碱和表面活性剂,以及它们在用于微型平板印刷的光致抗蚀剂组合物中的用途制造技术

技术编号：2748182 阅读：208 留言：0更新日期：2012-04-11 18:40

一种包含以下组分的光致抗蚀剂组合物：（Ａ）一种选自以下的聚合物：（ａ）含衍生自至少一种稀键式不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯键式不饱和化合物为多环化合物；（ｂ）含受保护酸基的支化聚合物，所述聚合物含一种或多种支化链段，这些支化链段化学连接在线形主链链段上；（ｃ）含氟聚合物，所述含氟聚合物含有至少一个具有以下结构的氟代醇基团：－Ｃ（Ｒ↓［ｆ］）（Ｒ′↓［ｆ］）ＯＨ，其中Ｒ↓［ｆ］和Ｒ↓［ｆ］′为相同或不同的具有１至约１０个碳原子的氟代烷基，或一起形成（ＣＦ↓［２］）↓［ｎ］，其中ｎ为２至１０；（ｄ）全氟（２，２－二甲基－１，３－二氧杂环戊烯）或ＣＸ↓［２］＝ＣＹ↓［２］的无定形乙烯基均聚物，其中Ｘ＝Ｆ或ＣＦ↓［３］，Ｙ＝－Ｈ或全氟（２，２－二甲基－１，３－二氧杂环戊烯）和ＣＸ↓［２］＝ＣＹ↓［２］的无定形乙烯基共聚物；和（ｅ）由取代或未取代的乙烯基醚制备的含腈／氟代醇聚合物；（Ｂ）至少一种光活性组分；和（Ｃ）选自碱和表面活性剂的官能化合物。所述聚合物在约１５７ｎｍ的波长下具有小于约５．０μｍ↑［－１］的吸收系数。这些光致抗蚀剂组合物具有改善的成象性能。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】,以及它们在用于微型平板印刷的光致抗蚀剂组合物中的用途的制作方法
技术介绍
专利
本专利技术涉及光成象，具体地讲，涉及用于在半导体设备生产中成象的光致抗蚀剂(正作用和/或负作用)。本专利技术还涉及可与具有高UV透明度(尤其是在短波长，如157nm和193nm波长下更是如此)的聚合物组合物一起使用的新型，这些可用于光致抗蚀剂以及许多其它潜在的应用中。
技术介绍
聚合物产品被用作成象和光敏系统的组分，尤其是用作光成象系统，如在由L.F.Thompson，C.G.Willson和M.J.Bowden编辑的Introduction to Microlithography(第二版)，American Chemical Society，Washington，DC，1994中描述的那些系统的组分。在这些系统中，紫外光(UV)或其它电磁辐射撞击在含光活性组分的物质上，引起该物质发生物理或化学变化。由此产生了有用的影象或潜影，这些可被加工成可用于半导体设备制造的影象。虽然聚合物产品本身可具有光活性，但通常还是加入含有一种或多种光活性组分的光敏组合物。如Thompson等人在如上所述的出版物中的描述，当受电磁辐射(如紫外光)照射时，所述光活性组分起到改变所述光敏组合物的流变状态、溶解性、表面性能、折光指数、颜色、电磁特性或其它这类物理或化学特性的作用。为了在半导体设备上以亚微水平将非常细微的特征成象，需要远紫外(UV)或超紫外(UV)的电磁辐射。正作用抗蚀剂通常用于半导体的制造中。使用线形酚醛树脂和二氮杂萘醌作为溶解抑制剂的在365nm(I-谱线(I-line))的紫外光下的平板...

【技术保护点】
一种包含以下组分的光致抗蚀剂组合物：（Ａ）一种选自以下的聚合物：（ａ）含衍生自至少一种烯键式不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于所述至少一种烯键式不饱和化合物为多环化合物；（ｂ）含受保护酸基的支化聚合物，所述聚合物含一种或多种支化链段，这些支化链段化学连接在线形主链链段上；（ｃ）含氟聚合物，所述含氟聚合物含有至少一个具有以下结构的氟代醇基团：－Ｃ（Ｒ↓［ｆ］）（Ｒ′↓［ｆ］）ＯＨ其中Ｒ↓［ｆ］和Ｒ↓［ｆ］′为相同或不同的具有１至约１０个碳原子的氟代烷基，或一起形成（ＣＦ↓［２］）↓［ｎ］，其中ｎ为２至约１０；（ｄ）全氟（２，２－二甲基－１，３－二氧杂环戊烯）或ＣＸ↓［２］＝ＣＹ↓［２］的无定形乙烯基均聚物，其中Ｘ＝Ｆ或ＣＦ↓［３］，Ｙ＝－Ｈ或全氟（２，２－二甲基－１，３－二氧杂环戊烯）和ＣＸ↓［２］＝ＣＹ↓［２］的无定形乙烯基共聚物；和（ｅ）由取代或未取代的乙烯基醚制备的含腈／氟代醇聚合物；和（Ｂ）至少一种光活性组分；和（Ｃ）选自碱和表面活性剂的官能化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：LL伯格，MK克劳福特，FL沙德特三世，FC小朱姆斯特，
申请(专利权)人：纳幕尔杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]

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