一种干膜及利用该干膜制造彩色滤光片的方法技术

本发明专利技术主要关于一种干膜、制造该干膜的方法及制造彩色滤光片的方法。其中该干膜至少具有导电层、底层及保护层，且制造干膜的方法包括在底层上形成导电层，以及于该导电层上形成保护层。在制造彩色滤光片时，先移去该保护层，再将底层和导电层转印至一彩色滤光片半成品上，即可利用该干膜制造出一彩色滤光片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供了一种干膜(Dry Film)、制造干膜的方法及制造彩色滤光片(Color Filter)的方法，尤其提供了一种能够简化制程的干膜结构及彩色滤光片的制造方法。
技术介绍
随着计算机产业的快速发展，液晶显示器(LCD)的生产成本与售价亦逐渐下降，因此如何简化制程并提高LCD的优良率，为当今业内的重要课题。液晶显示器(LCD)的零组件主要包含液晶面板和背光模块，背光模块是提供光线给液晶面板，液晶面板包含主动元件阵列基板、彩色滤光片基板以及夹设于其间的液晶层。公开号为20060000379的美国专利揭示了利用干膜来制造彩色滤光片的方法。请参考图1，为一种用于制作彩色滤光片的现有技术干膜结构，其组成包含一抗静电层101、一底层102、一挠性辅助层(Cushion Layer)103、一氧气阻障层(O2Barrier Layer)104、一光刻胶层(Photo Resist Layer)105和一保护层(Cover Film)106。在利用该干膜制作彩色滤光片时，利用干膜转印色膜图案至一基板上，之后，于该色膜图案上形成ITO导电层，最后，于该ITO导电层上形成光刻胶的柱状物层。在该光刻胶柱状物层制造过程中，进行光刻胶涂布时，常会因均匀度的控制不易，影响到该柱状物层的均匀度和厚度，之后，在对组彩色滤光片基板和主动阵列基板时也间接影响了晶包间隙(Cell gap)的均匀度。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种干膜(Dry Film)和制造该干膜的方法，该干膜的结构中包含了导电层，利用该干膜制造彩色滤光片时，可以通过干膜转印方法将导电层转印于彩色滤光片半成品上，不仅简化彩色滤光片的制作工艺，同时可避免形成ITO导电层可能带来的节瘤问题，更达到降低生产成本，缩短制造时间和提升面板优良率的效果。本专利技术还提供了利用上述干膜制造彩色滤光片的方法，通过将多层膜干膜制膜技术应用于彩色滤光片制程中，将平坦层(Overcoat layer)、导电层与光刻胶柱状物层(Photo Spacer)合并为同一制程，再透过干膜转印的方式将导电层转印于彩色滤光片半成品上，以达到简化制程，降低成本及提升面板效能的目的。为达到上述目的，本专利技术提供一种干膜，其结构至少包含底层、导电层和保护层(cover film)。此外，本专利技术提供一种制造该干膜的方法，其步骤包括应用非旋转涂布技术(Spinless Coating)将导电层形成于底层(Basefilm)上，以及于该导电层上形成保护层。本专利技术更进一步提供一种干膜，其结构至少包含底层(Base film)、位于该底层一侧上的抗静电层、位于该底层另一侧上的光刻胶层、位于该光刻胶层上的导电层、位于该导电层上的挠性辅助层(Cushion layer)及位于该挠性辅助层上的保护层(Cover film)。此外，本专利技术还提供一种制造干膜的方法，其步骤包括应用旋转涂布技术或非旋转涂布技术于底层上形成光刻胶层；应用非旋转涂布技术(Spinless Coating)于光刻胶层上形成导电层；于导电层上形成挠性辅助层；以及于底层的另一侧上形成抗静电层。本专利技术还进一步提供一种采用上述干膜制造彩色滤光片的方法先移去该干膜的保护层，并将底层及导电层转印至一彩色滤光片半成品上，压合挠性辅助层和导电层与该彩色滤光片半成品，接着将底层去除，即完成彩色滤光片的制作。本专利技术的彩色滤光片的挠性辅助层、导电层和光刻胶柱状物层由干是采用膜转印法制造，故可避免常规技术中光刻胶涂布均匀度不佳的问题，挠性辅助层可作为平坦层(Overcoat layer)，达成平坦化的目的，简化了制造工艺，也可以避开因ITO导电层溅镀而形成节瘤的问题，进而能降低生产成本，缩短制造时间，提升面板优良率。根据本专利技术提供的制造彩色滤光片的方法，包括提供彩色滤光片半成品和干膜，所述彩色滤光片半成品包括基板以及色阻矩阵，该色阻矩阵设置于所述基板上；所述干膜包括底层(base film)；导电层，其位于该底层上；以及保护层(cover film)，其位于该导电层上；该制造方法还包括移除该干膜的保护层；以及将该导电层转印至该彩色滤光片半成品上。根据上述制造方法，将该导电层转印至彩色滤光片半成品上的步骤包括在移除该干膜的该保护层后，将该干膜转印至彩色滤光片半成品上；以及，分离该底层与该导电层，使得该导电层位于该彩色滤光片半成品的该色阻矩阵上。根据本专利技术的制造方法，该干膜还包括有位于该导电层和保护层之间的挠性辅助层时，将该导电层转印至该彩色滤光片半成品的步骤包括将该挠性辅助层及该导电层转印至该彩色滤光片半成品上。更进一步，该干膜还包括有位于该底层及该导电层之间的光刻胶层，将该导电层转印至该彩色滤光片半成品上的步骤包括将该挠性辅助层、该导电层以及该光刻胶层转印至该彩色滤光片半成品上。该方法还可进一步包括图案化该光刻胶层以形成多数个光刻胶柱状物；其中，图案化该光刻胶层以形成多数个光刻胶柱状物的步骤以及将该挠性辅助层、该导电层以及该光刻胶层转印至该彩色滤光片半成品上的步骤可为同时实施。根据本专利技术的制造方法，该干膜还包括光刻胶层，其位于该底层及该导电层之间，此时将该导电层转印至该彩色滤光片半成品上的步骤包括将该导电层以及该光刻胶层转印至该彩色滤光片半成品上。上述方法还可包括图案化该光刻胶层以形成多数个间隙物。其中，图案化该光刻胶层以形成多数个间隙物步骤以及将该导电层以及该光刻胶层转印至该彩色滤光片半成品上的步骤可为同时实施。根据本专利技术的制造方法，其还可包括图案化该导电层以形成多数个凹槽。具体地，图案化该导电层以形成多数个凹槽的步骤是应用图案化垂直配向技术(Patterned Vertical Alignment，PVA)完成。且，图案化该导电层以形成多数个凹槽的步骤可在将该导电层转印至该彩色滤光片半成品上的步骤后。为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点更明显，下文特举具体实施例，并配合所附图示，做详细说明如下。附图说明图1显示依据现有技术的干膜结构的示意图。图2A显示依据本专利技术提供的干膜结构的示意图。图2B显示依据本专利技术一实施例的一种制作干膜方法的流程图。图2C显示依据本专利技术另一实施例的一种制作干膜方法的流程图。图3A显示依据本专利技术第一实施例的干膜与彩色滤光片半成品的压合示意图。图3B显示依据本专利技术第一实施例的制作彩色滤光片方法的流程图。图4A显示依据本专利技术第一实施例的制作彩色滤光片方法所制作出的含光刻胶层的彩色滤光片成品的结构示意图。图4B显示依据本专利技术第二实施例的制作彩色滤光片方法所制作出不含光刻胶层的彩色滤光片成品的结构示意图。图5A显示依据本专利技术第一实施例的制作彩色滤光片方法所制作出的含光刻胶柱状物的彩色滤光片成品的结构示意图。图5B显示依据本专利技术第一实施例制作彩色滤光片方法所制作出的含光刻胶柱状物和导电层凹槽的彩色滤光片成品的结构示意图。图6显示依据本专利技术第三实施例制作彩色滤光片的方法中以图案化的滚筒制作光刻胶柱状物于彩色滤光片上的流程示意图。图中主要元件符号说明101抗静电层102底层103挠性辅助层104氧气阻障层105光刻胶层106保护层200彩色滤光片半成品201抗静电层202底层203光刻胶层204导电层205挠性辅助层206保护层210基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造彩色滤光片的干膜，包括：底层；导电层，其位于该底层上；以及保护层，其位于该导电层上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄彦衡，陈宗凯，陈重伊，李淑琴，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]