图案模拟方法技术

本发明专利技术提供一种能容易地发出分划板数据及曝光用数据的设计错误的图案模拟方法。分划板数据是将在玻璃基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案。曝光用数据表示将分划板图案拍摄在玻璃基板的哪个位置上。利用分划板数据及曝光用数据在玻璃基板上形成基板图案之际，对玻璃基板上每次拍摄的曝光区域作ＯＲ运算。根据ＯＲ运算模拟玻璃基板上的曝光图案。利用分划板数据及曝光用数据能容易地检查在玻璃基板上形成基板图案之际的玻璃基板上的未曝光的遮光区域。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关对在基板上被曝光的曝光图案进行模拟的图案模拟方法、其程序、及其装置。
技术介绍
通常，液晶显示装置有扫描线、信号线等布线、象素电极等电极、或薄膜晶体管(Thin Film TransistorTFT)等开关元件。而且这些布线、电极、及开关元件各自通过反复以下的工序而形成，即成膜工序中，在基板上形成导电体或电介质等薄膜；涂布工序中，在成膜的薄膜上涂布光刻胶；曝光工序中借助有规定图案的分划板(reticle)使涂布的光刻胶曝光；显象工序中，使曝光过的光刻胶显象；腐蚀工序中，除去消除该光刻胶后露出的薄膜。另外，近些年，随着液晶显示装置画面的增大，包括在玻璃基板上曝光的TFT阵列图案在内的液晶显示屏的大小比曝光设备的掩膜尺寸大，所以采用将基板分割成多个区域通过依次对应的掩膜对各区域的光刻胶曝光的分区曝光处理方法。而用该分区曝光处理方法、在被曝光的区域间有被称为多次曝光区域的具有3-10μm宽的分割线上的区域。该分割线上的区域被多次曝光。而且作为分区曝光处理用的光掩模的分划板通常采用计算机设计(Computer Aided Design CAD)系统设计。而作为该分区曝光处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案模拟方法，是对根据分划板数据和曝光用数据模拟在基板上曝光形成的基板图案进行模拟的图案模拟方法，所述分划板数据用于表示将想要在所述基板上形成的全部图案分割成多个区域的每个分割区域的分划板图案，所述曝光用数据用于表示将所述分划板图案拍摄在所述基板的哪个位置上，其特征在于，在利用所述分划板数据及曝光用数据在所述基板上形成所述基板图案之际，对与该基板上的每次拍摄曝光的多个区域相当的图案作ＯＲ运算，根据这一ＯＲ运算，模拟所述基板被曝光一次以上的区域的图案。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：樫本登，伊月义治，
申请(专利权)人：东芝松下显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]