光阻涂布方法及其光阻涂布设备技术

本发明专利技术公开了一种光阻涂布设备，包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时，清洁装置先清除基板表面的微粒，接着，光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光阻涂布设备和方法，具体地，涉及一种可控制微粒数量的光阻涂布设备和方法。
技术介绍
目前一般应用于大尺寸液晶面板制作过程的光阻涂布设备，如图1a所显示的，是利用一光阻涂布装置10，以扫描的方式朝一第一方向x移动，将光阻2均匀喷洒涂布于基板1的表面。参照图1b，光阻涂布装置10包括喷头11，喷头11中央具有一狭缝12，而光阻(剂)2即从该狭缝12之间喷洒而出。这种类型的设计已见于东京应化工业(TOK)等公司所提供的光阻涂布设备之中。在光阻涂布制作过程中，基板与传输设备所携带的微粒，以及光阻涂布设备本身所产生的微粒，都会随着时间逐渐于光阻涂布设备内累积，并可能会污染基板，降低产品的质量。
技术实现思路
本专利技术即为了欲解决上述现有技术的问题，而提供一种光阻涂布设备，包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时，清洁装置先清除基板表面的微粒，接着，光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。本专利技术可在光阻涂布之前，预先对基板进行清洁，因此可减少基板表面的微粒，提升产品的质量。此外，本专利技术同时对用于置放基板的平台进行清洁，以进一步清除光阻涂布设备内的微粒，因此，可有效控制光阻涂布设备之内的微粒数量。附图说明图1a是显示现有技术的光阻涂布设备的示意图；图1b是显示光阻涂布装置的细部结构的示意图；图2是显示本专利技术的光阻涂布设备的示意图；图3a是显示图2中清洁装置的A-A方向截面图；图3b是显示清洁装置的仰视图；图3c是显示清洁装置的清洁情形的示意图；图3d是显示本专利技术的清洁装置的变形例的示意图；图3e是显示图3d中的清洁装置的清洁情形的示意图；以及图4a、4b、4c和4d是显示本专利技术的清洁步骤的示意图。符号说明1～基板2～光阻3～微粒10～光阻涂布装置11～喷头 12～狭缝20～清洁装置 21、21’～吸气单元22、22’～吹气单元 23～吸气口24～吹气口 30～平台40～制作过程腔体 100～光阻涂布设备 具体实施例方式参照图2，其显示了本专利技术的光阻涂布设备100，包括一光阻涂布装置10、一清洁装置20、一平台30以及一制作过程腔体40。光阻涂布装置10、清洁装置20以及平台30均设于制作过程腔体40之中。基板1置放于平台30之上。当涂布光阻2时，清洁装置20先清除基板1表面的微粒，接着，光阻涂布装置10将光阻2均匀喷洒于基板1的表面。参照图3a，其显示了图2中清洁装置20的A-A方向截面图。清洁装置20包括一吸气单元(吸气腔体)21以及两个吹气单元(吹气腔体)22，吹气单元22位于吸气单元21的两侧。吸气单元21具有吸气口23，吹气单元22具有吹气口24。参照图3b，其显示了清洁装置20的仰视图，吸气口23及吹气口24均为长条形的狭缝，其宽度约为1～2公厘。参照图3c，吹气单元22连接一吹气管路(未示出)，当进行清洁时，吹气单元22从吸气单元21两侧，朝基板1吹出一气体(空气)，以使基板1表面的微粒3脱离该基板1，同时，吸气单元21以真空吸力将微粒3吸入吸气单元21之中。吸气单元21连接一真空管路(未图标)，微粒3进入吸气单元21之后，可通过该真空管路而排出该光阻涂布设备100。该吹气单元22的吹气压力约为12～14千帕。该吸气单元21的吸气压力约为-12～-14千帕。当清洁装置20作用时，吸气单元21的吸气压力可略大于吹气单元22的吹气压力。参照图3d，其显示了本专利技术的清洁装置的变形例，其特点在于，吸气单元21’位于吹气单元22’的两侧。参照图3e，吹气单元22’连接一吹气管路(未示出)，当进行清洁时，吹气单元22’朝基板1吹出一气体(空气)，以使基板1表面的微粒3脱离该基板1，同时，吸气单元21’于该吹气单元22’的两侧，以真空吸力将微粒3吸入吸气单元21’之中。吸气单元21’连接一真空管路(未示出)，微粒3进入吸气单元21’之后，可通过该真空管路而排出该光阻涂布设备100。虽然在本专利技术之实施例中，吸气单元以及吹气单元均为腔体结构，吸气口及吹气口均为长条形的狭缝。然而，其并未限制本专利技术的实施方式，吸气单元以及吹气单元也可以为管路结构，而吸气口及吹气口也可以为孔状结构。或者单纯利用吸气单元移除微粒，而省略该吹气单元。以下说明本专利技术的光阻涂布设备100的操作情形。参照图4a，首先，在该制作过程腔体40之中，该光阻涂布装置10位于一第一位置，该清洁装置20位于一第二位置。接着，如图4b所显示的，该清洁装置20沿一第二方向-x，从该第二位置移至该第一位置，并同时清除该平台30上的微粒。参照图4c，在清洁装置20清洁完该平台30并位于该第一位置之后，基板1被输送置放于该平台30之上。然后，如图4d所显示的，该光阻涂布装置10以及该清洁装置20同时朝该第一方向x，从该第一位置移动至该第二位置，此时，该清洁装置20位于该光阻涂布装置10的前方，该清洁装置20预先清除该基板1上的微粒，该光阻涂布装置10随后对该基板1喷洒光阻2。在光阻涂布完成之后，移除该基板，该清洁装置20停留在该第二位置，该光阻涂布装置10沿该第二方向-x，从该第二位置回到该第一位置，而恢复图4a的状态。本专利技术可在光阻涂布之前，预先对基板进行清洁，因此可减少基板表面的微粒，提升产品的质量。此外，本专利技术同时对用于置放基板的平台进行清洁，以进一步清除光阻涂布设备内的微粒，因此，可有效控制光阻涂布设备之内的微粒数量。虽然本专利技术已以具体的较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本专利技术，任何本领域普通技术人员在不脱离本专利技术的精神和范围内，仍可做出许多更改和润饰，因此本专利技术的保护范围以所附的权利要求所界定的范围为准。权利要求1.一种光阻涂布设备，用以对一基板涂布一光阻，包括一平台，用以置放该基板；一清洁装置，在该平台上方移动，以真空吸力清除多个微粒；以及光阻涂布装置，对该基板喷洒该光阻。2.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置以扫描的方式清除该基板表面的所述多个微粒。3.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该光阻涂布装置以扫描的方式将该光阻均匀喷洒于该基板之上。4.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置包括一吹气单元以及一吸气单元，该吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述多个微粒。5.根据权利要求4所述的光阻涂布设备，其中，该吹气单元包括一吹气口，该吹气口为一狭缝。6.根据权利要求5所述的光阻涂布设备，其中，该吹气口的宽度约为1～2公厘。7.根据权利要求4所述的光阻涂布设备，其中，该吸气单元包括一吸气口，该吸气口为一狭缝。8.根据权利要求7所述的光阻涂布设备，其中，该吸气口的宽度约为1～2公厘。9.根据权利要求4所述的光阻涂布设备，其中，该吹气单元的吹气压力约为12～14千帕。10.根据权利要求4所述的光阻涂布设备，其中，该吸气单元的吸气压力约为-12～-14千帕。11.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置包括两个吹气单元以及一吸气单元，所述吹气单元位于该吸气单元的两侧，所述吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述微粒。12.根据权利要求1所述的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻涂布设备，用以对一基板涂布一光阻，包括：一平台，用以置放该基板；一清洁装置，在该平台上方移动，以真空吸力清除多个微粒；以及光阻涂布装置，对该基板喷洒该光阻。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏育煌，陈世仁，周振南，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]