【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种供应光阻的系统,特别涉及能有效回收并利用光阻的回收 系统。
技术介绍
光阻是一种具有特定分子结构的光敏物质,它在入射光的作用下发生变化, 是半导体制造工艺中非常重要的材料。 一般的半导体制造工艺中通常包括多道 工序,其中半导体外部物体如晶圆的布图需要采用光阻并对光阻进行受控的曝 光。由于大部分的光阻为液态,因此需要将光阻由一存储器推送至喷嘴以涂布 至晶圓上,且还需通过一过滤器,所述过滤器去除杂质。图1示出了一种用于在半导体制造工艺中供应光阻的传统供应系统。该系统包括 一个存储光阻的容器l; 一个中间箱4,它真有一个检测中间箱4中光 阻是否存在的传感器和一个用于从此中间箱4排除气泡的瞬间阀2和排放管3; 一个泵6,用于从中间箱4抽取光阻; 一个过滤器7,用于除去光阻的颗粒杂质, 它具有一个用于排除带有气泡的光阻的排放管5; —个气动阀8,控制光阻的输 出流量; 一个喷嘴9,将光阻均匀涂覆于晶圆上。在上述系统中,氮气(N2)经由连接器注入存储光阻的容器l中,用以将光 阻推进中间箱4中。通过泵6将光阻从中间箱4抽至过滤器7之后,会有2-3 毫升的光阻 ...
【技术保护点】
一种光阻回收系统,包括: 一个存储容器,用于存储光阻; 一个过滤器,用于从存储容器接收光阻,并具有一个从过滤器排出的排放管; 其特征在于:光阻回收系统还包括一个回收容器,它连接在过滤器的排放管与存储容器之间,用于使过滤器排出的光阻回流至存储容器中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:卢健,张建峰,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
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