光学三维测量用高精密组合光栅器件制造技术

一种光学三维测量用高精密组合光栅器件，主要包括投影仪标定光栅（２），全白光栅（３），格雷码光栅（４）和相移光栅（５），其特征在于：采用电子束扫描光刻的方法在膨胀率极小的光刻用石英玻璃片（１）上依序刻出１３幅光栅图，第１幅为投影仪标定光栅（２），第２幅为全白光栅（３），第３幅至第１０幅是８幅格雷码光栅（４），第１０幅至第１３幅是４幅相移光栅（５），其中相移光栅（５）中的第１幅光栅即为格雷码光栅（４）中的第８幅光栅，每幅光栅大小一样，条纹方向相互平行，依序排列于光刻用石英玻璃片（１）上。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光栅器件，特别是一种基于电子束扫描光刻方法制作的包括投影仪标定光栅、格雷码光栅和相移光栅的光学三维测量用高精密组合光栅器件，属于机械工程和光学测量

技术介绍
随着全球化市场竞争的日趋激烈，反求工程作为快速产品开发和产品创新设计的重要技术，在工业界得到普遍重视和广泛应用。物体三维测量是反求工程的首要步骤，测量结果的精度直接影响到反求的质量，具有十分重要的作用。光学三维测量在目前的应用非常广泛，已成为三维测量的重要途径。在光学三维测量设备中，需要至少一个光栅投影装置和一个图像采集装置(一般为CCD相机)。由于目前还没有什么投影技术可以完全满足光学三维测量的要求，因此如何恰当解决投影问题，是光学三维测量中的一个关键问题。目前，常用的投影系统主要有液晶投影仪，幻灯投影仪等。液晶投影仪通过编程的方法投影数字光栅，具有较好的对齐性，但不能投影具有连续光强分布的条纹，对比度低(约1∶20)，最大光强较低，景深较小。现有技术中，G.Wiora在2000年发表于Proceedings of SPIE-The International Society for Optica本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严隽琪，习俊通，姜涛，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：