转印性液晶层压体制造技术

技术编号:2673202 阅读:130 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
转印性液晶层压体,其特征在于至少由再剥离性基板/保护层/胆甾醇型液晶层构成,在再剥离性基板的保护层侧施行易粘合处理。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有以付予外观设计性改进效果或防伪效果为目的使用的胆甾醇型液晶层的转印性液晶层压体,更详细的是涉及通过使用施行了易粘合处理的再剥离性基板,使箔分离特性(foil cuttingcharacteristics)变良好的转印性液晶层压体。
技术介绍
近年,作为防伪项目或作为外观设计构件,开发了全息照相的利用和利用胆甾醇型液晶的选择反射性的方法等(参考例如特开昭63-51193号公报、特开平4-144796号公报)。这些防伪项目等,通常用转印用层压膜的形态预备、根据热压箔等的方法,从转印用层压膜转印到承印体上。作为转印方法所使用的热压箔等,通过在转印用层压膜上同时地加以温度及压力,使剥离转印部分转印于承印物上。在向承印物转印剥离转印部分之际,可寻求剥离转印部分和非剥离转印部分之间的箔分离特性。即当箔分离特性不好时,剥离转印部分不能按希望的形状转印。通常,转印性层压体在再剥离性基板上形成剥离转印层,但剥离转印时的剥离力根据该再剥离性基板的表面状态和剥离转印部分的性质决定。如果剥离力过小,那么剥离性变良好,但因为产生在剥离部分中伴随非剥离部分的剥离现象,所以箔分离特性变差。另外如果剥离力过大,那么剥离性恶化,不能进行充分的转印于承印体上,发生剥离转印层的一部分残存于再剥离基板侧的问题。本专利技术以提供在含有胆甾醇型液晶层的转印性液晶层压体中,作为箔分离特性良好,转印后的转印状态优良,成为收率降低的原因的毛刺(burrs)的发生少的转印性液晶层压体为目的。
技术实现思路
本专利技术人就上述课题进行了反复深入研究,完成了本专利技术。即本专利技术涉及转印性液晶层压体,其特征在于至少由再剥离性基板/保护层/胆甾醇型液晶层构成,在再剥离性基板的保护层侧施行易粘合处理。在本专利技术的转印性液晶层压体中,再剥离性基板和保护层之间的剥离力优选为1.95N/m~19.5N/m。另外,在本专利技术的转印性液晶层压体中,胆甾醇型液晶层优选其一部分具有衍射功能。以下,详细地说明本专利技术。本专利技术的转印性液晶层压体至少由再剥离性基板/保护层/胆甾醇型液晶层构成。在这里所谓再剥离性基板/保护层/胆甾醇型液晶层意味着按再剥离性基板、保护层、胆甾醇型液晶层的顺序层叠构成。所谓是本专利技术的构成要素的再剥离性基板,只要是和在保护层侧施行了易粘合处理的膜状物保护层可以剥离,不做特别限定,例如可以从聚乙烯、聚丙烯、聚(4-甲基-1-戊烯)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯等中适当选择使用。另外也可以在再剥离性基板的表面及/或保护层侧施行防静电处理等的表面处理。再剥离性基板的膜厚是10~100μm,优选12~38μm。在该范围外,因为基板的输送性恶化,层压体的制作变困难,再剥离性恶化,所以不优选。再剥离性基板的易粘合处理面和保护层间的剥离力是1.95N/m~19.5N/m,优选3.9N/m~11.7N/m。作为是本专利技术构成要素的保护层(有标记为保护层1),对于胆甾醇型液晶层的粘合性良好,只要是不损坏液晶层的光学特性的范围,不做特别限定。例如可以列举把保护层形成材料形成膜状物、片状物、薄膜状物。作为保护层形成材料,优选使用光固化型或电子束固化型的反应性粘合剂。作为相关的反应性粘合剂,可使用在具有光聚合性或电子束聚合性的预聚物及/或单体中必要时混入其它的单功能性单体、多功能性单体、各种聚合物、稳定剂、光聚合引发剂、增感剂等的产品。作为具有光聚合性或电子束聚合性的预聚物,具体地可举例聚酯丙烯酸酯、聚酯甲基丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚氨酯甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、环氧甲基丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯、多元醇甲基丙烯酸酯等。另外作为具有光聚合性或电子束聚合性的单体,可举例单官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、双官能丙烯酸酯、双官能甲基丙烯酸酯、三官能以上的多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。另外这些也可使用市售制品,可使用例如アロニツクス(丙烯酸系特殊单体、低聚物,东亚合成(株)制造)、ライトエステル(共荣社化学(株)制造)、ビスコ一ト(大阪有机化学工业(株)制造)等。另外,作为光聚合引发剂,可使用例如二苯甲酮衍生物类、苯乙酮衍生物类、苯偶姻衍生物类、噻吨酮类、米蚩酮、苄基衍生物类、三嗪衍生物类、酰基氧化膦类、偶氮化合物等。在本专利技术中可使用的光固化型或电子束固化型的反应性粘合剂的粘度,根据粘合剂的加工温度等可适当选择,不能一概而论,但通常在25℃是10~2000mPa·s,优选50~1000mPa·s,更优选100~500mPa·s。粘度比10mPa·s低时,难于得到所期望的厚度。另外比2000mPa·s高时,作业性恐有下降,不优选。当粘度在上述范围以外时,优选适当调整溶剂和单体比例使之成为所期望的粘度。另外,使用光固化型的反应性粘合剂时,作为该粘合剂的固化方法,可使用公知的固化手段,例如低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、氙灯等。另外曝光量因为根据所用反应性粘合剂的种类而不同,所以不能一概而论,但通常是50~2000mJ/cm2,优选100~1000mJ/cm2。另外,当使用电子束固化型的反应性粘合剂时,作为该粘合剂的固化方法,根据电子束的透过力和固化力适当选定,不能一概而论,但通常可以在加速电压是50~1000kV、优选100~500kV的条件下,照射固化。另外,在反应性粘合剂中添加紫外线吸收剂、表面活性剂等也可以。作为紫外线吸收剂,如果是能相容或分散于保护层形成材料中,没有特别限制,可使用例如二苯酮系化合物、水杨酸酯系化合物、苯并三唑系化合物、草酰苯胺系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物等的有机系紫外线吸收剂,氧化铯、氧化钛、氧化锌等的无机系紫外线吸收剂。其中尤其是紫外线吸收效率高的二苯酮系化合物适合使用。另外,紫外线吸收剂可一种单独或多种添加。保护层中的紫外线吸收剂的混合比例根据使用的保护层形成材料而不同,但通常是0.1~20重量%,优选0.5~10重量%。作为表面活性剂,如果是能相溶或分散于保护层形成材料中,没有特别限制,可使用例如全氟烷基系化合物、改性硅氧烷系化合物等的表面活性剂。其中尤其是全氟烷基系化合物适合使用。另外表面活性剂可一种单独或多种添加。保护层中的表面活性剂的混合比例根据使用的保护层形成材料而不同,但通常是0.1~10重量%,优选0.2~3重量%。保护层的厚度根据所使用的用途和其作业性等而不同,所以不能一概而论,但通常是0.5~50μm,优选1~10μm。另外,作为形成方法,可使用例如辊涂法、口模式涂敷法、刮条涂敷法、幕式涂敷法、挤出涂敷法、凹版印刷辊涂法、喷涂法、旋涂法等公知的方法形成。另外,上述保护层,在其一部分可以具有硬涂层性的区域。作为是本专利技术构成要素的胆甾醇型液晶层,胆甾醇取向如果是可固定化的,没有特别限制,作为高分子液晶,可使用各种主链型高分子液晶物质、侧链型高分子液晶物质、或它们的混合物。作为主链型高分子液晶物质,可列举聚酯系、聚酰胺系、聚碳酸酯系、聚酰亚胺系、聚氨酯系、聚苯并咪唑系、聚苯并噁唑系、聚苯并噻唑系、聚偶氮甲碱系、聚酯酰胺系、聚酯碳酸酯系、聚酯酰亚胺系等的高分子液晶物质、或者它们的混合物等。另外,作为侧链型高分子液晶物质,可列举在具有聚丙烯酸酯系、聚甲基丙烯酸酯系、聚乙烯本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:铃木慎一郎
申请(专利权)人:新日本石油株式会社
类型:发明
国别省市:

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