新型含氟化合物及其制造方法和它的聚合物技术

技术编号:2679059 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了用作耐热性佳的光学树脂材料的新型聚合物、和用于制得该聚合物的新型单体等。CF#-[2]=CF(CF#-[2])#-[n]C(CF#-[3])ROCF=CF#-[2][条件是,式中的R表示氟原子或三氟甲基、n表示1~3的整数]所表示的含氟二烯烃和它的聚合物。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含有2个不饱和键的含氟二烯烃及其制造方法和它的聚合物。
技术介绍
作为含有2个碳-碳不饱和双键(以下称为不饱和键)的含氟二烯烃,已知的有CF2=CF(CF2)kOCF=CF2(条件是,k为1~3的整数)(特开平1-14843号公报)。该化合物可由非晶聚合物通过环化聚合而得到,该聚合物的弹性模量、屈服强度、断裂延伸度大、不易折断、抗冲击性良好。而且由于它透明度高,因此可用于光纤、光导波路等光学材料。但是,该聚合物在用作光学材料时,由于玻璃化转变温度(Tg)低,所以存在着在高温下长期使用时光学特性会变化的缺点,因此期待开发出Tg更高的原料。本专利技术的目的是,提供保持前述非晶聚合物所具有的机械物性质、同时具有高玻璃化转移温度、从而能作为耐热性佳的光学树脂材料的聚合物,以及制得这种聚合物的含有2个不饱和键的含氟二烯烃。
技术实现思路
本专利技术涉及式1所表示的含氟二烯烃及其制造方法和它的聚合物。式1所表示的含氟二烯烃。式2所表示的含氟二烯烃的制造方法,它是将式2所表示的含氟化合物的Z1和Z2脱卤化。含有式1所表示的含氟二烯烃聚合而成的单体单元的聚合物。CF2=CF(CF2)n本文档来自技高网...

【技术保护点】
式1所表示的含氟二烯烃, CF↓[2]=CF(CF↓[2])↓[n]C(CF↓[3])ROCF=CF↓[2]……式1 条件是,式中的R表示氟原子或三氟甲基,n表示1~3的整数。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:柏木王明尾川元佐藤正邦大春一也金子勇杉山德英立松伸
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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