掩模坯料及光掩模制造技术

本发明专利技术提供适合多色波曝光的ＦＰＤ用大型掩模及掩模坯料。该掩模坯料用于制造在透光性基板上至少具有灰色调掩模用半透光性膜的ＦＰＤ设备，该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的功能，其特征在于，所述灰色调掩模用半透光性膜是在由超高压汞灯放射的至少从ｉ线到ｇ线的波长带区域中，半透光性膜的透过率（即半透过率）的变动幅度被控制在不足５％的范围内的膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及掩模坯料(mask blank)及光掩模(photomask),尤其涉 及用于制造FPD设备的膜材料(光敏抗蚀剂用坯料)、使用所述掩模坯料 制造的光掩模(转印掩模)。
技术介绍
近年来，在大型FPD用掩模的领域中，进行了使用具有半透光性膜(所 谓的灰色调掩模用半透光性膜)的灰色调掩模削减掩模片数的尝试(非专 利文献1)。在此，灰色调掩模如图9 (1)及图10 (1)所示，在透明基板上具有 遮光部1、透过部2、和灰阶部3。灰阶部3具有调节透过量的功能，例如， 其是如图9(1)所示地形成有灰色调掩模用半透光性膜(半透光性膜)3a' 的区域、或如图10 (1)所示地形成有灰阶图案(使用灰色调掩模的大型 LCD用曝光机析像极限以下的微细曝光图案3a及透明基板)的区域，并 为了减少透过这些区域的光的透过量并减少该区域引起的照射量，将与所 述区域对应的光敏抗蚀剂的显影后的膜减少的膜厚控制为期望的值而形 成。在将大型灰色调掩模搭载于使用了镜面聚光方式或透镜的透镜方式 的大型曝光装置而使用的情况下，通过了灰阶部3的曝光光整体上曝光量 变得不足，因此，通过该灰阶部3曝光的正型光敏抗蚀剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造ＦＰＤ设备的掩模坯料，其在透光性基板上至少具有灰色调掩模用半透光性膜，该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的功能，其特征在于，　所述灰色调掩模用半透光性膜是在由超高压汞灯放射的至少从ｉ线到ｇ线的波长带区域中，半透光性膜的透过率的变动幅度被控制在不足５％的范围内的膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：三井胜，佐野道明，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]