电光装置、电光装置用基板、电光装置的制造方法以及投影机制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够容易地进行制造的电光装置、电光装置用基板、电光装置的制造方法以及投影机。该电光装置，具备液晶层（３４）和聚光基板（４１），聚光基板（４１）使入射于聚光基板（４１）的光向液晶层（３４）入射，聚光基板（４１）具有基部（４４）和沿多个像素区域的各个像素区域的边界区域配置、具有不同于基部（４４）的折射率的棱镜部（４５），基部（４４）包括棱镜部（４５）所包括的元素中的至少一种元素。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及作为例如投影机的光阀使用的电光装置、电光装置用基板、电光装置的制造方法以及投影机。
技术介绍
在作为投影机的光阀使用的电光装置的图像显示区域，设置有：对光进行出射的像素区域，和形成有向像素区域供给电信号的布线的像素区域的边界区域。例如，在液晶装置中，边界区域由遮光膜覆盖着，从而变得在该部分光不能透射。在这样的电光装置中，优选，从像素区域所出射的光的光量尽可能地多，为明亮的光。因此，谋求实现高的光利用效率。在此，提出了具备沿着像素区域的边界区域具有楔形的槽部的光学元件的液晶装置的方案(例如，参照专利文献1)。该光学元件，被设置在液晶装置的相对向的一对的基板中的一方的基板侧，通过像素区域的边界区域的光由槽部朝向像素区域反射。即，槽部被形成得，通过槽部内的折射率和基板的折射率的差能够起到棱镜的作用。由此，由遮光膜被遮光的光量降低，从而能够提高光的利用效率。在此，因为槽部是沿着像素区域的边界区域而形成的，所以其与形成遮光膜的区域重合。因此，在形成有槽部的基板表面粘合有玻璃盖片，在玻璃盖片上形成有遮光膜。专利文献1：特开平3-170911号公报但是，即便在上述以往的液晶装置中，也具有以下的问题。即，因为在上述以往的液晶装置中，是在玻璃盖片上形成有遮光膜的，所以必须将形成有槽部的基板和形成有遮光膜的玻璃盖片高精度地粘合。由此，希望-->容易地制造液晶装置。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述以往的问题而做出的，目的在于提供能够容易地制造的电光装置、电光装置用基板、电光装置的制造方法以及投影机。本专利技术的效果之一是用于解决上述问题。即，本专利技术所涉及的电光装置，其特征在于，具备电光层和聚光基板，所述聚光基板使入射于所述聚光基板的光向所述电光层入射，所述聚光基板具有：基部和沿着多个像素区域的各个像素区域的边界区域配置、具有不同于所述基部的折射率的棱镜部，所述基部中也包括所述棱镜部所包括的元素之中的至少一种元素。另外，本专利技术所涉及的电光装置，其特征在于，具备电光层、聚光基板和多个像素电极，所述聚光基板使入射于所述聚光基板的光向所述电光层入射，所述聚光基板具有基部和具有不同于所述基部的折射率的棱镜部，所述棱镜部设置为，与所述多个像素电极的各个像素电极和所述多个像素电极之中的与该各个像素电极相邻的像素电极之间的区域重合，所述基部中也包括所述棱镜部所包括的元素之中的至少一种元素。另外，本专利技术所涉及的电光装置，其特征在于，包括：第一基体；第二基体；配置在所述第一基体和所述第二基体之间的电光层；和配置在所述第一基体和所述电光层之间的聚光基板，所述聚光基板包括基部和棱镜部，从所述第一基板向所述基部的被所述棱镜部包围的区域入射的光，相对于所述聚光基板在所述电光层或者所述第二基体侧被聚光，所述基部中也包括所述棱镜部所包括的元素之中的至少一种元素。在本专利技术中，可以将棱镜部和基部一体地形成。即，例如通过使分子的排列状态等改变，即便由同样的材料构成，也能形成相互之间折射率不同的区域。因此，当入射于基部的光朝向棱镜部行进时，因为棱镜部具有不同于基部的折射率，所以在基部和棱镜部的边界面处光被朝向像素区域反射。由于这样其成为一体，实现了电光装置的制造工序的简化。-->在此，优选聚光基板由无机材料构成。通过这样使聚光基板由无机材料构成，即便吸收了照射的光而处于高温状态，也能抑制基部以及棱镜部的劣化。由此，实现了聚光基板的可靠性的提高以及长寿命化。另外，本专利技术所涉及的电光装置，优选，所述棱镜部是通过使所述基部的前体部件的一部分改性而形成的。另外，本专利技术所涉及的电光装置，优选，所述棱镜部和所述基部的组成相同。在本专利技术中，通过进行使基部的一部分的例如分子的排列状态等改变的改性，使得其与基部的其他部分折射率不同。另外，本专利技术所涉及的电光装置，优选，在所述聚光基板的表面设置有沿着所述像素区域的边界区域形成的遮光膜。在本专利技术中，通过在棱镜部中的电光层侧的端面形成遮光膜，防止光从聚光基板朝向像素区域的边界区域出射。即，有朝向棱镜部入射的光，在进入棱镜部内之后从棱镜部的电光层侧的端面朝向像素区域的边界区域出射的情况。在此，通过在棱镜部的电光层侧的端面形成遮光膜，遮光膜对从棱镜部出射的光进行遮光。由此，当在像素区域的边界区域设置元件等时，能够避免该元件等的误工作。另外，因为棱镜部和基部一体地形成，所以没有必要在聚光基板和遮光膜之间设置玻璃盖片等，能够高精度地形成遮光膜。另外，本专利技术所涉及的电光装置，优选，在所述棱镜部中的所述电光层侧的表面形成凹部，在该凹部形成有所述遮光膜。在本专利技术中，通过将遮光膜形成在凹部，从而将遮光膜和聚光基板的平坦性提高。由此，抑制从作为聚光基板中的棱镜部的非形成区域的棱镜部的边缘部附近出射的光因遮光膜而被遮光的情况。另外，本专利技术所涉及的电光装置，优选，在所述聚光基板上形成有对所述电光层进行驱动的一对电极的一方。在本专利技术中，通过在聚光基板的表面形成电极，可实现电光装置的薄壁化。另外，与在电极和聚光基板之间另外配置基板的情况相比较，能够-->使聚光基板的出射侧和电光层之间的距离缩短，使光从聚光基板更加可靠地朝向像素区域出射。另外，本专利技术所涉及的电光装置也可以为，所述棱镜部和所述基部的所述电光层侧的端面是同一面。在本专利技术中，能够使从作为聚光基板中的棱镜部的非形成区域的棱镜部的边缘部附近出射的光，更加可靠地朝向像素区域出射。另外，本专利技术所涉及的电光装置用基板，作为相对于设置在电光装置中的多个像素区域的聚光单元，其特征在于，具有：基部和沿着所述像素区域的边界区域形成、使入射后的光朝向被排列为平面状的多个像素区域反射的棱镜部，该棱镜部和所述基部由相同的材料构成。在本专利技术中，和上述同样地，因为棱镜部和基部能够一体地形成，所以能够容易而且低成本地形成电光装置用基板。另外，本专利技术所涉及的电光装置的制造方法，所制造的电光装置具有：电光层和与该电光层相比配置于入射侧的聚光基板，该聚光基板使朝向多个像素区域入射后的光反射并使其向所述电光层入射，该制造方法的特征在于，包括：使基部的一部分改性而形成与该基部折射率不同的棱镜部、形成所述聚光基板的改性工序；以及以使所述棱镜部与所述像素区域的边界区域相对应的方式，将所述聚光基板配置于比所述电光层靠近入射侧的配置工序。在本专利技术中，和上述同样地，因为棱镜部和基部能够用同一材料一体地形成，所以能够容易而且便宜地形成聚光基板。即，通过由改性工序形成棱镜部，与通过例如在基部形成槽部而形成棱镜部的情况相比较，能够使聚光基板的制造工序短时间化。由此，能够容易而且低成本地制造电光装置。另外，本专利技术所涉及的电光装置的制造方法，优选，所述改性工序是在使所述基部熔融后使其冷却的工序。在本专利技术中，通过在使基部中的棱镜部的形成区域熔融之后使其冷却，从而能够使例如棱镜部的分子的排列状态等变化、使棱镜部的折射率不同-->于基部。另外，本专利技术所涉及的电光装置的制造方法，所述改性工序也可以是对所述基部照射激光的工序。在本专利技术中，通过向基部照射激光对基部赋予能量，使激光的照射部位熔融、冷却而使照射部位改性，而形成棱镜部。在此，通过使用激光，能够精度良好地对基部进行照射。另外，本专利技术所涉及的投影机，其特征在于，具备上述记载的电光装置。在本专利技术中，因本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置，其特征在于，具备电光层和聚光基板，所述聚光基板使入射于所述聚光基板的光向所述电光层入射，所述聚光基板具有：基部和沿着多个像素区域的各个像素区域的边界区域配置、具有不同于所述基部的折射率的棱镜部，所述基部 也包括所述棱镜部中所包括的元素之中的至少一种元素。

【技术特征摘要】
JP 2006-5-8 128950/20061.一种电光装置，其特征在于，具备电光层和聚光基板，所述聚光基板使入射于所述聚光基板的光向所述电光层入射，所述聚光基板具有：基部和沿着多个像素区域的各个像素区域的边界区域配置、具有不同于所述基部的折射率的棱镜部，所述基部也包括所述棱镜部中所包括的元素之中的至少一种元素。2.一种电光装置，其特征在于，具备电光层、聚光基板和多个像素电极，所述聚光基板使入射于所述聚光基板的光向所述电光层入射，所述聚光基板具有基部和具有不同于所述基部的折射率的棱镜部，所述棱镜部设置为，与所述多个像素电极的各个像素电极和所述多个像素电极之中的、与该各个像素电极相邻的像素电极之间的区域重合，所述基部也包括所述棱镜部中所包括的元素之中的至少一种元素。3.一种电光装置，其特征在于，包括：第一基体；第二基体；配置在所述第一基体和所述第二基体之间的电光层；和配置在所述第一基体和所述电光层之间的聚光基板，所述聚光基板包括基部和棱镜部，从所述第一基体入射于所述基部的被所述棱镜部所包围的区域的光，相对于所述聚光基板在所述电光层或者所述第二基体侧聚光，所述基部也包括所述棱镜部中所包括的元素之中的至少一种元素。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的电光装置，其特征在于，所述棱镜部是通过使所述基部的前体部件的一部分改性而形成的。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的电光装置，其特征在于，所述棱镜部和所述基部的组成相同。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的电光装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：上岛俊司，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]