滤色片基板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种滤色片基板包括：基板、在基板上限定单元区域并防止光泄漏的黑矩阵、形成在黑矩阵限定的单元区域内的滤色片；和形成在基板后表面上用于防止静电产生的导电薄膜，其中导电薄膜由包含导电材料的光刻胶形成的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种显示器件的组成部件，并且尤其涉及一种。虽然本专利技术适用于宽范围的应用，但尤其适用于防止滤色片基板上的静电。
技术介绍
通常，液晶显示器件利用越过液晶分子层的电场来控制液晶的透光率以显示图像，上述液晶分子层位于两个基板之间。液晶显示器件使用呈有源矩阵形成的单元，在该有源矩阵中每个单元中都形成有开关器件。液晶显示器件可以用于电视显示器、计算机监视器、办公设备、以及便携式电话。液晶显示器件可以分为垂直电场型或水平电场型，在垂直电场型液晶显示器件中垂直方向的电场在两个基板之间延伸，而在水平电场型液晶显示器件中水平方向的电场在两个基板之一的表面延伸。垂直电场型液晶显示器件可以利用位于上基板的公共电极和位于下基板的像素电极之间的垂直电场驱动TN(扭曲向列)型液晶。垂直电场型液晶显示器件的优点是孔径比高，而另一方面它的缺点是视角窄，大约是90°。水平电场型液晶显示器件利用像素电极和公共电极之间的水平电场驱动IPS(共平面开关)型液晶，且上述像素电极和公共电极并列形成在下基板上。水平电场型液晶显示器件的优点是视角宽，大约是160°，而另一方面它的缺点是孔径比低。图1是现有技术中水平电场型液晶显示器件的截面图。如图1所示，水平电场型液晶显示器件包括滤色片基板、薄膜晶体管基板和夹在该两基板之间的空隙内的液晶(未示出)。滤色片基板包括顺序形成在上玻璃基板2上的黑矩阵4、滤色片6、涂覆层8、衬垫料13和上定向膜12。此外，用于防止静电的透明电极(ITO)3也形成在滤色片基板的玻璃基板2的另一侧。薄膜晶体管基板包括形成在下玻璃基板32上的薄膜晶体管、公共电极10、像素电极56和下定向膜52。滤色片基板的黑矩阵4与下玻璃基板2上的薄膜晶体管、栅线(未示出)和数据线(未示出)重叠，并且限定后面将形成滤色片6的单元区域。黑矩阵4通过吸收外部光防止光泄漏并提高了对比度。滤色片6形成在黑矩阵4限定的单元区域内。滤色片6是红、绿和蓝色滤色片以得到红色、绿色和蓝色。涂覆层8覆盖滤色片6所形成的台阶差以使上基板2变平整。衬垫料13保持了上玻璃基板2和下玻璃基板32之间的盒间隙。衬垫料13可以与涂覆层8使用相同材料并同时形成。上定向膜12形成在形成有衬垫料13的涂覆层8上，并以指定方向初始排列夹在薄膜晶体管基板和滤色片基板之间的液晶。下定向膜52形成在覆盖薄膜晶体管的钝化层50上，并以指定方向初始排列夹入在薄膜晶体管基板和滤色片基板之间的液晶。薄膜晶体管基板中的薄膜晶体管包括与栅线(未示出)一起形成在下玻璃基板32上的栅极38；半导体层93，其与栅极38重叠并且二者之间具有栅绝缘膜34；源极46和漏极48。接触半导体层92降低了半导体层93与源极46和漏极48中的任一个之间的接触电阻。响应来自于栅线的栅信号，薄膜晶体管将来自于数据线的像素信号提供到像素电极56，其通过保护钝化膜50中的接触孔连接到漏极48。与像素电极56交替存在的条形公共电极10沿栅线同时形成在下玻璃基板32上。作为驱动液晶24的参考电压的参考电压通过公共线提供到公共电极10。水平电场形成在像素电极56和公共电极10之间，通过薄膜晶体管将像素信号提供到像素电极并且通过公共线将参考电压提供到公共电极。水平电场使在薄膜晶体管基板和滤色片基板之间最初沿水平排列的液晶分子以指定方向旋转从而改变通过液晶的透光率，而显示图像。图2A到2I图解了形成现有技术中水平电场型液晶显示器件的滤色片基板的步骤。如图2A所示，通过溅射法在玻璃基板2上形成防止静电产生的透明导电膜ITO3。更确切地讲，将高RF(DC)能量施加到与玻璃基板2相对目标上，上述玻璃基板和目标都位于充满了氩气(Ar)的腔室内。如图2B所示，由RF(DC)能量形成的等离子内的具有高能量的氩(Ar)分子失去(-)电荷并在Ar+状态撞击目标表面，从而使目标粒子从目标内分离出来并沉积在玻璃基板2上，这样就形成了防止产生静电的透明导电膜(ITO)3。在形成了防止产生静电的透明导电膜3后，在玻璃基板2上形成黑矩阵4以防止光泄漏。更确切地讲，将不透明材料涂在玻璃基板2上与形成透明导电膜3的一侧相对的侧上。不透明材料是不透明树脂或不透明金属，如铬。接下来，如图2C所示，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对不透明材料进行构图，从而形成黑矩阵4。在形成了黑矩阵4后将红、绿和蓝色滤色片形成在黑矩阵限定的单元区域内。确切地讲，将红色感光树脂沉积在形成黑矩阵4的玻璃基板2的整个表面上。接下来，如图2D所示，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对红色感光树脂进行构图，从而形成红色滤色片R。在形成了红色滤色片后，接下来将绿色感光树脂沉积在形成了红色滤色片R的玻璃基板2的整个表面上。接下来，如图2E所示，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对绿色感光树脂进行构图，从而形成绿色滤色片G。在形成了绿色滤色片后，接下来将蓝色感光树脂沉积在形成了红色和绿色滤色片R和G的玻璃基板2的整个表面上。接下来，如图2F所示，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对蓝色感光树脂进行构图，从而形成蓝色滤色片B。随后，如图2G所示，在形成了R、G、B滤色片6后，形成涂覆层8以提供平整的表面。更确切地讲，将有机绝缘材料覆盖在形成了滤色片6的玻璃基板2的整个表面上。接下来，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对有机绝缘材料进行构图，从而形成覆盖滤色片6形成的台阶差而具有平整表面的涂覆层8。在形成了涂覆层后，如图2H所示，接下来形成保持薄膜晶体管和滤色片基板之间的盒间隙的衬垫料13。更确切地讲，将与形成涂覆层8相同的有机绝缘材料覆盖在形成了涂覆层8的玻璃基板2的整个表面上。接下来，如图2H所示，利用掩模和蚀刻工序通过光刻工艺对有机绝缘材料进行构图，从而形成保持盒间隙的衬垫料13。在形成了衬垫料13后，如图2I所示，在形成了衬垫料13的玻璃基板2的整个表面上形成以指定方向初始排列液晶分子的定向膜12，这样就完成了滤色片基板。在现有技术中，在通过上述制造工序形成滤色片基板的情况下，以溅射法将透明导电膜(ITO)3形成在玻璃基板2的后表面上，该溅射法是一种需要大量时间的复杂方法。此外，在玻璃基板2的后表面上形成现有的具有透明导电膜3的滤色片基板的情况下，存在这样一个问题即不可能使滤色片基板重量轻并且薄，这是因为当在玻璃基板2的后表面上形成透明导电膜3时在玻璃基板的另一侧形成了黑矩阵、滤色片、涂覆层和定向膜后玻璃基板2就不能被蚀刻了。
技术实现思路
因此，本专利技术涉及一种，其能基本上克服由于现有的限制和缺陷造成的一个或多个问题。因此，本专利技术的一个目的是提供一种，其能减少形成导电薄膜的时间，该导电薄膜能防止基板后表面产生静电。本专利技术的另一个目的是提供一种重量轻且薄的。本专利技术的其他特征和优点将出现在下面描述的说明书中，并且部分从说明书中是显而易见的，或可以从本专利技术中实际得到的。本专利技术的目的和优点可以通过说明书正文和权利要求以及附图描述的结构中实现和得到。为了实现上述和其他优点并且根据本专利技术的目的，如具体或概括描述的，滤色片基板包括基板、在基板上限定单元区域并防止光泄漏的黑矩阵、形成在黑矩阵限定的单元区域内的滤色片、和形成在基板后表面上用于防止产生静电的导电薄膜，其中导电薄膜由包含导电材料的光刻胶形成。另一方面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤色片基板，包括：基板；在基板上限定单元区域并防止光泄漏的黑矩阵；形成在黑矩阵限定的单元区域内的滤色片；以及形成在基板后表面上用于防止产生静电的导电薄膜，其中导电薄膜由包含导电材料的光刻胶形成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：尹湘淳，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]