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本实用新型公开了一种镀膜用磁控溅射靶组装结构,包括:磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒,所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封,所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔,所述去离子水存储盒中...该专利属于张家港市和瑞创先智能光学有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过张家港市和瑞创先智能光学有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种镀膜用磁控溅射靶组装结构,包括:磁体、真空室壁板、固定座、溅射靶基板、靶材和去离子水存储盒,所述溅射靶基板覆盖在去离子水存储盒的开口上并焊接密封,所述磁体设置在去离子水存储盒中并与溅射靶基板平行间隔,所述去离子水存储盒中...