用第1照相机取得对准标记的图像的情况下和利用第2照相机取得对准标记的图像的情况下不同。

【技术实现步骤摘要】
对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法
本专利技术涉及对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法。
技术介绍
在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，将从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料隔着形成有像素图案的掩模蒸镀于基板，由此形成有机物层、金属层。在成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，测定基板与掩模的相对位置，在相对位置偏移的情况下，使基板和/或掩模相对移动来调整(对准)位置。基板与掩模的相对位置的测定通过利用设置于真空容器的外侧(大气侧)的上表面的对准照相机对形成于基板与掩模的对准标记进行拍摄来进行。由于真空容器内部较暗，因此在利用对准用的光源照射基板与掩模的对准标记的同时进行拍摄。通常，对准用光源与对准照相机同样地设置在真空容器的外侧上表面。在该情况下，对准照相机接收来自基板和掩模的反射光，取得包含对准标记的图像，但由于在基板的设置有对准标记的部分及其周围的部分的反射光量的差小，因此存在对比度低、难以取得高分辨率的图像的问题。如果由对准照相机取得的图像的分辨率不充分高，则对准精度降低，使成膜精度降低。为了以高分辨率拍摄对准标记，考虑将对准用光源设置在真空容器的内部的方法。由此，对准照相机相对于基板和掩模，使用从设置于相反侧的对准用光源照射并通过了基板和掩模的透射光，取得图像，因此能够取得相对高分辨率的图像。但是，如果对准标记不位于透射光的路径上，则在所取得的图像中不显现对准标记，因此存在无法识别对准标记的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供能够提高对准精度的对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法。用于解决课题的技术方案本专利技术的第1方式的对准装置，其特征在于，该对准装置具备：第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；第2照相机，具有与所述第1照相机不同的分辨率，拍摄所述对准标记；反射光取得用的第1光源，向所述对准标记照射光；透射光取得用的第2光源，向所述对准标记照射光；以及位置调整机构，基于由所述第1照相机或所述第2照相机拍摄由所述第1光源或所述第2光源照射了光的所述对准标记而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置，使向所述对准标记照射光的光源在利用所述第1照相机取得所述对准标记的图像的情况下和利用所述第2照相机取得所述对准标记的图像的情况下不同。本专利技术的第2方式的成膜装置，用于使蒸镀材料隔着掩模在基板上成膜，其特征在于，该成膜装置包括所述对准装置。本专利技术的第3方式的对准方法，用于调整基板与掩模的相对位置，其特征在于，该对准方法包括：第1图像取得步骤，利用第1照相机对由反射光取得用的第1光源以及透射光取得用的第2光源中的一方的光源照射了光的形成于基板或者掩模的对准标记进行拍摄，取得第1图像；第1相对位置调整步骤，基于所述第1图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置；第2图像取得步骤，利用具有与所述第1照相机不同的分辨率的第2照相机对由所述第1光源和所述第2光源中的另一方的光源照射了光的所述对准标记进行拍摄，取得第2图像；以及第2相对位置调整步骤，基于所述第2图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置。本专利技术的第4方式的成膜方法，用于使蒸镀材料隔着掩模在基板上成膜，其特征在于，该成膜方法包括所述对准方法。本专利技术的第5方式的电子器件的制造方法，其特征在于，该电子器件的制造方法使用所述成膜方法来制造电子器件。专利技术效果根据本专利技术，能够提高对准精度。附图说明图1是电子器件的制造装置的一部分的示意图。图2是本专利技术的一实施方式的成膜装置的示意图。图3是本专利技术的一实施方式的对准装置的示意图。图4A是表示本专利技术的一实施方式的贯穿孔的形状的掩模的一部分的截面示意图。图4B是表示贯穿孔的形状的掩模的一部分的截面示意图。图5是本专利技术的一实施方式的对准方法的流程图。图6是表示电子器件的示意图。图7是说明圆形的基板和对准标记的配置的图。附图标记的说明22：基板支承单元；23：掩模支承单元；24：静电卡盘；29：位置调整机构；31：对准用照相机；33：控制部；101：照相机部；102a：反射光取得用的光源；102b：透射光取得用的光源；103：位置调整机构；104：光源选择部。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式及实施例进行说明。但是，以下的实施方式以及实施例只不过是例示性地表示本专利技术的结构，本专利技术的范围并不限定于这些结构。另外，以下的说明中的装置的硬件结构及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等只要没有特定的记载，则并非旨在将本专利技术的范围仅限定于此。本专利技术能够应用于使各种材料堆积在基板的表面而进行成膜的装置，能够优选应用于通过真空蒸镀形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，能够选择玻璃、高分子材料的膜、金属等任意的材料，基板例如也可以是在玻璃基板上层叠有聚酰亚胺等膜的基板或硅晶圆。另外，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、金属性材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。另外，除了在以下的说明中说明的真空蒸镀装置以外，在包含溅射装置、CVD(ChemicalVaporDeposition：化学气相沉积)装置在内的成膜装置中，也能够应用本专利技术。本专利技术的技术具体可应用于有机电子器件(例如，有机发光元件、薄膜太阳能电池)、光学构件等的制造装置。其中，通过使蒸镀材料蒸发而隔着掩模蒸镀到基板上从而形成有机发光元件的有机发光元件的制造装置是本专利技术的优选应用例之一。[电子器件的制造装置]图1是示意性地表示电子器件的制造装置的一部分结构的俯视图。图1的制造装置例如用于有机EL显示装置的显示面板的制造。在VRHMD用的显示面板的情况下，在规定的尺寸的硅晶圆上进行用于形成有机EL元件的成膜后，沿着元件形成区域之间的区域(划线区域)切出该硅晶圆，制作多个小尺寸的面板。在智能手机用的显示面板的情况下，例如，在4.5代的基板(约700mm×约900mm)或6代的全尺寸(约1500mm×约1850mm)或半切割尺寸(约1500mm×约925mm)的基板上进行用于形成有机EL元件的成膜后，将该基板切下来制作成多个小尺寸的面板。电子器件的制造装置通常包括多个集群装置1和在集群装置之间连接的中继装置。集群装置1具备进行对基板W的处理(例如成膜)的多个成膜装置11、收纳使用前后的掩模M的多个掩模储存装置12、以及配置于其中央的搬送室13。如图1所示，搬送室13分别与多个成膜装置11以及掩模储存装置12连接。在搬送室13内配置有搬送基板以及掩模的搬送机器人14。搬送机器人14将基板W从配置于上游侧的中继装置的路径室15向成膜装置11搬送。另外，搬送机器人14在成膜装置11与掩模储存装置12之间搬送掩模M。搬送机器人14例如是在多关节臂上安装有保持基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对准装置，其特征在于，/n该对准装置具备：/n第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；/n第2照相机，具有与所述第1照相机不同的分辨率，拍摄所述对准标记；/n反射光取得用的第1光源，向所述对准标记照射光；/n透射光取得用的第2光源，向所述对准标记照射光；以及/n位置调整机构，基于由所述第1照相机或所述第2照相机拍摄由所述第1光源或所述第2光源照射了光的所述对准标记而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置，/n使向所述对准标记照射光的光源在利用所述第1照相机取得所述对准标记的图像的情况下和利用所述第2照相机取得所述对准标记的图像的情况下不同。/n

【技术特征摘要】
20191218 KR 10-2019-01702241.一种对准装置，其特征在于，
该对准装置具备：
第1照相机，拍摄形成于基板的对准标记和形成于掩模的对准标记；
第2照相机，具有与所述第1照相机不同的分辨率，拍摄所述对准标记；
反射光取得用的第1光源，向所述对准标记照射光；
透射光取得用的第2光源，向所述对准标记照射光；以及
位置调整机构，基于由所述第1照相机或所述第2照相机拍摄由所述第1光源或所述第2光源照射了光的所述对准标记而得到的图像，调整所述基板与所述掩模的相对位置，
使向所述对准标记照射光的光源在利用所述第1照相机取得所述对准标记的图像的情况下和利用所述第2照相机取得所述对准标记的图像的情况下不同。


2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，
所述第2照相机的分辨率比所述第1照相机的分辨率高，
在利用所述第1照相机取得所述对准标记的图像的情况下，利用所述第1光源向所述对准标记照射光，在利用所述第2照相机取得所述对准标记的图像的情况下，利用所述第2光源向所述对准标记照射光。


3.根据权利要求2所述的对准装置，其特征在于，
该对准装置还包括支承所述掩模的掩模支承单元，
所述第1光源相对于所述掩模支承单元位于与所述第1照相机相同侧，所述第2光源相对于所述掩模支承单元位于与所述第2照相机相反侧。


4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，
所述掩模包括形成有规定的开口图案的掩模箔和用于固定所述掩模箔的外周面的掩模框架，
所述第2光源通过形成于所述掩模框架的...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿部大和，菅原洋纪，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP