一种基于SCR结构的新型ESD保护器件制造技术

本实用新型专利技术公开一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，包含P+sub，P+sub上方设有P‑外延层，P+sub表面到内部有STI隔离层，STI隔离层之间设有N型掺杂层、N+掺杂层和P+掺杂层，P+掺杂层一侧直接与金属层I相接，N型掺杂层位于P+掺杂层另一侧，N+掺杂层位于金属层I下方，N型掺杂层一侧设有P型掺杂层，P型掺杂层下方有P+型掺杂层，N+层位于金属层II两侧，P+层位于金属层II下方，P型掺杂层位于N+层与N型层之间的表面处，P+型掺杂层位于N+层与N型层之间的体内处，P+型掺杂层的区域形状为填充整个P型掺杂层、N+层与N型层之间或填充部分，或多段填充，金属层I和金属层II之间有介质层。有利于保护ESD器件不被较大的电流、较高电压所损伤，避免了器件的表面集中效应。

A new ESD protection device based on SCR structure

【技术实现步骤摘要】
一种基于SCR结构的新型ESD保护器件
本技术属于集成电路静电放电(ESD-ElectrostaticDischarge)保护领域，涉及一种可用于ESD保护器件的新型SCR结构。
技术介绍
静电放电(ESD)现象广泛存在于日常环境中，它是引起集成电路产品损伤甚至失效的重要原因之一。集成电路产品在其生产、制造、装配以及工作过程中极易受到ESD的影响，造成产品内部损伤、可靠性降低。因此，研究高性能、高可靠性的ESD防护器件对提高集成电路的成品率和可靠性具有至关重要的作用。根据静电放电产生的原因及放电方式的不同，静电放电通常分为以下四种模式：HBM(人体放电模式)，MM(机器放电模式)，CDM(组件充电放电模式)，FIM(电场感应模式)。其中，HBM和MM模式是工业界最为关心的两种最常见的静电放电模式。当电路产生静电放电现象时，大量电荷瞬间流入芯片的引脚，此时电路内产生的电流脉冲可达几安培，其电压脉冲高达几伏，特殊情况高达上千伏。电流脉冲可能造成器件部分区域过热烧毁，而高压脉冲容易造成器件内部的氧化层破坏性损伤。因此，为了防止芯片受到ESD的损伤，就需要对芯片的每个引脚都要进行有效的ESD防护。通常，ESD保护器件的设计需要考虑以下三个方面的问题：一是ESD保护器件要能够泄放大电流；二是ESD保护器件具有特定的触发电压及低保持电压。三是ESD防护器件需要超低的寄生电容。通常用作ESD保护的器件有二极管、GGNMOS(栅接地的NMOS)、BJT(三极管)、SCR(可控硅)等。但在某些特定应用中，需要ESD保护器件具有特定的触发电压，电流泄放能力较强，同时还需要降低ESD器件的寄生电容。本技术提供了一种新的技术方案，可以提供高泄放电流、低触发电压、低电容的ESD器件，用于高速接口。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，解决了现有的ESD器件受较大的电流和较高的电压会造成芯片内部电路的损伤和器件击穿的问题。本技术的技术方案为：一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，包含P+sub，P+sub上方设有P-外延层，P+sub表面到内部设有STI隔离层，STI隔离层一侧设有N型掺杂层、N+掺杂层和P+掺杂层，P+掺杂层一侧直接与金属层I相接，N型掺杂层位于P+掺杂层另一侧，不与金属层I相接，N+掺杂层位于金属层I下方，与金属层I直接相接，N型掺杂层一侧设有P型掺杂层，P型掺杂层下方设有P+型掺杂层，P型掺杂层和P+型掺杂层一侧设有N+掺杂层和P+层，N+层位于金属层II两侧，P+层位于金属层II下方，两者均与金属层II短接，P型掺杂层位于N+层与N型层之间的表面处，P+型掺杂层位于N+层与N型层之间的体内处，P+型掺杂层的区域形状为填充整个P型掺杂层、N+层与N型层之间或填充部分，或多段填充，金属层I和金属层II之间设有介质层。进一步地，N+掺杂层、N+掺杂层和N型掺杂层比P+层深，N+掺杂层、P+掺杂层和N型掺杂层均具有高深宽比，大于2，P+掺杂层，N+掺杂层短接引出的器件端口作为器件阳极，N+掺杂层与P+层短接引出的器件端口作为器件阴极。进一步地，介质层为氧化隔离介质。进一步地，金属层I和金属层II为在深入体内的深槽中形成，金属层I及金属层II接不同电位。进一步地，STI隔离层位于P-外延层内侧。进一步地，N+掺杂层位于P+掺杂层之间，P+掺杂层位于N型掺杂层之间。进一步地，P+层位于N+掺杂层之间。本技术的有益之处：本技术的有利于保护ESD器件不会被较大的电流、较高电压所损伤，避免了器件的表面集中效应。针对现有常规横向存在的技术缺陷,本技术实例设计了一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，既充分利用SCR结构强泄流能力的特点，又利用了改进型SCR低触发电压的优势，通过修改SCR的体内P+区域来调节触发电压，保持了改进型SCR结构低触发电压的特点，又能调节SCR的维持电压，可以避免闩锁效应的发生。可以实现低触发电压、低导通电阻、强鲁棒性等ESD保护性能。可用于提高片上IC单双向ESD保护的可靠性。附图说明图1为本技术实例利用的SCR结构剖面示意图；图2是本技术实例中SCR的变形结构剖面示意图；图3是本技术实例中和其他器件组合应用连接方式示意图。其中：101、P+sub，102、P-外延层，103、STI隔离层，104、N型掺杂层，105、N+掺杂层，106、P+掺杂层，107、N+掺杂层，108、P+层，109、P+型掺杂层，110、P型掺杂层，111、介质层，112、金属层I，113、金属层II，401、金属层a，402、金属层b，403、金属层c，404、金属层d。具体实施方式为了加深对本技术的理解，下面结合附图详细描述本技术的具体实施方式，该实施例仅用于解释本技术，并不构成对本技术的保护范围的限定。如图1-2所示，一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，包含P+sub101，P+sub101上方设有P-外延层102，P+sub101表面到内部设有STI隔离层103，STI隔离层103一侧设有N型掺杂层104、N+掺杂层105和P+掺杂层106，P+掺杂层106一侧直接与金属层I112相接，N型掺杂层104位于P+掺杂层106另一侧，不与金属层I112相接，N+掺杂层105位于金属层I112下方，与金属层I112直接相接，N型掺杂层104一侧设有P型掺杂层110，P型掺杂层110下方设有P+型掺杂层109，P型掺杂层110和P+型掺杂层109一侧设有N+掺杂层107和P+层108，N+层107位于金属层II113两侧，P+层108位于金属层II113下方，两者均与金属层II113短接，P型掺杂层110位于N+层107与N型层104之间的表面处，P+型掺杂层109位于N+层107与N型层104之间的体内处，P+型掺杂层109的区域形状为填充整个P型掺杂层110、N+层107与N型层104之间或填充部分，或多段填充，金属层I112和金属层II113之间设有介质层111。N+掺杂层107、N+掺杂层105和N型掺杂层104比P+层108深，N+掺杂层107、P+掺杂层106和N型掺杂层104均具有高深宽比，大于2，P+掺杂层106，N+掺杂层105短接引出的器件端口作为器件阳极，N+掺杂层107与P+层108短接引出的器件端口作为器件阴极。介质层111为氧化隔离介质。金属层I112和金属层II113为在深入体内的深槽中形成，金属层I112及金属层II113接不同电位。STI隔离层103位于P-外延层102内侧。N+掺杂层105位于P+掺杂层106之间，P+掺杂层106位于N型掺杂层104之间。P+层108位于N+掺杂层107之间。如图3所示，本技术采用的SCR结构和另外两个二极管集成在一起。其中二极管的P+区域、N+区域工艺及接触孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，包含P+sub ，其特征在于：所述P+sub 上方设有P-外延层，所述P+sub 表面到内部设有STI隔离层，所述STI隔离层一侧设有N型掺杂层、N+掺杂层和P+掺杂层，所述P+掺杂层位于金属层I两侧，N型掺杂层位于P+掺杂层另一侧，不与金属层I相接，N+掺杂层位于金属层I下方，与金属层I直接相接，所述N型掺杂层一侧设有P型掺杂层，所述P型掺杂层下方设有P+型掺杂层，所述P型掺杂层和P+型掺杂层一侧设有N+掺杂层和P+层，所述N+层位于金属层II两侧，P+层位于金属层II下方，两者均与金属层II短接，所述P型掺杂层位于N+层与N型层之间的表面处，P+型掺杂层位于N+层与N型层之间的体内处，所述P+型掺杂层的区域形状为填充整个P型掺杂层、N+层与N型层之间或填充部分，或多段填充，所述金属层I和金属层II之间设有介质层。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，包含P+sub，其特征在于：所述P+sub上方设有P-外延层，所述P+sub表面到内部设有STI隔离层，所述STI隔离层一侧设有N型掺杂层、N+掺杂层和P+掺杂层，所述P+掺杂层位于金属层I两侧，N型掺杂层位于P+掺杂层另一侧，不与金属层I相接，N+掺杂层位于金属层I下方，与金属层I直接相接，所述N型掺杂层一侧设有P型掺杂层，所述P型掺杂层下方设有P+型掺杂层，所述P型掺杂层和P+型掺杂层一侧设有N+掺杂层和P+层，所述N+层位于金属层II两侧，P+层位于金属层II下方，两者均与金属层II短接，所述P型掺杂层位于N+层与N型层之间的表面处，P+型掺杂层位于N+层与N型层之间的体内处，所述P+型掺杂层的区域形状为填充整个P型掺杂层、N+层与N型层之间或填充部分，或多段填充，所述金属层I和金属层II之间设有介质层。


2.根据权利要求1所述的一种基于SCR结构的新型ESD保护器件，其特征在于：所述N+掺杂层、N+掺杂层和N型掺杂层比P+层深...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨珏琳，
申请(专利权)人：成都吉莱芯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51