一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液及制备方法，所述蚀刻液的原料按重量百分比计算，包括无机酸磷酸55‑75％、硝酸2.5‑5％、醋酸12‑28％，表面活性剂1‑8％，复配型金属抑制剂0.1‑5％，保护剂0.1‑5％和余量的纯水；所述复配型金属抑制剂为钼酸盐、硝酸盐、巯基苯并噻唑、月桂酸和硫醇苯并噻唑中的至少两种物质的复配混合物；各组分重量百分数之和为100％。本发明专利技术通加入复配型金属抑制剂使蚀刻速度具有可控性，有效抑制抗蚀保护层的劣化，得到表面平坦光滑的金属膜，具有重要的应用价值。

A Mo al Mo and ITO / Ag / ITO compatible etching solution and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液及制备方法
本专利技术涉及蚀刻液
，具体涉及一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液及制备方法。
技术介绍
近年来，柔性液晶显示产品趋于大型化，高画质，功能化发展，而现有LED/OLED已然渐渐不能满足行业发展的需求，随之而生的AMOLED液晶显示技术以其完美画质、卓越性能和创新性越来越为人所关注。AMOLED基板上设置有大量的薄层，由于铝或铝合金与作为基底膜的玻璃基板之间的粘附性不好，且容易被外界环境中的酸，碱和热所腐蚀，因此需要在铝或铝合金的上部和下部使用钼或钼合金的膜层作为叠层膜，如钼铝钼(Mo/Al/Mo)结构；并使用蚀刻液将其叠层膜一起蚀刻出所需要的图形。ITO是IndiumTinOxides的缩写，作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上用作透明导电薄膜，通常与具有高电导、高反射率的金属银复合，可以制备出性能优异的ITO/Ag/ITO薄膜，通过调节膜层的厚度得到具有高电导率、高透反射率的多层薄膜，多层薄膜用作透反射式液晶显示器的电极材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液的原料按重量百分比计算，包括无机酸磷酸55-75％、硝酸2.5-5％、醋酸12-28％，表面活性剂1-8％，复配型金属抑制剂0.1-5％，保护剂0.1-5％和余量的纯水；所述复配型金属抑制剂为钼酸盐、硝酸盐、巯基苯并噻唑、月桂酸和硫醇苯并噻唑中的至少两种物质的复配混合物；各组分重量百分数之和为100％。/n

【技术特征摘要】
1.一种钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液的原料按重量百分比计算，包括无机酸磷酸55-75％、硝酸2.5-5％、醋酸12-28％，表面活性剂1-8％，复配型金属抑制剂0.1-5％，保护剂0.1-5％和余量的纯水；所述复配型金属抑制剂为钼酸盐、硝酸盐、巯基苯并噻唑、月桂酸和硫醇苯并噻唑中的至少两种物质的复配混合物；各组分重量百分数之和为100％。


2.如权利要求1所述的钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述复配型金属抑制剂摩尔比为钼酸盐：硝酸盐：巯基苯并噻唑：月桂酸：硫醇苯并噻唑为1:0.5-2:1-5:0.5-2:1-5。


3.如权利要求2所述的钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液PH值为1.5-2。


4.如权利要求3所述的钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂为磷酸酯类表面活性剂和/或氧化胺类表面活性剂。


5.如权利要求4所述的钼铝钼和ITO/Ag/ITO兼容蚀刻液，其特征在于，所述磷酸酯类表面活性剂为单月桂基磷酸酯、月桂醇醚磷酸酯、单十二烷基磷酸酯钾、月桂醇醚磷酸酯钾、聚氧乙烯单烷基磷酸酯、聚氧乙烯双烷基磷酸酯中的一种或多种；所述氧化胺类表面活性剂为月桂酰胺丙基氧化胺、椰油酰胺丙基氧化胺、十二烷基二甲基氧化胺、油酸酰胺丙基二甲基氧化胺中的一种或多种。

【专利技术属性】
技术研发人员：戈士勇，
申请(专利权)人：江阴润玛电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32