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一种分色滤光阵列的形成方法。此方法是先于基底上形成第一分色滤光材料层。于第一分色滤光材料层上形成图案化光致抗蚀剂层后，移除暴露的第一分色滤光材料层，以形成多个第一分色滤光单元。于基底与图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。移除图案化光...该专利属于联华电子股份有限公司;联诚光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司;联诚光电股份有限公司授权不得商用。