电子照相的感光体及其制造方法技术

技术编号:2759778 阅读:206 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
电子照相感光体是这样制造的:将由铝合金构成的导电基片浸入含有一种胺化合物和硅酸钠的水的混合溶液,以形成一层水化氧化铝薄膜,然后将含有碘的一种有机氮化合物的溶液施加到形成薄膜之后的基片,以便在水化氧化铝薄膜之上形成一个中间层。一种经过挤压和拉拔制造的无缝铝管或圆筒可以用作感光体的导电基片。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于电子照相的感光体及制造这种感光体的方法。详细地说,本专利技术涉及一种用于电子照相的感光体,这里所说的感光体,是具有一个导电基片,尤其还有一个无缝铝合金基片和一个在其上的中间层,本专利技术同时还涉及制造这种感光体的方法。近来,由有机材料组成的用于电子照相的感光体(以下有时简单地称之为“感光体”)已经开始代替诸如硒、硫化镉和氧化锌等传统无机感光体材料,用于印刷设备、复印机和传真机的感光体。有机感光体以其各种优越性,如没有或很少污染、高产量和低成本等正取代无机感光体。用于电子照相的有机感光体包括层面结构不同的两种类型的感光体,亦即单层类型感光体,这种类型有一个导电基片,基片上有一层包含粘合剂的层面结构,其中粘合剂中分散着聚乙烯咔唑和三硝基氟酞的络合物或酞青颜料;另一种类型是一种功能区分或分层的感光体,在这个类型中,其中一分层包含产生电荷的物质(亦即电荷产生层),另外一分层包含传输电荷的物质(亦即电荷传输层)。在上述感光体中,后者更引人注目。这是因为,功能区分感光体不仅通过使用不同组合的产生电荷物质和传输电荷物质,能够使得感光体在从可见光到红外线这样一个很宽的波长段具有敏感性;同时,这种感光体还具有相对高的灵敏度。巧合的是,由于其制造简单并且毒性较小,用于有机感光体的传输电荷物质大多数都是空穴运动的电荷传输物质。这样,这种感光体的层面结构更可以说是一种所谓的负电荷型,亦即,包含了一个导电基片,一个电荷产生层和一个电荷传输层并按上述顺序置于基片上。包含于电荷产生层中的电荷产生物质是一种有机的颜料,这种颜料有一个高的光吸收系数和高的电荷产生系数。都知道,感光体的性能一般说来依据并随铝基片的表面情况而变化。也就是说,铝基片上的污点、斑点或是由于基片形状不平而导致电荷产生层的薄膜成形不均匀,会导致感光体产生缺陷,比如,白点、黑点、聚焦不匀,翳影等图像缺陷。众所周知,电荷产生层通常做得很薄,通常是几个微米的数量级。这是因为,如果电荷产生层太厚,所产生的电荷不能完全注入到电荷传输层中,这样,感光体会出现诸如容量降低,长时间使用后荷电率降低并且残留电势升高。如上所述,为了在基片上形成一个很薄的电荷产生层,电荷产生层所附着的基片铝的表面状况非常重要。有人建议过不同的清理基片表面污染物的方法。尤其是,最近有各种改进意见,利用水基溶剂取代传统的含卤素的清洁剂。比方,日本专利申请公开号188605/1993介绍了一种清洗方法,利用这种方法,在水溶剂进行电解反应的同时进行了清洗。日本专利申请公开号150468/1993介绍了一种方法,即,用水溶剂清洗后再用一种醇溶剂进行清洗。日本专利申请公开号127396/1993介绍的一种方法是利用热水进行漂洗。另外,介绍了不同的方法以通过使用具有更好性能的清洗剂来得到更好的清洗效果。例如,日本专利申请公开号3831/1994和日本专利申请公开号281758/1993介绍的方法中,使用的清洗剂的PH值被控制在某一个确定范围内。日本专利申请公开号59463/1994介绍的方法中,使用的清洗剂的电导率被控制在某一个确定的区域中。当然,不管怎样,铝倾向于被周围的环境所影响,并容易在其表面形成氧化膜或水化氧化膜。这种膜的形成会导致涂覆液的可涂覆性能不均匀。为消除这个问题,有人建议使用形成耐蚀铝膜的方法,亦即有意形成一个稳定的氧化膜以便提高可涂覆性能和薄膜形成能力,日本专利申请公开号116160/1988,日本专利申请公开号116161/1988,日本专利申请公开号616162/1988等介绍了这个方法。然而,从经济角度来考虑,这个方法并无优越性,这是因为,提供一个阳极氧化处理设备和处理污水都要花很大的成本。基于这个原因,有人建议,提供一个通过热水处理而化学形成的水化氧化铝层以取代耐蚀铝层,这种水化氧化铝层的提供,降低了用于电子照相的感光体的光磨损。(日本专利申请公开号29852/1989)。然而,本领域普遍知道,用于电子照相感光体的导电基片的铝在应用时,是以合金成分来应用的,这个合金成分除铝(Al)以外,还包含一种或一种以上的金属,例如,铁(Fe),铜(Cu),镁(Mg),或锰(Mn)。一部分添加金属与铝形成合金,同时,其余部分结晶形成细小晶体。细小晶休的形成,导致了在耐蚀铝处理或水化氧化铝处理的时候,基片涂覆水化氧化铝不充分。这就导致了影像的缺陷。为消除此缺陷,有人建议在水化氧化铝上提供一层中间层,在中间层中散布了无机的颜料。(日本专利申请公开号19174/1994)。尽管上述方法可用于通常使用的铝合金的导电基片,例如,通过切割并进行了精细表面处理的铝圆管,当应用于所谓的无缝铝管例如EI管(冲挤压制成的)和ED管(挤压和拉拔形成的)时,EI管和ED管的制造方法最近才开发出来的,而且由于制造电子照相感光体的铝圆管的成本低廉而为众人周知,会发生下面所描述的各种问题。那就是,无缝铝管在其表面有许多以条纹和孔洞形式存在的缺陷。有些缺陷有几个微米深。即便是经过机械表面处理如珩磨和浸蚀或化学表面处理如耐蚀铝膜形成或水化氧化铝膜形成等处理,这类缺陷依然存在或部分保留下来。另外,金属晶体倾向于在表面更明显地生成。为了消减上述缺陷,通过提供一个包含分散有无机颜料的中间层的方法,将此方法应用于经过耐蚀铝薄膜形成和水化氧化铝膜形成的无缝铝管。当然,必须提供一个相当厚的中间层,以完全覆盖或掩盖无缝铝管表面上的结构缺陷。在这种情况下,应小心谨慎,以免中间层太厚,使所得到的感光体性能变差,如残留电势升高,长时间重复使用后特性参数降低。就消减上述缺点来说,本专利技术人做了广泛的研究,由此,使本专利技术得以完成。目前,本专利技术的一个目的,就是提供一个电子照相感光体,这种感光体在其导电基片上有一个改进的水化氧化铝膜,这种感光体还允许在薄膜上提供一个中间层,其厚度足以覆盖或掩盖表面具有裂纹、伤痕、条纹、孔洞或部分空洞,或其它有害夹杂物和缺陷的无缝铝管的表面缺陷;这种感光体不会发生残余电势的升高,不会发生长时间重复使用的特性参数的恶化,这种感光体在从高温到低温、高湿度到低湿度的各种环境条件下,特性参数变化更小。本专利技术的另一个目的是,提供一种制造这种电子照相感光体的方法。根据本专利技术的第一方面,本专利技术提供的电子照相感光体包括由一种铝合金组成的导电基片;导电基片上的中间层,中间层上的光敏层;导电基片表面有一层水化氧化铝薄膜,这种薄膜包含有从胺化合物中得到的氮;中间层包含含有机氮化物和碘的络合物。这里,中间层可以包含有一种抗氧化剂。中间层可以含有一种有机金属化合物。中间层可以含有有机或无机填料。水化氧化铝膜可以是这种形成的层面将导电基片浸入胺化合物和硅酸钠混合物的溶液。根据本专利技术的第二个方面,提供了一种制造电子照相感光体的方法。包括如下几个步骤将由铝合金组成的导电基片浸入包含一种胺化合物和硅酸钠混合物的混合水溶液,以便在基片的表面形成水化氧化铝薄膜;薄膜形成后,将包含有一种有机氮化物络合物的涂覆液施加到导电基片,以便在水化氧化铝膜上形成中间层。这里,混合水溶液PH值可以在9-12的范围之间。混合水溶液的温度在50℃-90℃范围内。有机氮化物络合物溶液可以含有碘。有机氮化物络合物可以含有总量,以薄膜组合物为100重量份计,为3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相感光体,包括一个包括铝合金的导电基片;上述基片上的中间层;上述中间层上的光敏层;在上述导电基片的表面有一层包含了源于胺化合物的氮的水化氧化铝膜;上述中间层含有由一种有机氮化合物和碘组成的络合物。2.如权利要求1所述的电子照相感光体,其中的中间层含有一种抗氧化剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:野上纯孝万德兼之佐藤胜博北泽通宏
申请(专利权)人:富士电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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