激光退火装置及激光退火方法制造方法及图纸

本发明专利技术的一方案的激光退火装置具备：光源，其产生激光；复眼透镜，其用于使激光的强度分布均匀；投影掩模，其遮蔽通过了复眼透镜的激光；及投影透镜，其由通过了投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，为了抑制干涉条纹通过投影掩模而产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，该干涉条纹是激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光退火装置及激光退火方法
本专利技术涉及通过激光对基板进行退火的激光退火装置及其方法。
技术介绍
以往，作为对硅基板的非晶硅进行多晶硅化的技术，已知有激光退火技术。激光退火通常是向硅膜照射激光而以低温加热，进行多晶硅化的技术，作为液晶面板等基板的生成技术而周知。激光退火存在直线束方式、微透镜阵列方式。专利文献1公开了这样的激光退火技术的一例。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-182348号公报
技术实现思路
专利技术概要专利技术要解决的课题然而，在激光退火装置中，需要配设复眼透镜(Fly-eyelens)等均匀化机构，使从光源照射的激光的强度分布尽可能均匀。而且，为了限定同时执行退火的部位而有时进行使用了投影掩模的遮蔽。然而，通过了构成复眼透镜的各透镜的激光相互干涉，有时会产生干涉条纹。并且，如果由复眼透镜产生的干涉条纹的周期(也称为间距)与在投影掩模中使光通过的开口的配置的周期不同，则在该干涉条纹产生的激光通过投影掩模时，存在干涉条纹的强度峰值照射到投影掩模的遮光部的情况，在该情况下有时会产生向非晶硅照射的能量的周期性的空间性的变动(莫尔条纹)。莫尔条纹的产生成为面板上的TFT特性的周期性的变动，在最终产品即显示器中表现作为显示不均，因此减少莫尔条纹的产生的情况至关重要。因此，本专利技术鉴于上述问题而提出，目的在于提供一种在使用了复眼透镜和投影掩模的激光退火装置中，能够减少莫尔条纹的产生的激光退火装置及其方法。用于解决课题的方案为了解决上述课题，本专利技术的一方案的激光退火装置具备：光源，其产生激光；复眼透镜，其用于使激光的强度分布均匀；投影掩模，其遮蔽通过了复眼透镜的激光；及投影透镜，其由通过了投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，为了抑制干涉条纹通过投影掩模而产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，该干涉条纹是激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹。另外，在上述激光退火装置中，可以是，投影透镜是将对投影掩模的至少一个开口进行投影的微透镜一维地或二维地排列的微透镜阵列。另外，可以是，复眼透镜是具有矩形形状的外形的结构，相对于矩形形状的外形的一条边，使复眼透镜的排列方向预先倾斜规定角度地形成。另外，本专利技术的一方案的激光退火方法是基于激光退火装置的激光退火方法，其特征在于，包括：从产生激光的光源照射激光的照射步骤；由复眼透镜使激光的强度分布均匀的均匀化步骤；由投影掩模遮蔽通过了复眼透镜的激光的遮蔽步骤；及由投影透镜将由投影掩模进行了遮蔽的激光形成为向基板的规定的范围照射的激光束的形成步骤，激光退火装置为了抑制干涉条纹通过投影掩模而产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，该干涉条纹是激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹。专利技术效果本专利技术的一方案的激光退火装置即便使用复眼透镜及将激光的一部分遮挡的投影掩模，也能够抑制对象中产生莫尔条纹。附图说明图1的(a)是激光退火装置的俯视图，图1的(b)是激光退火装置的侧视图。图2的(a)是复眼透镜的俯视图的一例，图2的(b)是复眼透镜的长度方向的侧视图的一例，图2的(c)是复眼透镜的宽度方向的侧视图的一例，图2的(d)是复眼透镜的立体图的一例。图3的(a)是使复眼透镜不旋转的状态的一例，图3的(b)是表示在激光退火装置配设的复眼透镜的状态的一例的图。图4是表示激光退火装置的动作的流程图。图5的(a)是表示不使复眼透镜旋转的情况下的累计莫尔条纹的分布例的曲线图。图5的(b)是表示使复眼透镜旋转的情况下的累计莫尔条纹的分布例的曲线图。图6是表示复眼透镜的一例的图。图7是用于说明莫尔条纹产生的原理的概略图。图8是表示取代微透镜阵列而使用了单一的投影透镜的情况的构成例的图。具体实施方式关于本专利技术的激光退火装置，参照附图，进行详细说明。<实施方式><结构>图1是表示激光退火装置100的结构的图，(a)是从上表面观察激光退火装置100的俯视图，(b)是从侧面观察激光退火装置100的侧视图。激光退火装置100具备：产生激光的光源101、用于使激光的强度分布均匀的复眼透镜112、将通过了复眼透镜的激光遮蔽的投影掩模116、以及由通过了投影掩模116的激光形成向退火的对象即基板的规定的范围照射的激光束的微透镜阵列(投影透镜)117，为了抑制激光通过复眼透镜而产生的干涉条纹因通过投影掩模而能产生的莫尔条纹，使复眼透镜的排列方向相对于投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度。而且，在图1中，激光退火装置100具备对于从光源101照射的激光进行聚光的柱面透镜111、及对于通过了复眼透镜112的激光进行聚光的聚光透镜113。光源101是用于照射激光退火用的激光201的光源，例如，是激发出UV脉冲激光的激光振荡器。柱面透镜111对于从光源101照射的激光201进行聚光。复眼透镜112使从柱面透镜111照射的激光202的强度分布均匀。图2是表示复眼透镜112的构成例的图。如图2(a)所示，复眼透镜112通过将多个透镜配设成格子状而成。在图2(a)中，1个矩形表示1个透镜。需要说明的是，多个透镜的各个透镜未必非要为矩形，可以为任意的形状。搭载于激光退火装置100的复眼透镜112如图3(b)所示以相对于投影掩模图案旋转了规定的角度θ的状态搭载。即，复眼透镜112的排列方向成为相对于投影掩模图案倾斜了规定角度的状态。复眼透镜112使以凸面成为光源侧的方式构成的复眼透镜与以凸面成为光源的相反侧的方式构成的复眼透镜相对而使用。需要说明的是，在图2、图7中，将复眼透镜112表示为二组的透镜，但是其可以成型为一体。聚光透镜113对于通过复眼透镜112而强度分布大致变得均匀的激光203进行聚光。反射镜115是将通过了聚光透镜113的激光204朝向照射对象的面板200反射的镜体。投影掩模116将由反射镜115反射的激光204遮蔽。投影掩模116设置有开口，使得对于在激光退火中执行退火的对象，向应该照射激光204的部位照射该激光204。投影掩模116例如可以在能够遮挡激光204的规定的基板的必要的部位设置开口，使激光204透过，也可以在透明基板中在不使激光204透过的部位配设铬等对激光进行遮挡或反射的金属。在投影掩模116中，开口以规定的掩模图案排列。微透镜阵列117成为排列有多个微透镜的结构。微透镜阵列117形成对通过了投影掩模116的激光进行聚光的激光束，向照射对象的面板200照射。作为照射对象的面板200是形成(覆膜)有非晶硅膜的基板，载置在台300上。面板200可以由玻璃原料形成，也可以由树脂原料形成。而且，面板200并不局限于上述的原料，可以由任意的原料形成。台300是用于载置成为激光退本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光退火装置，其特征在于，具备：/n光源，其产生激光；/n复眼透镜，其用于使所述激光的强度分布均匀；/n投影掩模，其遮蔽通过了所述复眼透镜的激光；及/n投影透镜，其将通过了所述投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，/n为了抑制干涉条纹通过所述投影掩模而能产生的莫尔条纹，使所述复眼透镜的排列方向相对于所述投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，所述干涉条纹是所述激光通过所述复眼透镜而产生的干涉条纹。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170831 JP 2017-1669011.一种激光退火装置，其特征在于，具备：
光源，其产生激光；
复眼透镜，其用于使所述激光的强度分布均匀；
投影掩模，其遮蔽通过了所述复眼透镜的激光；及
投影透镜，其将通过了所述投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，
为了抑制干涉条纹通过所述投影掩模而能产生的莫尔条纹，使所述复眼透镜的排列方向相对于所述投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，所述干涉条纹是所述激光通过所述复眼透镜而产生的干涉条纹。


2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，
所述投影透镜是将对所述投影掩模的至少一个开口进行投影的微透镜一维地或二维地排列的微透镜阵列。


3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP