一种镀膜用磁控溅射靶组装结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，包括：磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒，所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封，所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔，所述去离子水存储盒中设置有数根贯穿去离子水存储盒和固定座而延伸至真空室壁板外侧的水管，所述去离子水存储盒底部设置有与水管对应的第一通孔并焊接密封固定，所述水管上套设有位于真空室壁板和固定座之间的圆台密封套，所述水管的外端设置有T形螺母进行紧固。通过上述方式，本实用新型专利技术所述的镀膜用磁控溅射靶组装结构，避免去离子水存储盒漏水及真空室漏气问题，而且安装和拆卸比较便利。

An assembly structure of magnetron sputtering target for coating

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜用磁控溅射靶组装结构
本技术涉及镀膜产品生产
，特别是涉及一种镀膜用磁控溅射靶组装结构。
技术介绍
玻璃的镀膜工艺通常是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变玻璃的光学性能，在手机屏幕玻璃领域应用广泛，目前比较先进的玻璃镀膜工艺包括有磁控贱射镀膜。磁控溅射镀膜的工作原理如下：电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子，新电子飞向基片，Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。随着玻璃镀膜的进行，靶材的温度会升高而影响了使用的效果。为了进行靶材的冷却，可以在靶材的背面安装冷却装置，但是冷却装置需要考虑进出水结构，给整体的组装和密封带来了困难，需要改进。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，简化结构，提升密封效果。为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：提供一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，包括：磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒，所述固定座位于真空室壁板内侧，所述去离子水存储盒设置在固定座中，所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封，所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔，所述靶材焊接在溅射靶基板上，所述去离子水存储盒中设置有数根贯穿去离子水存储盒和固定座而延伸至真空室壁板外侧的水管，所述去离子水存储盒底部设置有与水管对应的第一通孔并焊接密封固定，所述水管上套设有位于真空室壁板和固定座之间的圆台密封套，所述水管的外端设置有T形螺母进行紧固。在本技术一个较佳实施例中，所述固定座中设置有与去离子水存储盒对应的嵌入槽。在本技术一个较佳实施例中，所述水管内端焊接有从磁体背面延伸至磁体边缘正面的弹性限位钩板，所述磁体边缘内凹设置有与弹性限位钩板宽度对应的卡槽。在本技术一个较佳实施例中，所述水管外圆上设置有位于去离子水存储盒内的水孔。在本技术一个较佳实施例中，所述水管的数量为4个或者8个，且矩形阵列分布。在本技术一个较佳实施例中，所述固定座底部内凹设置有与圆台密封套前端对应的锥形孔，所述真空室壁板内侧面设置有与圆台密封套后端对应的第一沉孔。在本技术一个较佳实施例中，所述真空室壁板外侧面内凹设置有与T形螺母对应的第二沉孔，所述第一沉孔与第二沉孔相同心且设置有第二通孔进行连通，所述第二沉孔中设置有绝缘密封圈，所述圆台密封套为绝缘圆台密封套。在本技术一个较佳实施例中，所述水管外圆的外端上设置有一段与T形螺母对应的外螺纹。本技术的有益效果是：本技术指出的一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，通过水管和T形螺母的配合，实现对固定座和去离子水存储盒的拉固，并利用圆台密封套的挤压变形，确保了水管与真空室壁板内侧面的密封效果，避免去离子水存储盒漏水及真空室漏气问题，安装和拆卸比较便利。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本技术一种镀膜用磁控溅射靶组装结构一较佳实施例的结构示意图。具体实施方式下面将对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1，本技术实施例包括：如图1所示的镀膜用磁控溅射靶组装结构，包括：磁体3、真空室壁板6、固定座4、溅射靶基板2、靶材1和去离子水存储盒12，所述固定座4位于真空室壁板6内侧，并保持一定的间隙。所述去离子水存储盒12设置在固定座4中，所述固定座4中设置有与去离子水存储盒12对应的嵌入槽，组装便利。所述溅射靶基板2覆盖在去离子水存储盒12的开口上并焊接密封，防止开口处漏水，溅射靶基板2采用铜板，导热效果好，通过去离子水存储盒12中的去离子水带走溅射靶基板2的热量，所述靶材1焊接在溅射靶基板2上，通过溅射靶基板2实现靶材1的降温。所述去离子水存储盒12中设置有数根贯穿去离子水存储盒12和固定座4而延伸至真空室壁板6外侧的水管8，所述去离子水存储盒12底部设置有与水管8对应的第一通孔并焊接密封固定，避免漏水问题。所述水管8上套设有位于真空室壁板6和固定座4之间的圆台密封套5，所述固定座4底部内凹设置有与圆台密封套5前端对应的锥形孔，所述真空室壁板6内侧面设置有与圆台密封套5后端对应的第一沉孔，实现圆台密封套5两端的定位，通过圆台密封套5保持固定座4与真空室壁板6的间隙，所述圆台密封套5为绝缘圆台密封套，使用安全性高。所述水管8的外端设置有T形螺母10进行紧固，实现对去离子水存储盒12和溅射靶基板2的拉固，溅射靶基板2宽度大于固定座4，通过溅射靶基板2实现对固定座4的拉固，使得固定座4对圆台密封套5挤压变形，确保了水管8与真空室壁板6内侧面的密封效果，避免真空室漏气问题。所述水管8外圆的外端上设置有一段与T形螺母10对应的外螺纹，方便T形螺母10的拆装。所述真空室壁板6外侧面内凹设置有与T形螺母10对应的第二沉孔，所述第一沉孔与第二沉孔相同心且设置有第二通孔进行连通，所述第二沉孔中设置有绝缘密封圈7，通过T形螺母10对绝缘密封圈7的压固，进一步提升了第二通孔的密封效果，避免漏气问题。所述磁体3设置在去离子水存储盒12中并与溅射靶基板2平行间隔，所述水管8内端焊接有从磁体3背面延伸至磁体3边缘正面的弹性限位钩板11，弹性限位钩板11为一定宽度的铜条，大体弯折呈J形，具有一定的弹性，所述磁体3边缘内凹设置有与弹性限位钩板11宽度对应的卡槽，实现对磁体3的限位，安装便利。所述水管8外圆上设置有位于去离子水存储盒12内的水孔9，由于水管8内端被弹性限位钩板11封堵，水流只能从水孔9进出，避免水流对磁体3的冲击，提升了磁体3的结构稳定性。所述水管8的数量为4个或者8个，且矩形阵列分布，一半为进水管，另一半为出水管，与去离子水循环冷却系统相连接，实现去离子水的循环供应。综上所述，本技术指出的一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，特别设计了水管和圆台密封套，与T形螺母进行拉固，密封性好，组装和拆卸比较便利，方便进行产品的换型。以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，其特征在于，包括：磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒，所述固定座位于真空室壁板内侧，所述去离子水存储盒设置在固定座中，所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封，所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔，所述靶材焊接在溅射靶基板上，所述去离子水存储盒中设置有数根贯穿去离子水存储盒和固定座而延伸至真空室壁板外侧的水管，所述去离子水存储盒底部设置有与水管对应的第一通孔并焊接密封固定，所述水管上套设有位于真空室壁板和固定座之间的圆台密封套，所述水管的外端设置有T形螺母进行紧固。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜用磁控溅射靶组装结构，其特征在于，包括：磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒，所述固定座位于真空室壁板内侧，所述去离子水存储盒设置在固定座中，所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封，所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔，所述靶材焊接在溅射靶基板上，所述去离子水存储盒中设置有数根贯穿去离子水存储盒和固定座而延伸至真空室壁板外侧的水管，所述去离子水存储盒底部设置有与水管对应的第一通孔并焊接密封固定，所述水管上套设有位于真空室壁板和固定座之间的圆台密封套，所述水管的外端设置有T形螺母进行紧固。


2.根据权利要求1所述的镀膜用磁控溅射靶组装结构，其特征在于，所述固定座中设置有与去离子水存储盒对应的嵌入槽。


3.根据权利要求1所述的镀膜用磁控溅射靶组装结构，其特征在于，所述水管内端焊接有从磁体背面延伸至磁体边缘正面的弹性限位钩板，所述磁体边缘内凹设置有与弹性限位钩板宽...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆玲，
申请(专利权)人：张家港市和瑞创先智能光学有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32