晶圆清洗液水柱位置检测装置制造方法及图纸

一种晶圆清洗液水柱位置检测装置，其包含：　　　　一光学信号发射装置，具有光学信号发射源，该光学信号发射装置设于一晶圆承载台的第一侧边，且该光学信号发射源中心正对该晶圆承载台的旋转中心；　　　　一光学信号接收装置，设于一晶圆承载台第一侧边的对面侧边，具有接收该光学信号发射源射出的光学信号的能力；及　　　　一信号处理装置，与光学信号接收装置相连接，可判定该光学信号接收装置的接收状况；　　　　其中该光学信号接收装置在该光学信号穿越清洗液水柱时接收到较微弱的光学信号；　　　　其中该信号处理装置，具有输出端，以输出该接收状况给远方监控端。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

Wafer cleaning liquid column position detecting device

A wafer cleaning liquid column position detection device, it includes an optical signal transmitting device with optical signal source, the optical signal transmitting device is arranged on a first side edge of the wafer bearing platform, and the center of rotation of the optical signal emission source center on the wafer bearing platform; an optical signal receiving device, which is arranged on a the first wafer bearing side of the opposite side, with optical signal receiving the optical signal emitted from the emission source; and a signal processing device is connected with the optical signal receiving device, can determine the status of the received optical signal receiving device; wherein the received optical signal is relatively weak. The optical signal receiving device through the cleaning liquid in the water column optical signal; the signal processing device is lost The receiving end is used to output the receiving condition to the remote monitoring end.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术系有关于一种晶圆清洗液水柱位置监控装置，系有关于一种装置用于晶圆清洗液水柱位置检测，且有关于一种装置可广泛用于监控晶圆清洗系统中的清洗液水柱喷洒位置检测装置，该装置具有监视清洗液水柱位置的能力，进而能使清洗液水柱位置状况显示出来，及可配合现有晶圆清洗系统，提供于具清洗液水柱位置状况监控需求的应用场所，可用于各种尺寸晶圆清洗的线上实时监控，其较昔知的纯人工观察式的监控相比所提供功能增加甚多；即可使用本技术其所生产的线上监控能力及配合现有晶圆清洗系统使此一技术得到适当的应用。
技术介绍
如一般半导体业界所认知的，晶圆清洗系统设备是近年来特定电子设备的生产制造厂商积极研发及建构的项目，尤其是可适用于各种尺寸晶圆的清洗及监控设备，其所包含的重要
如清洁液管路与相关监控装置领域、机台专用装置开发及控制软件整合系统等等，包括了多种
，而其中晶圆清洗机台专用装置的研发可以说是关系到整个系统成败相当重要的因素，但因晶圆清洗机台专用装置的领域牵涉到各专业领域工业，必须对各专业技术加以了解；如晶圆清洗过程上非常需要的连续稳定的清洗液输送技术及准确的清洗液水柱喷洒落点，若使用在晶圆清洗机台的维护及监控上则可改善晶圆清洗效果不稳定的缺点，可使晶圆清洗程序的运作程序稳定，避免晶圆清洗异常现象影响相关半导体制造程序，此类清洗液输送程序系需要批次式稳定的清洗液输送能力；此外，现有晶圆清洗机台的改善亦非常重要，低成本改进设计的清洗液水柱喷洒的需求则是难以避免；因此可说稳定输送清洗液到定点的技术改善能力为晶圆清洗系统的改善的基本要求，其设计方式亦为各家制造厂商研究发展的重点。在此简述晶圆清洗，在设计一清洗系统可以去除吸附在晶圆上微尘之前，必须先检视有那些作用力促使尘粒吸附于晶圆表面上。主要的作用力包含有分子吸附力(molecular adhesion)、静电作用力(electrostatic interactions)、液体介质桥接(liquid bridges)、电双层排斥力及化学共价键结(chemical bonding)等。分子吸附力即所谓万有引力(Van der Waals dispersion force)，属于分子间的瞬间诱发偶极作用力(induced-dipole/induced-dipole interaction)，此作用力与分子内电子云的极化性(polarizability)相关，通常分子量愈大的分子其外层电子云的扩散度较高，代表其可被极化程度愈高，则其万有引力作用力愈强。此作用力与重力的性质颇为类似，一是只存在有引力而无斥力，二是与物体的质量成正比而与其相距距离平方成反比。此意谓当两分子距离较远时，万有引力小至可忽略其存在。但在相距甚短的距离时(在数纳米的微距时)，此引力将会以级数增加而变为主要的分子间作用力，甚至大过于静电库伦力。增加其间距离可有效降低万有引力(平方反比关系)，故湿式清洗以水分子作为其间介质，对于微尘去除会比干式清洗有效。晶圆清洗对半导体工业的重要性早在50年代初即已引起人们的高度重视，这是由于晶圆表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性和产品良率。随着集成电路的发展，电路的密集度日益提高、微结构的尺寸日益微化，污染物对器件的影响也愈加突出，以致于洁净表面的制备技术已成为制作各种集成电路的关键技术。晶圆表面的污染物通常以原子、离子、分子、粒子或膜的形式以化学或物理吸附的方式存在晶圆表面或晶圆自身的氧化膜中。晶圆清洗要求既能去除各类杂质又不损坏晶圆。清洗可分为物理清洗和化学清洗，化学清洗又包括水溶液清洗和气相清洗等。由于有较多的方案可供选用，价廉而安全，对杂质和基体选择性好，可将杂质清洗至非常低的水平等诸多优势，水溶液清洗在清洗技术中一直占据主导地位。在习知的晶圆清洗系统中的监控方式中，旧有监控方式可做为参考，如图1所示，其中喷嘴1一般系为以专用清洗液水柱14射出到晶圆12上清洗，其中晶圆承载台18具一定转速辅助清洗液水柱14洗净晶圆，再排出清洗液，但是，传统监控方式系监视装设于晶圆清洗系统中的晶圆表面温度量计显示数值或由清洗机台目窗口观测清洗状况，此种设计虽然具有一定的功能，可以配合人工监视来产生维护晶圆清洗的效果，但是在喷嘴1联结管路一般为具方向可调变的特性，而其受不可预期的碰撞导致方向异常时，会有如图2所示的喷洒状况，如清洗液水柱14过远落点24或过近落点22的不同于正常落点20时的落于晶圆旋转中心，这些状况往往须要人工监控及维护，因此，有延误时机的状况产生；然而，人工维护及监测会占用极大工作时而不利适用于所有晶圆清洗系统机台，不利于实际运用，因此本应用领域的研发厂商莫不以改善喷嘴1的维护及监控的便利性为重要研发目标。由以上习知喷嘴1装设的监控维护结构，可以发现在其构造的条件下，仍必须发展出可方便监控及维护的结构，以符合低人工成本的应用，因此，以红外线监测记录各别喷嘴1落点数据为主要方法开创出本技术的系统。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种符合晶圆清洗系统需求的晶圆清洗液水柱位置检测装置而且可配合广泛类型的晶圆清洗系统机台装置，可用于光电及半导体设备，可以用简单结构提供晶圆清洗品质。为了达成上述目的，本技术将工业上常用的光学信号发射装置及光学信号接收装置的现成装置做组合改进，再以信号处理装置配合固有晶圆清洗系统做整合，发展出晶圆清洗液水柱位置检测装置用于监控晶圆清洗系统中的清洗液水柱位置。本技术的装置部分包含光学信号发射装置，具有光学信号发射源，该光学信号发射装置设于一晶圆清洗承载台的第一侧边，且该光学信号发射源中心正对该晶圆清洗承载台的旋转中心；光学信号接收装置，设于一晶圆清洗承载台第一侧边的对面侧边，具有接收该光学信号发射源射出的光学信号能力；及信号处理装置，与该光学信号接收装置相连接，可判定该光学信号接收装置的接收状况；其中该光学信号接收装置在该光学信号穿越清洗液水柱时接收到较微弱的光学信号；其中该信号处理装置，具有输出端，以输出该接收状况给远方监控端；藉由晶圆清洗液水柱位置检测装置检测该清洗液水柱位置的信号来达成告知晶圆清洗系统的操作人员，以做出适当处理。附图说明图1为习知晶圆清洗系统构成示意图。图2为习知晶圆清洗系统异常状况示意图。图3为本技术中晶圆清洗系统的实施例上视示意图。图中标号说明喷嘴 1 晶圆 12清洗液水柱14 晶圆承载台18正常落点 20 落点过近 22落点过远 24 光学信号发射装31线形光源产生透镜 32 置33平行移动的装置34 光学信号接收装35远方监控端37 置信号处理装置为了使能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本技术加以限制。具体实施方式请参考图3，其为本技术晶圆清洗液水柱位置检测装置的结构上视示意图，该图以部分符号及主要装置显示本技术的各项重要特征，其中信号处理装置35相连于光学信号接收装置33，其构造与习知技术不同处在于增加了光学信号发射装置31及增加了光学信号接收装置33，再配合信号处理装置35，因为在其中光学信号发射装置31发射光源时是可为具有线形光源本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：温家琳，林嘉信，赖宏岱，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：