【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】芯片封装结构及其制造方法
本专利技术涉及芯片封装结构及其制造方法,更具体而言涉及具有顺次堆叠的多个芯片的芯片封装结构及其制造方法。
技术介绍
在半导体制作工艺当中,封装工艺能够对诸如一个或多个芯片的半导体部件进行包封,以形成半导体封装结构,从而对半导体部件予以保护。当今,行业做出了极大努力来开发具有优良特性的封装结构。例如,在3D半导体器件(例如,3D存储器件)当中,封装结构被开发为具有诸如低成本、小尺寸、短设计时间、强保护和/或优选电特性(例如,短电连接距离)的特点。然而,常规封装结构无法同时满足上述优良特性。
技术实现思路
本专利技术提供了具有顺次堆叠的多个芯片的芯片封装结构及其制造方法。在实施例中,芯片封装结构包括第一芯片堆叠和重新分布层。第一芯片堆叠包括多个第一芯片、第一模制层和至少一个第一垂直导电元件。所述多个第一芯片是顺次堆叠的,其中,所述多个第一芯片中的每者包括至少一个第一键合焊盘,并且第一键合焊盘未被所述多个第一芯片覆盖。第一模制层包封所述多个第一芯片。所述至少一个第一垂直导电元件穿过第一模制层,其中,所述至少一个第一垂直导电元件被设置到第一键合焊盘的至少其中之一上并与之电连接。重新分布层设置在第一芯片堆叠上并且电连接至所述至少一个第一垂直导电元件。在另一个实施例中,提供了芯片封装结构的制造方法。所述制造方法包括:在载体板上堆叠多个第一芯片,其中,所述多个第一芯片中的每者具有至少一个第一键合焊盘,并且所述第一键合焊盘未被所述多个第一芯片覆盖;在第一键合焊盘的至少其中 ...
【技术保护点】
1.一种芯片封装结构,包括:/n第一芯片堆叠,包括:/n顺次堆叠的多个第一芯片,其中,所述多个第一芯片中的每者包括至少一个第一键合焊盘,并且所述第一键合焊盘未被所述多个第一芯片覆盖;/n包封所述多个第一芯片的第一模制层;以及/n穿过所述第一模制层的至少一个第一垂直导电元件,其中,所述至少一个第一垂直导电元件被设置到所述第一键合焊盘的至少其中之一上并与之电连接;以及/n设置在所述第一芯片堆叠上并且电连接至所述至少一个第一垂直导电元件的重新分布层。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种芯片封装结构,包括:
第一芯片堆叠,包括:
顺次堆叠的多个第一芯片,其中,所述多个第一芯片中的每者包括至少一个第一键合焊盘,并且所述第一键合焊盘未被所述多个第一芯片覆盖;
包封所述多个第一芯片的第一模制层;以及
穿过所述第一模制层的至少一个第一垂直导电元件,其中,所述至少一个第一垂直导电元件被设置到所述第一键合焊盘的至少其中之一上并与之电连接;以及
设置在所述第一芯片堆叠上并且电连接至所述至少一个第一垂直导电元件的重新分布层。
2.根据权利要求1所述的芯片封装结构,还包括设置在所述第一芯片堆叠和所述重新分布层之间的第二芯片堆叠,其中,所述第二芯片堆叠包括:
顺次堆叠的多个第二芯片,其中,所述多个第二芯片中的每者包括至少一个第二键合焊盘,并且所述第二键合焊盘未被所述多个第二芯片覆盖;
包封所述多个第二芯片的第二模制层;以及
穿过所述第二模制层的至少一个第二垂直导电元件,其中,所述至少一个第二垂直导电元件被设置到所述第二键合焊盘的至少其中之一上并与之电连接,并且所述至少一个第二垂直导电元件电连接至所述重新分布层。
3.根据权利要求2所述的芯片封装结构,还包括第三模制层和至少一个第三垂直导电元件,其中,所述第三模制层包封所述第一芯片堆叠和所述第二芯片堆叠,所述至少一个第三垂直导电元件穿过所述第三模制层,所述至少一个第三垂直导电元件被设置在所述至少一个第一垂直导电元件上并与之电连接,并且所述至少一个第三垂直导电元件电连接至所述重新分布层。
4.根据权利要求3所述的芯片封装结构,其中,所述至少一个第三垂直导电元件的延伸方向基本上平行于所述第一芯片堆叠的法线方向。
5.根据权利要求3所述的芯片封装结构,其中,所述第一芯片堆叠还包括设置在所述至少一个第一垂直导电元件和所述至少一个第三垂直导电元件之间的子重新分布层。
6.根据权利要求2所述的芯片封装结构,其中,所述第二芯片堆叠被按照阶梯形式堆叠到所述第一芯片堆叠上。
7.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其中,所述至少一个第一垂直导电元件的延伸方向基本上平行于所述第一芯片堆叠的法线方向。
8.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其中,所述多个第一芯片是按照阶梯的形式堆叠的。
9.根据权利要求1所述的芯片封装结构,还包括设置在所述第一芯片堆叠的与所述重新分布层相对的一侧上的保护层。
10.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其中,所述第一芯片堆叠还包括电连接于所述第一键合焊盘中的分别属于所述多个第一芯片中的两个第一芯片的两个第一键合焊盘之间的连接导线。
11.一种芯片封装结构的制造方法,包括:
在载体板上堆叠多个第一芯片,其中,所述多个第一芯片中的每者具有至少一个第一键合焊盘,并且所述第一键合焊盘未被所述多个第一芯片覆盖;
在所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾心如,陈鹏,周厚德,
申请(专利权)人:长江存储科技有限责任公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。