一种磁控溅射设备中的镀膜结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射设备中的镀膜结构，包括：一腔板，其内开设有一半密封U型腔，半密封U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两第一隔板之间构成一独立的镀膜空间，镀膜空间的一侧设置有一安装板，其上开设有两第一固定孔，腔板上开设的有两与第一固定孔相配合的第二固定孔，第一固定孔与第二固定孔之间设置有镀膜靶材；一门板，其上可转动设置有一镀膜辊，镀膜辊的周向上套设有一待镀膜基板，门板上还固定设置有一半圆型架，半圆型架与所述镀膜辊间隙配合，半圆型架上均布设置有多个与第一隔板相配合的第二隔板；采用本实用新型专利技术的镀膜结构，能够提高各镀膜空间内的气密性，防止窜气，减小摩擦阻力，提高镀膜质量与效果。

A coating structure in magnetron sputtering equipment

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射设备中的镀膜结构
本技术涉及一种镀膜结构。更具体地说，本技术涉及一种磁控溅射设备中的镀膜结构。
技术介绍
目前，磁控溅射镀膜设备中，主要就是镀膜结构对待镀膜基材溅射镀膜，镀膜开始前，镀膜结构中的门板需要向腔板移动，使腔板与门板中的隔板相互配合，在腔板的U型腔中形成相对密闭的镀膜空间。而现在设置在门板上的第二隔板向设置在腔板上的第一隔板靠近时，为了使两者之间的密闭效果更好，通常第二隔板紧接触在第一隔板上滑动，造成第一隔板与第二隔板之间相互摩擦，损坏设备，另外，虽然两者为紧接触滑动，但第一隔板与第二隔板之间还是不可避免的存在缝隙，导致工艺气体在U型腔内的各镀膜空间之间相互流通，发生窜气的现象，使镀膜层厚度和膜结构与工艺需求不一致，影响膜层质量。
技术实现思路
本技术的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。为了实现根据本技术的这些目的和其它优点，提供了一种磁控溅射设备中的镀膜结构，包括：一腔板，其内开设有一半封闭U型腔，所述半封闭U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁控溅射设备中的镀膜结构，其特征在于，包括：/n一腔板，其内开设有一半封闭U型腔，所述半封闭U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两所述第一隔板之间构成一独立的镀膜空间，所述镀膜空间的一侧设置有一安装板，其上开设有两第一固定孔，所述镀膜空间的另一侧、在所述半封闭U型腔的侧板上开设有两与所述第一固定孔相配合的第二固定孔，所述第一固定孔与所述第二固定孔之间设置有镀膜靶材，所述镀膜空间的底部还设置有一通气排孔，以在所述镀膜空间内通入氩气，所述镀膜空间内还设置有一出气口，以在出气口处通过真空泵使镀膜空间形成真空状态；/n一门板，其上可转动设置有一镀膜辊，所述镀膜辊的周向上套设有一待镀膜基板，所述门...

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射设备中的镀膜结构，其特征在于，包括：
一腔板，其内开设有一半封闭U型腔，所述半封闭U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两所述第一隔板之间构成一独立的镀膜空间，所述镀膜空间的一侧设置有一安装板，其上开设有两第一固定孔，所述镀膜空间的另一侧、在所述半封闭U型腔的侧板上开设有两与所述第一固定孔相配合的第二固定孔，所述第一固定孔与所述第二固定孔之间设置有镀膜靶材，所述镀膜空间的底部还设置有一通气排孔，以在所述镀膜空间内通入氩气，所述镀膜空间内还设置有一出气口，以在出气口处通过真空泵使镀膜空间形成真空状态；
一门板，其上可转动设置有一镀膜辊，所述镀膜辊的周向上套设有一待镀膜基板，所述门板上还固定设置有一半圆型架，其与所述镀膜辊间隙配合，所述半圆型架的中部还开设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏熙，陈培专，李仁龙，魏昌华，高翔，
申请(专利权)人：绵阳金能移动能源有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51