二维材料电学性能调控系统及其调控方法技术方案

本申请提供一种二维材料电学性能调控系统及其调控方法。所述二维材料电学性能调控系统包括支撑平台、控制装置和光源装置。所述支撑平台用于放置表面覆盖有二维材料层的基底，所述基底表面还覆盖有与所述二维材料层层叠设置的绝缘层和光学调制层。所述绝缘层设于所述二维材料层和所述光学调制层之间。所述光源装置与所述控制装置电连接，所述控制装置用于控制所述光源装置发光，以照射所述光学调制层，从而实现对所述二维材料层载流子的调控。

Two dimensional control system of electrical properties of materials and its control method

【技术实现步骤摘要】
二维材料电学性能调控系统及其调控方法
本申请属于半导体材料与器件
，尤其涉及一种二维材料电学性能调控系统及其调控方法。
技术介绍
二维材料作为新型纳米薄膜材料，具有重要的科学意义和使用价值。二维材料的厚度在100纳米以下，常规的电学性能调控如电学门电压调控法存在问题。在进行电学性能调控过程中，门电压做在二维材料上表面时需要制备绝缘层，绝缘层的制备方法通常是电子束蒸镀或者等离子体辅助沉积，这两种方法都会损坏二维材料的性能。如果将门电压做在二维材料背面则会出现工艺复杂等问题，而且使用电学门电压调控法增加了一路测试线路，增加至少一套测试设备和软件，测试过程复杂。
技术实现思路
基于以上，有必要针对电学性能调控过程中二维材料的性能损坏以及工艺复杂的问题，提供一种二维材料电学性能调控系统及其调控方法。本申请提供一种二维材料电学性能调控系统，包括支撑平台、控制装置和光源装置。所述支撑平台用于放置表面覆盖有二维材料层的基底，所述基底表面还覆盖有与所述二维材料层层叠设置的绝缘层和光学调制层。所述绝缘层设于所述二维材料层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二维材料电学性能调控系统(100)，包括：/n支撑平台(10)，用于放置表面覆盖有二维材料层(110)的基底，所述基底表面还覆盖有与所述二维材料层层叠设置的绝缘层(111)和光学调制层(112)，所述绝缘层(111)设于所述二维材料层(110)和所述光学调制层(112)之间；/n控制装置(20)；/n光源装置(30)，与所述控制装置(20)电连接，所述控制装置(20)用于控制所述光源装置(30)发光，以照射所述光学调制层(112)，从而实现对所述二维材料层(110)中载流子的调控。/n

【技术特征摘要】
1.一种二维材料电学性能调控系统(100)，包括：
支撑平台(10)，用于放置表面覆盖有二维材料层(110)的基底，所述基底表面还覆盖有与所述二维材料层层叠设置的绝缘层(111)和光学调制层(112)，所述绝缘层(111)设于所述二维材料层(110)和所述光学调制层(112)之间；
控制装置(20)；
光源装置(30)，与所述控制装置(20)电连接，所述控制装置(20)用于控制所述光源装置(30)发光，以照射所述光学调制层(112)，从而实现对所述二维材料层(110)中载流子的调控。


2.如权利要求1所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述光源装置(30)包括：
三维移动光学支架(31)；
发光器件(32)，所述发光器件(32)固定于所述三维移动光学支架(31)。


3.如权利要求2所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述发光器件(32)发出的光的中心波长低于250nm。


4.如权利要求2所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述发光器件(32)为发光二极管。


5.如权利要求1所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，还包括电源装置(40)，所述电源装置(40)与所述控制装置(20)和所述光源装置(30)电连接。


6.一种二维材料电学性能调控系统的调控方法，包括：
S100，提供一基底，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雪深，钟青，李劲劲，钟源，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11