含钛层用蚀刻液以及含肽层的蚀刻方法技术

本发明专利技术提供含钛层用蚀刻液和含钛层蚀刻方法，所述蚀刻液是蚀刻形成在硅基板上或硅酸类玻璃基板上的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氧氮化物中的１种或２种或２种以上为主要成分的含钛层的蚀刻液，是含有氟硅酸的含钛层用蚀刻液，能够以快的蚀刻速度且不会侵蚀基板地选择性地进行蚀刻。所述蚀刻方法是使用该蚀刻液蚀刻硅基板或硅酸类玻璃基板上的含钛层的蚀刻方法。氟硅酸是氢氟酸和硅或氧化硅反应生成的物质，对于硅或硅酸类玻璃是非活性的，而对于钛、钛氧化物、钛氮化物或钛氧氮化物具有充分的蚀刻性能，对于硅基板上或硅酸类玻璃基板上含钛层的蚀刻具有充分的选择性。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含钛层用蚀刻液以及使用该蚀刻液的含钛层的蚀刻方法，详细地说，本专利技术涉及在半导体器件、液晶显示装置、IC卡等的制造中，在硅晶片或玻璃基板上设置金属布线材料时，适合于为了提高基板和金属布线材料的密合性而形成的作为衬底层的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氮氧化物中的1种或2种或2种以上为主要成分的含钛层的蚀刻的含钛层用蚀刻液以及使用该含钛层用蚀刻液的含钛层的蚀刻方法。
技术介绍
钛是容易钝化的金属，即使只是放置在空气中，表面上也会形成氧化被膜。已知，例如，在将金属放到钛衬底膜上形成外壳(case)、将钛膜暴露在空气中时和不暴露在空气中的场合，在蚀刻时，与上部金属的密合性出现差异，钛膜被空气的氧化能力氧化形成牢固的氧化被膜。这样的钛膜通常不会溶解在氧化性的强酸中。因此，已知，要蚀刻钛或钛氧化物，需采用热浓磷酸、热浓硫酸、热浓盐酸作为基体(base)的强酸类等苛刻条件，或者使用以氢氟酸/硝酸混合液、氢氟酸/过氧水(過水)混合液、氟化铵/氢氟酸混合液等氢氟酸为基体的混合液。但是，在蚀刻形成在硅基板上或玻璃基板上的钛层或钛氧化物层时，如果使用氢氟酸类的蚀刻液，蚀刻液会侵蚀硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含钛层用蚀刻液，该蚀刻液是，蚀刻形成在硅基板上或硅酸类玻璃基板上的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氧氮化物中的１种或２种或２种以上为主要成分的含钛层的蚀刻液，其特征在于，该蚀刻液含有氟硅酸。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川诚，河瀬康弘，齐藤范之，
申请(专利权)人：三菱化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]