分色滤光阵列的形成方法技术

一种分色滤光阵列的形成方法。此方法是先于基底上形成第一分色滤光材料层。于第一分色滤光材料层上形成图案化光致抗蚀剂层后，移除暴露的第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元。于基底与图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。移除图案化光致抗蚀剂层以及图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层，留下多个第二分色滤光单元，其中第一分色滤光单元与第二分色滤光单元组成分色滤光阵列。通过蚀刻与剥离的方法，同时移除图案化光致抗蚀剂层与其上的第二分色滤光材料层，可以大幅简化分色滤光阵列的工艺步骤，以快速完成体积小的多色滤光阵列元件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种滤光膜层的形成方法，尤其涉及一种。
技术介绍
近年来，各种显示器广泛地应用于日常生活上，如电视、计算机、投影机、手机以及个人影音配件等，其包含液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、场发射显示器(Field Emission Display，FED)、有机发光二极管(OrganicLight Emitting Diode，OLED)、以及等离子体显示器(Plasma Display Panel，PDP)。各类型显示器的差异在于其成像方式，其中一种为利用光源、一些棱镜组所构成的光学元件以及多个对应各个光束的面板(panel)，其原理为棱镜组利用将光源(白光)分成红光、绿光以及蓝光(R，G，B)三原色光束后，再分别经由三个面板的调变以搭载影像信号于三道光束中，最后经由双向棱镜与镜头等光学元件合成影像。而上述三个面板是一种微型显示器(micro-display)。微型显示器可以应用于各类型显示器，如液晶显示器或是有机发光二极管显示器。而微型显示器可以架构于不同基板上，因此成像方式也不同。举例来说，微型显示器应用于液晶显示器中称为微型液晶面板，其可分为穿透式液晶微型显示面板与反射式液晶微型显示面板两大类，穿透式液晶微型显示面板大都架构于玻璃基板上，而反射式液晶微型显示面板则常见架构于硅基板上，又称作单晶硅反射液晶面板(Liquid Crystal on Silicon display panel，LCOS display panel)，利用硅晶片作为基板的LCOS液晶面板是以金属氧化物半导体晶体管(MOS transistor)取代传统液晶显示器的薄膜晶体管，而其像素电极(pixel electrode)是以金属材料为主。然而，为了进一步降低成本以及缩小显示器的体积，目前业界正朝着将三片面板缩减成两片甚至一片的目标研发，而当使用两片或一片面板时，就必须将三原色光束合并成两道或一道，也就是说抵达面板的光束包含二至三原色。因此，必须在面板(即微型显示器)上增设不同的滤光膜层，将包含二至三原色的光束分离，亦即在面板上制作多色的分色滤光阵列。但是，分色滤光阵列的工艺步骤相当复杂且困难，使得工艺花费更多步骤与时间。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的是提供一种，以于一片微型显示器上设置两种不同原色的分色滤光单元交错排列的阵列。本专利技术的另一目的是提供一种，以于一片微型显示器上设置三种不同原色的分色滤光单元交错排列的阵列。本专利技术提出一种，此种分色滤光阵列适用于微型显示器中。此方法是先于基底上形成第一分色滤光材料层。接着，于第一分色滤光材料层上，形成图案化光致抗蚀剂层。然后，移除暴露的第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元。继之，于基底与图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。随后，移除图案化光致抗蚀剂层以及图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层，将第一分色滤光单元之间的第二分色滤光材料层转换为多个第二分色滤光单元，其中第一分色滤光单元与第二分色滤光单元组成分色滤光阵列。依照本专利技术的一实施例所述，于上述中形成第一分色滤光材料层的步骤之后，还包括于第一分色滤光材料层上，形成硬掩模层。之后，于上述中移除图案化光致抗蚀剂层的步骤之后，还包括移除第一分色滤光单元上的硬掩模层。硬掩模层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。依照本专利技术的一实施例所述，上述的基底例如是选自透明基板与硅基板所组成的族群其中之一。其中，硅基板中有控制元件，用以控制分色滤光阵列。依照本专利技术的一实施例所述，上述的移除图案化光致抗蚀剂层与图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层的方法包括剥离法(lift-off)。依照本专利技术的一实施例所述，上述的移除暴露的第一分色滤光材料层的方法包括以图案化光致抗蚀剂层为掩模，进行干式蚀刻工艺。依照本专利技术的一实施例所述，上述的第一分色滤光材料层与第二分色滤光材料层的材料包括由氧化钛薄层与氧化硅薄层交替堆叠形成的叠层，其形成方法包括蒸镀法、溅镀法或化学气相沉积法。依照本专利技术的一实施例所述，上述的第一分色滤光单元与第二分色滤光单元的滤光波段不同。本专利技术提出一种。此方法包括先于基底上形成第一分色滤光材料层。接着，于第一分色滤光材料层上，形成第一图案化光致抗蚀剂层。然后，移除暴露的第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元。继之，于基底与第一图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。随后，移除第一图案化光致抗蚀剂层以及第一图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层，将第一分色滤光单元之间的第二分色滤光材料层转换为多个第二分色滤光单元，其中第一分色滤光单元与第二分色滤光单元组成第一分色滤光阵列。之后，于第一分色滤光阵列上，形成第二图案化光致抗蚀剂层。接着，移除暴露的第一分色滤光阵列，以形成第二分色滤光阵列，并暴露部分基底。然后，于基底与第二图案化光致抗蚀剂层上形成第三分色滤光材料层。而后，移除第二图案化光致抗蚀剂层以及第二图案化光致抗蚀剂层上的第三分色滤光材料层，将第二分色滤光阵列之间的第三分色滤光材料层转换为多个第三分色滤光单元，其中第二分色滤光阵列与第三分色滤光单元组成一第三分色滤光阵列。依照本专利技术的一实施例所述，于上述中形成第一分色滤光材料层的步骤之后，还包括于第一分色滤光材料层上，形成第一硬掩模层。之后，于上述中移除第一图案化光致抗蚀剂层的步骤之后，还包括移除第一分色滤光单元上的第一硬掩模层。其中，第一硬掩模层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。依照本专利技术的一实施例所述，于上述中形成第一分色滤光阵列的步骤之后，还包括于第一分色滤光阵列上，形成第二硬掩模层。之后，于上述中移除第二图案化光致抗蚀剂层的步骤之后，还包括移除第二分色滤光阵列上的第二硬掩模层。其中，第二硬掩模层的材料包括氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。依照本专利技术的一实施例所述，上述的基底例如是选自透明基板与硅基板所组成的族群其中之一。其中，硅基板中有控制元件，用以控制分色滤光阵列。依照本专利技术的一实施例所述，上述中移除第一图案化光致抗蚀剂层与第一图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层的方法包括剥离法(lift-off)。依照本专利技术的一实施例所述，上述中移除第二图案化光致抗蚀剂层与第二图案化光致抗蚀剂层上的第三分色滤光材料层的方法包括剥离法(lift-off)。依照本专利技术的一实施例所述，上述中移除暴露的第一分色滤光材料层的方法包括以第一图案化光致抗蚀剂层为掩模，进行一干式蚀刻工艺。依照本专利技术的一实施例所述，上述中移除暴露的第一分色滤光阵列的方法包括以第二图案化光致抗蚀剂层为掩模，进行一干式蚀刻工艺。依照本专利技术的一实施例所述，上述的第一分色滤光材料层、第二分色滤光材料层与第三分色滤光材料层包括氧化钛薄层与氧化硅薄层交替堆叠形成的叠层，其形成方法包括蒸镀法、溅镀法或化学气相沉积法。依照本专利技术的一实施例所述，上述的第一分色滤光单元、第二分色滤光单元与第三分色滤光单元的滤光波段不同。本专利技术在微型显示器上增设分色滤光阵列，此分色滤光阵列具有两种以上不同滤光波段的分色滤光单元，因此显示器只需使用两片甚至一片微型显示器，以降低成本并可以缩小体积。另外，分色滤光阵列的制作过程大幅简化，使得体积小的多色滤光阵列元件可以快速完成。而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分色滤光阵列的形成方法，该方法包括：于基底上，形成第一分色滤光材料层；于该第一分色滤光材料层上，形成图案化光致抗蚀剂层；移除暴露的该第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元；于该基底与该图案化光致抗 蚀剂层上，形成第二分色滤光材料层；以及移除该图案化光致抗蚀剂层以及该图案化光致抗蚀剂层上的该第二分色滤光材料层，将该些第一分色滤光单元之间的该第二分色滤光材料层转换为多个第二分色滤光单元，其中该些第一分色滤光单元与该些第二分色滤光单 元组成分色滤光阵列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴沂庭，欧富国，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，联诚光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]