本发明专利技术提供一种喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置，其能够抑制液体状或固体状的蒸镀材料到达基板的蒸镀面。喷嘴单元设有具有喷嘴部(212)的喷嘴部件(210)，和设置在比喷嘴部件(210)更靠坩埚的容器本体的内部侧的位置的中板部件(220)，中板部件(220)具有供蒸镀材料通过的多个贯通孔(223c)，并且，从作为利用蒸镀材料蒸镀的蒸镀面上的任意位置的第一点，到达作为多个贯通孔(223c)内的任意位置的第二点的所有线段，被构成喷嘴单元(200)的多个部件中的至少任意一个部件遮挡。中的至少任意一个部件遮挡。中的至少任意一个部件遮挡。
【技术实现步骤摘要】
喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置
[0001]本专利技术涉及用于进行真空蒸镀的喷嘴单元、坩埚、蒸发源及蒸镀装置。
技术介绍
[0002]在真空蒸镀中，有时会产生坩埚内的蒸镀材料因漰沸等而以液体状或固体状的状态飞出到坩埚外的被称为飞溅的现象。这样，若液体或固体状的蒸镀材料到达作为蒸镀对象的基板，则成膜中的膜(金属膜、有机膜以及密封膜等)发生损坏，成为缺陷产品。因此，作为其对策，已知有在坩埚的容器本体的开口部设置中板的技术。参照图8对现有例的坩埚进行说明。图8是现有例的坩埚的概略结构图。
[0003]现有例的坩埚500具备容器本体510和设置在容器本体510的开口部的中板520。中板520为了使蒸发的蒸镀材料通过而设置有多个贯通孔521。根据这样构成的坩埚500，即使发生飞溅，也能够通过利用中板520对液体状或固体状的蒸镀材料进行遮挡来抑制该蒸镀材料到达基板。
[0004]然而，在上述的坩埚500中，在发生了飞溅时，也存在液体状或固体状的蒸镀材料S直线地通过贯通孔521(图中，参照箭头X)而到达基板的情况。另外，为了尽可能减少这种现象，有时减少贯通孔521的数量，或者减小贯通孔521的开口面积。然而，在这种方法中，内部的压力容易变得比中板520高，并且通常中板520容易冷却，因此导致蒸镀材料容易附着至中板520。在该情况下，有时在附着于贯通孔521的附近的蒸镀材料中产生飞溅，并朝向基板排出(图中，参照箭头Y)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1日本特开2011-21223号公报
技术实现思路
[0008]本专利技术要解决的课题
[0009]本专利技术的目的在于提供一种能够抑制液体状或固体状的蒸镀材料到达基板的蒸镀面的喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置。
[0010]用于解决课题的手段
[0011]本专利技术为了解决上述课题而采用了以下的方案。
[0012]即，本专利技术的喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特
[0013]征在于，
[0014]具有喷嘴部件和中板部件，
[0015]所述喷嘴部件具有排出蒸镀材料的喷嘴部；
[0016]所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置，
[0017]所述中板部件具有供蒸镀材料通过的多个贯通孔，并且，
[0018]从作为利用所述蒸镀材料蒸镀的蒸镀面上的任意位置的第一点，到达作为所述多
个贯通孔内的任意位置的第二点的所有线段，被构成喷嘴单元的多个部件中的至少任意一个部件遮挡。
[0019]另外，本专利技术的其他的喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特征在于，
[0020]具有喷嘴部件和中板部件，
[0021]所述喷嘴部件具有设置有排出蒸镀材料的排出口的喷嘴部；
[0022]所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置，
[0023]所述中板部件具有供蒸镀材料通过的多个贯通孔，并且，
[0024]从作为所述排出口的前端面上的任意位置的第三点，到达作为所述多个贯通孔内的任意位置的第二点的所有线段，被构成喷嘴单元的多个部件中的至少任意一个部件遮挡。
[0025]另外，本专利技术的喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特征在于，
[0026]具有喷嘴部件和中板部件，
[0027]所述喷嘴部件具有排出蒸镀材料的喷嘴部；
[0028]所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置，
[0029]所述中板部件具有凸形状部，并且，
[0030]在所述凸形状部的侧壁设有供蒸镀材料通过的多个贯通孔。
[0031]专利技术的效果
[0032]如上所述，根据本专利技术，可以抑制液体状或固体状的蒸镀材料到达基板的蒸镀面。
附图说明
[0033]图1是蒸镀装置的概略结构图。
[0034]图2是本专利技术的实施例的蒸发源的概略结构图。
[0035]图3是本专利技术的实施例的管嘴单元的概略结构图。
[0036]图4是表示本专利技术的实施例的喷嘴部件的图。
[0037]图5是表示本专利技术的实施例的连接部件的图。
[0038]图6是表示本专利技术的实施例的中板部件的图。
[0039]图7是表示本专利技术的变形例的喷嘴部件的图。
[0040]图8是现有例的坩埚的概略结构图。
具体实施方式
[0041]以下，参照附图，基于实施例示例性地详细说明用于实施本专利技术的方案。但是，该实施例所记载的构成部件的尺寸、材质、形状、其相对配置等只要没有特别限定的记载，就不表示将本专利技术的范围仅限定于此。
[0042](实施例)
[0043]参照图1～图7对本专利技术的实施例的喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置进行说明。图1是蒸镀装置的概略结构图。图2是本专利技术的实施例的蒸发源的概略结构图，以截面表示蒸发源的概略结构。图3是本专利技术的实施例的喷嘴单元的概略结构图，以概略图表示了与基板之间的位置关系。图4是表示本专利技术的实施例的喷嘴部件的图。图4(a)是喷嘴部件的俯视图，图4(b)是图4(a)中的A-A剖视图。图5是表示本专利技术的实施例的连接部件的图。图5(a)
是连接部件的俯视图，图5(b)是该图5(a)中的B-B剖视图。图6是表示本专利技术的实施例的中板部件的图。图6(a)是中板部件的俯视图，图6(b)是图6(a)中的C-C剖视图。图7是表示本专利技术的变形例的喷嘴部件的图。图7(a)是喷嘴部件的俯视图，图7(b)是图7(a)中的AX-AX剖视图。
[0044]＜蒸镀装置＞
[0045]参照图1对蒸镀装置1进行简单说明。蒸镀装置1具备通过真空泵30而构成为内部成为接近真空的状态(减压氛围)的腔室20、和配置于腔室20的内部的蒸发源10。蒸发源10发挥如下作用：通过加热要被蒸镀到基板40上的物质的材料(蒸镀材料)而使该材料蒸发或升华。通过将由该蒸发源10蒸发或升华的物质附着到设置在腔室20内部的基板40的蒸镀面(蒸发源10侧的表面)上，在基板40上形成薄膜。
[0046]＜蒸发源＞
[0047]参照图2对本实施例的蒸发源10的整体结构进行说明。蒸发源10具备：收容蒸镀在基板40上的物质的材料的坩埚10X，和以包围坩埚10X的方式设置并加热坩埚10X的加热体10Y。另外，有时也具备以包围加热体10Y的方式设置的、隔断热的隔热结构体(反射器)。加热坩埚10X的方式可采用各种结构。例如，在采用通电加热方式的情况下，加热体10Y相当于通电的电线。另外，在采用高频感应加热方式的情况下，加热体10Y相当于加热线圈。
[0048]而且，本实施例的坩埚10X具备容器本体100和安装在容器本体100的开口部的喷嘴单元200。容器本体100由收容蒸镀材料M的有底圆筒部110和设置在有底圆筒部110的上端的凸缘部111构成。该容器本体100由氮化硼(PBN)等材料构成本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特征在于，具有喷嘴部件和中板部件，所述喷嘴部件具有排出蒸镀材料的喷嘴部；所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置，所述中板部件具有供蒸镀材料通过的多个贯通孔，并且，从作为利用所述蒸镀材料蒸镀的蒸镀面上的任意位置的第一点，到达作为所述多个贯通孔内的任意位置的第二点的所有线段，被构成喷嘴单元的多个部件中的至少任意一个部件遮挡。2.一种喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特征在于，具有喷嘴部件和中板部件，所述喷嘴部件具有设置有排出蒸镀材料的排出口的喷嘴部；所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置，所述中板部件具有供蒸镀材料通过的多个贯通孔，并且，从作为所述排出口的前端面上的任意位置的第三点，到达作为所述多个贯通孔内的任意位置的第二点的所有线段，被构成喷嘴单元的多个部件中的至少任意一个部件遮挡。3.如权利要求1或者2所述的喷嘴单元，其特征在于，所述中板部件具有凸形状部，并且，在所述凸形状部的侧壁上设置有所述多个贯通孔。4.如权利要求3所述的喷嘴单元，其特征在于，所述凸形状部向所述喷嘴部件侧突出。5.一种喷嘴单元，安装在坩埚的容器本体的开口部，其特征在于，具有喷嘴部件和中板部件，所述喷嘴部件具有排出蒸镀材料的喷嘴部；所述中板部件设置在比所述喷嘴部件更靠所述容器本体的内部侧的位置...
【专利技术属性】
技术研发人员：市原正浩，风间良秋，菅原由季，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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