掩模交易系统及方法技术方案

技术编号:2878207 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的掩模交易系统和方法通过掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换,可以更正确地判断掩模可否。掩模交易系统的主机装置20,具有通过网络与购买者进行信息交换的购买代理22、和与销售者进行信息交换的销售代理24。将通过购买代理22输入的包括掩模规格的掩模制作订购,存储于制作订购文件42中。主机装置20还具有存储显示掩模制品中图案拐角部的二维形状的形状图像的图像数据文件50。形状图像通过销售代理24输入。形状图像通过销售代理22,由图像提供部36提供给掩模购买者。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种通过网络进行制造半导体装置用的光掩模(plotomask)的交易的。伴随着半导体回路的高度集成化及微小化,在上述的掩模交易中产生了几个问题。首先,由于掩模购买者要求的规格非常严格,掩模制造的成品率降低,价格升高。另外,伴随微小化的发展,曝光过程随着光邻近效应(OPE)的增大而发生变化,用以往的掩模制造工厂的完成检查,判断掩模制品是否满足掩模购买者的要求很难。具体的说,例如,掩模上的图案拐角部分的二维形状对晶片上的图案形成影响很大,该影响程度依赖于在曝光过程中使用的曝光装置及保护层材料。因此,在掩模制造工厂中判断掩模购买者可以容许完成到哪一程度是非常困难的。另外,即使涉及多方面的掩模的全部规格项目(尺寸、缺陷、渗透率及相位差等)都不满足时,在特定的限制下掩模购买者也可以使用掩模。例如,即使掩模上有缺陷,但若晶片上的图案形状的完成已经确认,掩模购买者依然可以充分使用该掩模。此时,预期等待完美的掩模的完成,不如边使用不完美的掩模边开始晶片处理,这样合计的成本有可能产生价值。本专利技术鉴于以往技术的问题点,目的在于提供一种根据掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换,可以更正确地判断掩模制品可否的掩模交易系统及其方法。本专利技术的第2方面为用于交易制造半导体装置用的光掩模,利用具有通过网络与掩模购买者进行信息交换的购买中介部、与掩模销售者进行信息交换的销售中介部的系统进行的掩模交易方法,其特征在于,该方法包括存储通过上述购买中介部输入的包含掩模规格的掩模制作订购信息的步骤;存储通过上述销售中介部输入的形状图像的步骤,该形状图像为,显示根据上述掩模规格在掩模制造工厂制作的掩模制品中,图案拐角部分的二维形状的形状图像;以及通过上述购买中介部向上述掩模购买者提供上述形状图像的步骤。本专利技术的第3方面为用于交易制造半导体装置用的光掩模,利用具有通过网络与掩模购买者进行信息交换的购买中介部、与掩模销售者进行信息交换的销售中介部的系统进行的掩模交易方法,其特征在于,该方法包括将通过上述购买中介部输入的包含掩模规格的掩模制作订购信息存储于上述系统的步骤;通过上述购买中介部从上述系统向掩模制造工厂传送上述掩模制作订购信息的步骤;在掩模制造工厂中根据上述掩模的规格制作掩模制品的步骤;形成显示上述掩模制品中图案拐角部分的二维形状的形状图像的步骤;存储通过销售中介部向系统中输入的上述形状图像的步骤;通过上述购买中介部从上述系统向上述掩模购买者提供上述形状图像的步骤;向上述掩模购买者提供上述形状图像后,通过上述购买中介部让掩模购买者选择是购买上述掩模制品还是根据上述掩规格重新制作的选择步骤。而且,本专利技术的实施方式中包括各种阶段的专利技术,在被公开的多个构成要件中根据适当的组合提取得到各项专利技术。例如,实施方式中所示的,从全构成要件中省略几个构成要件而将专利技术提取的情况下,在实施该被提取的专利技术时可以用众所周知的惯用技术适当地补充省略部分。图2表示的是使用附图说明图1所示的系统进行的掩模交易方法的业务流程的流程图。图3表示的是输入掩模制作订购时,向掩模购买者显示的画面。图4表示的是选择是否让掩模进行制作时,对掩模购买者显示的画面。图5表示的是向掩模购买者显示检查数据及形状图像的画面。图6表示的是在图5所示的画面中,选择了「转印模拟」时,向掩模购买者显示的画面。图7表示的是向掩模购买者询问如何进行掩模交易时的显示画面。图8表示的是计算出掩模制品的再设定价格后向掩模购买者显示的画面。符号说明12网络14使用者终端20掩模交易系统的主机装置22购买代理(购买中介部)24销售代理(销售中介部)26接受订购部28计算部30进行选择部32制作指示部34检查数据提供部36图像提供部38模拟部40数据库42制作订购文件44缴纳期限信息文件46价格信息文件48检查数据文件50图像数据文件 52转印信息文件60掩模制造工厂在本实施方式中,掩模交易系统的主机装置(掩模工厂,マスクハウス)20被设置在通过网络12,特别是互联网(公众通信线路网)的传送线路,由个人电脑等构成的使用者终端14可以访问的场合。因此,主机装置20,即主计算机(Web服务器、应用服务器、数据库服务器),具有作为对掩模购买者(顾客用户或代理其的营业员)进行信息交换的窗口的购买代理(购买中介部)22,其与网络12连接。另外,主机装置20还具有,作为对掩模制造销售者的掩模制造工厂60进行信息交换的窗口的销售代理(销售中介部)24,将其与通向掩模制造工厂60专用线路62连接。而且,图中符号16、18分别表示调制解调器、连接服务器。主机装置20中附设数据库40,在数据库40中则形成制作订购文件42、缴纳期限信息文件44、价格信息文件46、检查数据文件48、图像数据文件50和转印信息文件52等。在制作订购文件42中存储通过购买代理输入的包括掩模规格(在本实施方式中包括检查说明)、数量及希望缴纳期限等信息的掩模制作订购信息。而且,掩模购买者与销售者之间,预先设定掩模制品名称及制品号码的情况下,可以用掩模制品的名称及制品号码代替掩模的规格。缴纳期限信息文件44中存储包括掩模制作状态与掩模的缴纳期限之间关系的缴纳期限信息。价格信息文件46中,存储包含掩模制作状态与掩模价格之间关系及掩模制品所产生问题的程度与掩模再设定价格之间关系的价格信息。检查数据文件48中,存储通过销售代理24输入的,在掩模制造工厂60所制作的掩模制品的检查数据。检查数据中包括形成掩模制品的布线范围的面内均一性、掩模上所产生的缺陷相关的数据,还包括在移相掩模(plase shift mask)的情况下穿透率、相位差相关的数据。图像数据文件50存储根据掩模规格在掩模制造工厂60制作的掩模制品中的图案拐角部,例如显示开口部的拐角部的二维形状的形状图像,例如扫描型电子显微镜(SEM)照片上的数据。检查数据及形状图像在掩模制造工厂60或另设的检查部门制作成,通过销售代理输入。而且,检查数据等的内容依赖于掩模购买者输入的掩模制作订购中的检查说明等,可以进行适当的变更。转印信息文件52中存储包括使用掩模的曝光装置的规格,例如曝光的光波长及NA(开口数),和用各种方式进行图案曝光时得到的转印图像(転写イメ一ジ)之间关系的转印信息。利用数据库40中所存储的上述信息,为实现掩模购买者与掩模销售者之间的第1阶段的中介,主机装置20设有接受订购部26、计算部28、制造指示部32等。接受订购部26通过购买代理22接受掩模购买者输入的上述掩模制作订购。计算部28则参照上述价格信息及缴纳期限信息,响应掩模制作订购,算出掩模制品的预定缴纳期限及预定价格。计算出的预定缴纳期限及预定价格由接受订购部26通过购买代理22,向购买者传送,用于选择是否进行掩模的制作。制作指示部32在接受订购部26中选择让掩模的制作进行时,通过销售代理24向掩模制造工厂60传送掩模制作订购的信息。然后,利用数据库40中所存储的上述信息,为实现掩模购买者与掩模制造工厂60之间的第2阶段的中介,主机装置20设有检查数据提供部34、图像提供部36、模拟部38及进行选择部30等。检查数据提供部34及图像提供部36通过购买代理22,分别向掩模购买者提供上述检查数据及形状图像。模拟部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:购买中介部,用于通过网络与掩模购买者进行信息交换;销售中介部,与掩模销售者进行信息交换;制作订购存储部,用于存储包括通过上述购买中介部输入的掩模规格的掩模订购; 图像存储部,用于存储通过上述销售中介部输入的形状图像,该形状图像为依据上述掩模规格在掩模制造工厂制作的掩模制品中,显示图案拐角部分的二维形状的形状图像;以及图像提供部,用于通过上述购买中介部向上述掩模购买者提供上述形状图像。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:野昌史奥村勝弥小谷敏也池田隆洋
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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