一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，它不但可以同时加工多个硅片样品，同时也便于区分，另外可以使硅片样品的表面与断面能够均匀镀上铂金。它是一个平台，在平台表面上开有一个以上的槽，所述的样品可以倾斜地静置在所述槽内。所述的槽的一侧与平台表面的角度为９０－１３５度，另一侧与平台表面的角度为１３５度。所述的平台分为底座和载物平台，所述的槽开在载物平台上。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及扫描电子显微镜硅片样品的制备，尤其涉及一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体。
技术介绍
扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope，以下简称SEM)是一种电子束成像仪器，传统的扫描电子显微镜具有以下功能(1)断口的形貌观察；(2)显微组织观察。目前扫描电子显微镜广泛应用于半导体电子产业及IC工业上，其主要应用于半导体芯片的断面和表面的形貌观察以及待测样品的成分确认等。成像原理SEM是通过高能电子入射固体样品表面，与样品的原子核和核外电子发生弹性或非弹性散射，激发样品产生各种物理信号(如背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等)，利用电子检测器，接收信号形成图像。如果样品表面是非导电材质，一部分电子将会在样品表面聚集，形成电荷积累，导致SEM的观察图像模糊不清，本行业中通常使用在样品表面镀上一层金属膜(常用Pt)的方法来防止或者减少这种现象的发生。镀铂金原理利用高能离子(Ar)撞击到靶材(Pt)上，靶材原子从表面逸出并淀积在硅片样品表面形成薄膜。通常的样品镀铂金过程是将一个个样品平放(表面朝上)在镀铂金机器中，而样品多了就不方便携带，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述载体是一个平台，在平台表面上开有一个以上的槽，所述的样品倾斜地静置在所述槽内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：唐涌耀，裘莺，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]