【技术实现步骤摘要】
一种用于镀膜机的控温装置
本技术涉及镀膜机领域,尤其涉及一种用于镀膜机的控温装置。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。一般真空镀膜机的原理设置相同,在炉内设置一个热源提供相应的加热作业,但是因为蒸发源的面积不可能控制与基片的大小相同,在加热时如果不对各区域进行独立的温度控制,受离子溅射的范围影响,不能够保证基片表面镀膜均匀,整体温度控制精度也无法提高,从而降低了整体的镀膜效率。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于镀膜机的控温装置。为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种用于镀膜机的控温装置,包括真空炉,所述真空炉的内部底表面设置有蒸发源,所述真空炉的一侧内壁设置有第一加热器,所述真空炉的另一侧内壁设置有第二加热器,所述真空炉的内部上侧位置设置有第三加热器,所述第一加热器、第二加热器和第三加热器上均等 ...
【技术保护点】
1.一种用于镀膜机的控温装置,包括真空炉(1),其特征在于:所述真空炉(1)的内部底表面设置有蒸发源(2),所述真空炉(1)的一侧内壁设置有第一加热器(3),所述真空炉(1)的另一侧内壁设置有第二加热器(4),所述真空炉(1)的内部上侧位置设置有第三加热器(5),所述第一加热器(3)、第二加热器(4)和第三加热器(5)上均等距设置有多个加热管(10),所述第三加热器(5)的下方设置有基片(6),所述真空炉(1)的内壁对应基片(6)的下表面后侧设置有多个膜厚仪(7),所述真空炉(1)的内部顶表面设置有温度感应器(8),所述真空炉(1)的外表面一侧连接有控制器(9)。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于镀膜机的控温装置,包括真空炉(1),其特征在于:所述真空炉(1)的内部底表面设置有蒸发源(2),所述真空炉(1)的一侧内壁设置有第一加热器(3),所述真空炉(1)的另一侧内壁设置有第二加热器(4),所述真空炉(1)的内部上侧位置设置有第三加热器(5),所述第一加热器(3)、第二加热器(4)和第三加热器(5)上均等距设置有多个加热管(10),所述第三加热器(5)的下方设置有基片(6),所述真空炉(1)的内壁对应基片(6)的下表面后侧设置有多个膜厚仪(7),所述真空炉(1)的内部顶表面设置有温度感应器(8),所述真空炉(1)的外表面一侧连接有控制器(9)。
2.根据权利要求1所述的一种用于镀膜机的控温装置,其特征在于:所述蒸发源(2)固定连接在真空炉(1)的内部底表面中间位置。
3.根据权利要求1所述的一种用于镀膜机的控温装置,其特征在于:所述第一加热器(3)和第二加热器(4)在真空炉(1)的内部两侧呈相对设置,所述第一加热器(3)和第二加热器(4)的上端面高于基片(6)的底表面所在面。
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【专利技术属性】
技术研发人员:莫勇,
申请(专利权)人:重庆亿博光电仪器有限公司,
类型:新型
国别省市:重庆;50
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