下载一种磁控溅射设备中的镀膜结构的技术资料

文档序号:24230917

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本实用新型公开了一种磁控溅射设备中的镀膜结构,包括:一腔板,其内开设有一半密封U型腔,半密封U型腔内均布设置有多个第一隔板,两两第一隔板之间构成一独立的镀膜空间,镀膜空间的一侧设置有一安装板,其上开设有两第一固定孔,腔板上开设的有两与第一固...
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